公开(公告)号：KR1020090043825A

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：KR1020070109600

申请日：2007-10-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차상열 ,  양경모 ,  양승용 ,  김포천

IPC: F25D17/04 ,  F25D17/00 ,  F25D11/00

CPC classification number: F25D17/045 ,  F25D29/00 ,  F25D2400/16

Abstract: 본 발명은 냉장고에 관한 것으로서, 제1저장실 및 제2저장실을 형성하는 본체캐비닛과, 상기 제1 및 제2저장실에 공급되는 냉기를 생성하는 증발기를 갖는 냉장고에 있어서, 상기 증발기에서 생성된 냉기가 상기 제1저장실로 토출되는 제1냉기토출구를 갖는 덕트부재와; 상기 제1저장실이 냉동실로 사용되도록 상기 제1냉기토출구를 소정의 개방도 이상으로 개방하는 냉동위치와, 상기 제1저장실이 냉장실로 사용되도록 상기 제1냉기토출구를 상기 개방도 미만으로 개방하는 냉장위치 사이를 이동하는 토출구조절부와; 상기 토출구조절부의 위치를 감지하는 감지부와; 상기 제1저장실의 설정온도를 조절하는 온도조절부와; 상기 감지부에서 상기 토출구조절부의 냉장위치가 감지되면, 상기 온도조절부의 설정온도와 관계없이 상기 제1저장실의 설정온도를 설정된 냉장기준온도로 셋팅하는 제어부를 포함한다. 이에 의하여, 냉동실 및 냉장실 절환기능의 오작동을 근본적으로 차단할 수 있다.
냉장고, 냉동실, 절환, 설정온도

公开(公告)号：KR1020060087206A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：KR1020050008132

申请日：2005-01-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최태호 ,  김국진 ,  박문호 ,  이래경 ,  양경모 ,  한훈

IPC: G06T15/80 ,  G06T19/00

CPC classification number: G06T15/005 ,  G06T15/80 ,  G06T19/00 ,  G06T19/20 ,  G06T2219/20

Abstract: 본 발명은 그래픽 사용자 인터페이스를 이용하여 3차원 그래픽 오브젝트를 생성하는 장치 및 방법에 관한 것으로서, 사용자 인터페이스를 통하여 3차원 그래픽 오브젝트에 적용되는 쉐이더 머티리얼의 파라미터 처리 함수가 포함된 실시간 라이브러리에 따라 쉐이더 머티리얼이 적용된 3차원 오브젝트를 생성할 수 있게 하는 그래픽 사용자 인터페이스를 이용하여 3차원 그래픽 오브젝트를 생성하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 그래픽 사용자 인터페이스를 이용하여 3차원 그래픽 오브젝트를 생성하는 장치는 선택된 쉐이더에 대해 작성된 소정의 쉐이더 정보 파일을 참조하여 쉐이더 인스턴스를 생성하는 쉐이더 인스턴스부와, 상기 생성된 쉐이더 인스턴스의 파라미터 값을 수신하는 사용자 인터페이스부와, 상기 수신된 파라미터 값에 따른 쉐이더 머티리얼을 생성하는 쉐이더 머티리얼부 및 상기 생성된 그래픽 사용자 인터페이스를 이용하여 3차원 그래픽 오브젝트를 생성하는 렌더링부를 포함한다.
쉐이더, 파라미터, 사용자 인터페이스, 핵심 라이브러리

公开(公告)号：KR1019980014339A

公开(公告)日：1998-05-25

申请号：KR1019960033274

申请日：1996-08-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양경모 ,  이상길

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 반도체 공정에서 미세선폭(CD: Critical Dimension) 관리에 사용되는 주사전자현미경(SEM: Scanning Electron Microscopy)의 정밀도를 관리하기 위한 미세선폭 관리시료에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 공정에서 사용되는 주사전자현미경 관리용 미세선폭 관리시료는 웨이퍼의 반도체기판 위에 절연물질층을 형성한 후, 상기 절연물질층에 발생된 전하가 빠져나갈 수 있도록 콘택(contact)을 형성하고, 상기 웨이퍼 전면에 전기도체막을 형성하고, 다시 상기 전기도체막 위에 특정 물질로 일정 크기 일정 패턴을 형성하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
따라서, 미세선폭 관리시료에 의한 주사전자현미경의 관리를 더욱 정밀하고 높은 수준에서 이루어지게 하며, 결과적으로 주사전자현미경을 사용하는 공정의 질적 향상을 이루게 되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020140141815A

