公开(公告)号：KR100456395B1

公开(公告)日：2004-11-10

申请号：KR1020020017728

申请日：2002-04-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오재석 ,  채희선 ,  이상훈 ,  윤상진 ,  전희식

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A method for monitoring process data of each chamber in a multi-chamber equipment is provided to be capable of running the whole multi-chamber equipment except only the process failure generated chamber for improving the productivity and yield of semiconductor wafers, though process failure is generated. CONSTITUTION: The first chamber information of each slot is stored in database when carrying out a main step. After completing a predetermined process in the main step, the second chamber information formed while carrying out the main step in a chamber equipment(10) is compared to the first chamber information of each slot stored in the database by using the slot number of one wafer as a reference, wherein the wafer is completed with a sampling process of a measure step. Then, the exact chamber related with the measured wafer is checked out of the chamber equipment(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于监测多室设备中的每个室的过程数据的方法，以便能够运行整个多室设备，除了仅过程故障产生室以提高半导体晶片的生产率和产量，尽管过程失败 生成。 组成：当执行主要步骤时，每个槽的第一个腔室信息被存储在数据库中。 在完成主要步骤中的预定处理之后，在腔室设备（10）中执行主要步骤时形成的第二腔室信息与存储在数据库中的每个槽的第一腔室信息通过使用一个晶片的槽口号 作为参考，其中晶片用测量步骤的采样过程完成。 然后，将与测量的晶片相关的确切室从室设备（10）中检出。

公开(公告)号：KR1019990028085A

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019970050632

申请日：1997-09-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전희식

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 첫째, 각 설비의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 설비에서 발생되는 관련 데이터 값을 소정의 통일된 데이터 명으로 일치·등록시킨 후, 이러한 통일된 데이터 명의 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 데이터 분석작업을 이룰 수 있으며, 둘째, 계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 계측 데이터의 특성에 따른 서로 다른 계측 데이터 명을 구별·등록시킨 후, 이러한 구별 데이터 명의 계측 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스� �를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 계측 데이터 분석작업을 이룰 수 있다.

公开(公告)号：KR1020160132748A

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020150128511

申请日：2015-09-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최형탁 ,  황인철 ,  김덕호 ,  이정섭 ,  전희식

IPC: G10L15/28 ,  G06F3/16

Abstract: 전자장치가개시된다. 전자장치는대화주제별로카테고리화된도메인정보를저장하는저장부, 사용자발화음성에대응되는시스템응답을출력하는스피커부및 사용자발화음성에대응되는도메인을검출하고, 사용자발화음성과검출된도메인간의신뢰도(confidence)에기초하여검출된도메인및 이전도메인중 사용자발화음성을처리할도메인을결정하여시스템응답을생성하는프로세서를포함한다. 이에따라, 다양한사용자발화음성을인식하고복수의단말장치의기능에기초하여시스템응답을생성할수 있게된다.

公开(公告)号：KR1020150017036A

公开(公告)日：2015-02-16

申请号：KR1020130092617

申请日：2013-08-05

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  서울대학교산학협력단

Inventor： 박해상 ,  이영학 ,  김정희 ,  전희식 ,  박은정 ,  조성준 ,  박주성 ,  양지원

IPC: H01L21/00

CPC classification number: G05B23/0221 ,  G05B2219/37224 ,  Y02P90/14

Abstract: 반도체 공정 설비에서 신호의 변동 패턴을 검출하여 센서 데이터를 최적의 세그먼트로 분할하는 방법과 그 시스템을 제안한다.
반도체 설비의 센서 데이터로부터 의미있는 세그먼트(Segment)를 분할하여 반도체 설비의 초 단위 또는 그 이하의 센서 데이터를 자동으로 요약함으로써 웨이퍼 가공상의 설비 문제를 정확히 검출하거나 이미 발생한 불량 웨이퍼의 설비 연관성을 파악하는데 유용하게 활용될 수 있는 최적의 세그먼트로 센서 데이터를 분할할 수 있다. 이에 따라 노이즈가 작고 계산 부하를 줄일 수 있게 된다.