公开(公告)日：2014-12-11

申请号：KR1020130062370

申请日：2013-05-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양경모 ,  김기웅 ,  서광수 ,  이성재 ,  전용우 ,  최원희 ,  윤병욱

IPC: B29C43/20 ,  B29C35/08 ,  B29C43/40

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C35/0805 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/021 ,  B29C43/18 ,  B29C45/1679 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2037/0035 ,  B29C2037/0042 ,  G03F7/20 ,  H04M1/0283 ,  H05K5/03 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/1352

Abstract: 본 개시에 따른 전자기기용 케이스 표면 처리 방법은 상측 금형의 일면에 제1 패턴을 가공하고, 하측 금형의 일면에 제2 패턴을 가공하는 과정과, 원단의 전면과, 상기 원단의 배면에 대면하는 하측 금형 각각에 UV 몰딩액을 조사하는 과정과, 상측 금형 및 하측 금형 사이에 상기 원단을 위치시키고, 이를 압착시키는 과정과, 상기 UV 몰딩액을 경화시키는 과정 및 상기 원단을 상기 상측 및 하측 금형으로부터 분리시켜, 상기 원단의 배면에 인쇄층을 형성하는 과정을 포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的用于电子设备外壳的表面处理方法包括：在上模的一侧处理第一图案并在下模的一侧处理第二图案的处理; 分别在材料的前面照射UV成型液体和面向后方的下模具的方法; 将材料定位在上模和下模之间并将其压缩的过程; 使UV成型液硬化的工序; 以及通过从上模具和下模具分离材料在材料的后部形成印刷层的工艺。

公开(公告)号：KR2020090004036U

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：KR2020070017365

申请日：2007-10-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김지해 ,  에듀어드쿠르기 ,  모진용 ,  김동준 ,  곽지호 ,  양경모 ,  이수영 ,  송정환 ,  황준

IPC: F24F5/00 ,  F24F1/00 ,  F16K1/04 ,  F24F1/32

Abstract: 본 고안은 공기조화기의 실내기와 실외기를 연결하는 알루미늄 재질의 서비스 밸브와 연결배관 사이에 연질의 재료로 형성된 누설 방지 부재를 설치하여, 누설을 방지하고, 실링 및 결합력에 의한 알루미늄의 변형을 방지할 수 있는 공기조화기를 제공하기 위한 것으로서, 금속 서비스 밸브와, 금속 서비스 밸브에 연결되는 금속 배관과, 금속 서비스 밸브와 금속 배관을 연결하는 플레어 너트를 포함하는 공기조화기에 있어서, 금속 서비스 밸브와 금속 배관 사이에 금속 서비스 밸브와 금속 배관 보다 연질의 재료에 의해 형성되는 누설 방지 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020050080334A

公开(公告)日：2005-08-12

申请号：KR1020040008409

申请日：2004-02-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양경모 ,  이래경 ,  이상찬 ,  한훈

IPC: G06T15/04

CPC classification number: G06T15/04 ,  G06T15/005 ,  G06T17/30 ,  G06T2207/20004

Abstract: 본 발명은 멀티 텍스쳐링 방법 및 이를 기록한 기록매체에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 그래픽 하드웨어 리소스 제한이 있는 환경에서 재질 텍스쳐로 사용하는 이미지를 하나로 합성하여 리소스를 효율적으로 사용하게 하는 멀티 텍스쳐링 방법 및 이를 기록한 기록매체에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 멀티 텍스쳐링 방법은 합성할 텍스쳐맵들의 프로젝터들로부터 통합맵 프로젝터를 결정하는 단계; 상기 합성할 텍스쳐맵들을 토대로 상기 통합맵의 이미지크기와 텍셀 재질을 결정하는 단계; 및 상기 통합맵이 상기 통합맵의 프로젝터를 통해 오브젝트에 맵핑하는 단계를 포함한다

公开(公告)号：KR100239748B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019970002027

申请日：1997-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양경모

IPC: H01J37/28

Abstract: 본 발명은 시료의 전하축적 정도를 확인하여 측정정밀도를 향상시키고 집적회로 제조공정의 신뢰성을 향상시키도록 한 전자현미경의 전하축적 정도 측정방법에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 전자현미경에서 발생하는 시료의 전하축적 정도를 평가하여 측정 정밀도를 향상시키도록 한 전자현미경의 전하축적 정도 측정방법을 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 전자현미경의 전하축적 정도 측정방법은 시료의 중앙 일부영역에만 고배율로 전자를 주사한 후 시료의 전영역에 전자를 저배율로 주사하고 두 영역의 밝기 차이를 비교하여 전하축적의 정도를 정확하게 평가하는 것을 특징으로 한다.