Abstract translation: 本发明提出了一种通过检测半导体处理设备中的信号的变化模式及其系统来将传感器数据划分为最佳段的方法。 通过从半导体设备的传感器数据中划分出明显的部分，自动地总结半导体设备的第二单元或更低的传感器数据。 传感器数据可以被划分为可用于检测晶片处理的设备问题或已经产生的坏晶片的排气设备相关性的最佳区段。 因此，噪音小，可以减少计算负荷。 半导体设备的传感器数据分割系统包括传感器，第一分段单元，连续性评估单元，第二分段单元和分割确定单元。

公开(公告)号：KR1020030078993A

公开(公告)日：2003-10-10

申请号：KR1020020017728

申请日：2002-04-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오재석 ,  채희선 ,  이상훈 ,  윤상진 ,  전희식

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A method for monitoring process data of each chamber in a multi-chamber equipment is provided to be capable of running the whole multi-chamber equipment except only the process failure generated chamber for improving the productivity and yield of semiconductor wafers, though process failure is generated. CONSTITUTION: The first chamber information of each slot is stored in database when carrying out a main step. After completing a predetermined process in the main step, the second chamber information formed while carrying out the main step in a chamber equipment(10) is compared to the first chamber information of each slot stored in the database by using the slot number of one wafer as a reference, wherein the wafer is completed with a sampling process of a measure step. Then, the exact chamber related with the measured wafer is checked out of the chamber equipment(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于监测多室设备中每个室的过程数据的方法，以便能够运行整个多室设备，除了过程故障产生室以提高半导体晶片的生产率和产量，尽管过程故障 被生成。 构成：执行主要步骤时，每个插槽的第一个房间信息都存储在数据库中。 在完成主步骤中的预定处理之后，将在室设备（10）中执行主步骤时形成的第二室信息与存储在数据库中的每个槽的第一室信息进行比较，通过使用一个晶片的槽号 作为参考，其中通过测量步骤的采样过程完成晶片。 然后，从室设备（10）中检查与测量的晶片相关的精确室。

公开(公告)号：KR100292028B1

公开(公告)日：2001-06-01

申请号：KR1019970066130

申请日：1997-12-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전희식 ,  원종환

IPC: G05B19/04

Abstract: PURPOSE: A real time control method of semiconductor equipment is provided to be capable of previously preventing badness from being generated by judging in real time whether a corresponding process is carried out under an optimum process circumstance, as soon as a measurement process is completed. CONSTITUTION: There is judged whether measured data is included in an optimum measure data range(S10). The measure data is a value of a process-completed product. If the measured data is within the optimum measure data range, there is judged whether the measured data satisfies a main rule(S20). If so, an equipment performing a unit process is worked normally(S40). If the measured data does not satisfy the main rule, the working of the equipment and the progress of the product are stopped at the same time(S50-S60). If the measured data is not included in the optimum measure data range, the progress of the process-completed product is stopped(S30). There is judged whether the measured data satisfies the main rule(S70). If the reported measured data satisfies the main rule, the equipment that the unit process is performed is worked normally(S80). If the reported measured data does not satisfy the main rule, the equipment that the unit process is performed is stopped(S90-S100).

公开(公告)号：KR1019980076614A

公开(公告)日：1998-11-16

申请号：KR1019970013394

申请日：1997-04-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전희식

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 반도체 제조용 설비의 공정조건 관리방법에 관한 것으로, 본 발명은 반도체 제조용 설비의 공정조건 관리방법에 있어서, 소정의 설비 콘트롤러를 통해 상기 설비를 특정받은 후에 입력되는 작업내용이 상기 설비의 공정조건 셋팅작업인가의 여부를 판단하는 제 1 단계와; 상기 판단결과, 상기 작업내용이 상기 설비의 공정조건 셋팅작업이면, 소정의 설비리스트 테이블을 디스플레이하여 당해 공정조건 데이터를 입력받은 후, 소정의 SECS 셋팅 테이블을 써치하여 상기 설비에 따른 제 1 SECS 메시지를 지정하고, 상기 제 1 SECS 메시지를 통해 상기 공정조건 데이터를 상기 설비로 다운로드하는 제 2 단계와; 상기 판단결과, 상기 작업내용이 상기 설비의 공정조건 셋팅작업이 아니면, 소정의 SECS 디스플레이 테이블을 써치하여 상기 설비에 따른 제 2 SECS 메시지를 지정한 후, 상기 제 2 SECS 메시지를 상기 설비로 다운로드하여 상기 설비의 가동상황 데이터를 업로드 받고, 상기 설비리스트 테이블을 수정하여 디스플레이하는 제 3 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에서는 설비의 공정조건을 하나의 설비 콘트롤러를 통해 일괄적으로 관리할 수 있다.