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公开(公告)号：KR1020080102109A
公开(公告)日：2008-11-24
申请号：KR1020070048930
申请日：2007-05-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01B3/30
CPC classification number: H01L51/052 , H01L51/0036 , H01L51/0545
Abstract: An organic insulator composition is provided to be used in manufacture of a flexible display device by thinning it by a low temperature wet processing due to low temperature curing of 130 deg.C or less and excellent chemical resistance. An organic insulator composition comprises an -OH-containing oligomer or -OH-containing polymer and a crosslinking aid. The -OH-containing polymer is selected in a group consisting of polyvinyl alcohol, polyvinylphenol, poly (hydroxyphenyl maleimide-co-ydroxystyrene), polyhydroxy imide, poly (vinyl alcohol-co-ethylene) and their copolymers.
Abstract translation: 提供了一种有机绝缘体组合物，用于制造柔性显示装置，其通过由于低温固化为130℃或更低而具有优异的耐化学性而通过低温湿法加工而使其变薄。 有机绝缘体组合物包含含-OH低聚物或含-OH聚合物和交联助剂。 含-OH聚合物选自聚乙烯醇，聚乙烯基苯酚，聚（羟基苯基马来酰亚胺 - 共 - 甲基苯乙烯），聚羟基酰亚胺，聚（乙烯醇 - 共 - 乙烯）及其共聚物。
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公开(公告)号：KR100801821B1
公开(公告)日：2008-02-11
申请号：KR1020070070998
申请日：2007-07-16
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 탄소나노튜브의 표면에 라디칼 중합에 참여할 수 있는 이중결합을 갖는 작용기를 도입하고, 상기 탄소나노튜브를 광개시제와 함께 유기용매에 분산시켜 기재 위에 코팅한 후 포토마스크를 통해 UV에 노광시켜 노광부에서 탄소나노튜브의 라디칼 중합을 유발한 다음 비노광부를 현상액으로 제거함으로써 탄소나노튜브의 네가티브 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, 본 발명의 방법에 의하면 기존의 포토리소그래피 방식으로 다양한 재질의 기재 상에 탄소나노튜브 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.
탄소나노튜브, 포토리소그래피, 패턴, 이중결합, 라디칼 중합-
公开(公告)号：KR100801820B1
公开(公告)日：2008-02-11
申请号：KR1020020072017
申请日：2002-11-19
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H05K3/02 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , G03F7/027 , H01L51/0048 , H01L51/0052 , H05K2201/026 , H05K2201/0323 , H05K2203/0514 , Y10S977/89
Abstract: 본 발명은 탄소나노튜브의 표면에 라디칼 중합에 참여할 수 있는 이중결합을 갖는 작용기를 도입하고, 상기 탄소나노튜브를 광개시제와 함께 유기용매에 분산시켜 기재 위에 코팅한 후 포토마스크를 통해 UV에 노광시켜 노광부에서 탄소나노튜브의 라디칼 중합을 유발한 다음 비노광부를 현상액으로 제거함으로써 탄소나노튜브의 네가티브 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, 본 발명의 방법에 의하면 기존의 포토리소그래피 방식으로 다양한 재질의 기재 상에 탄소나노튜브 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.
탄소나노튜브, 포토리소그래피, 패턴, 이중결합, 라디칼 중합-
公开(公告)号：KR100532590B1
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：KR1020020068850
申请日：2002-11-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08G73/1017 , C08G73/101 , C08G73/1014 , C08G73/1039 , C08G73/1064 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/126 , Y10S525/928
Abstract: 본 발명은 감광성 폴리이미드 전구체용 가용성 폴리이미드 및 이를 포함한 감광성 폴리이미드 전구체 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 측쇄에 히드록시기와 아세탈기를 포함하고, 한 쪽 또는 양 쪽 말단에 반응성 봉쇄기를 포함한 가용성 폴리이미드, 및, 상기 가용성 폴리이미드, 한 쪽 또는 양 쪽 말단에 반응성 봉쇄기를 포함한 폴리아믹산, 광에 의한 산발생제(Photo Acid Generator: PAG) 및 필요에 따라 용해억제제를 포함하는 감광성 폴리이미드 전구체 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 가용성 폴리이미드는 산의 존재하에 알칼리 수용액에 대한 용해성의 변화가 크고, 코팅시 매우 평탄한 필름을 수득할 수 있으며, 말단 반응성 봉쇄기의 존재로 이어지는 열경화시 중합체 간 가교가 형성될 수 있는 바, 감광성 폴리이미드에 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 감광성 폴리이미드 전구체 조성물의 경우, 코팅시 평탄성이 우수하며, 노광부와 비노광부 간의 용해속도의 차가 커서, 적은 양의 감광제로도 고해상도의 패턴을 수득할 수 있을 뿐만 아니라 두꺼운 폴리이미드층의 제조가 가능하며, 후속의 경화공정에 있어 필름의 막 수축률이 낮고, 수득된 폴리이미드 필름의 물성이 우수하다.-
公开(公告)号：KR1019920004407B1
公开(公告)日：1992-06-04
申请号：KR1019900011616
申请日：1990-07-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 정명섭
IPC: G06F12/00
Abstract: The mode selecting circuit selects initial operating mode when the power is applied to a dual port memory device. The circuit includes an initial operating mode selecting circuit for selecting initial operating mode to stabilize the operation of the memory device. The initial operating mode selecting circuit comprises a pulse generator for generating a third mode control signal having the form of single pulse when initial power is applied to the memory device, a switch comprising a MOS transistor, and a diode to pass the third mode control signal.
Abstract translation: 模式选择电路在向双端口存储器件施加电力时选择初始操作模式。 该电路包括初始操作模式选择电路，用于选择初始操作模式以稳定存储器件的操作。 初始操作模式选择电路包括脉冲发生器，用于当初始功率被施加到存储器件时产生具有单个脉冲形式的第三模式控制信号，包括MOS晶体管的开关和用于通过第三模式控制信号的二极管 。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101821732B1
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：KR1020130148543
申请日：2013-12-02
IPC: G02B5/30 , G02F1/13363
CPC classification number: G02B5/3016 , B32B37/203 , B32B2037/243 , B32B2038/0028 , B32B2307/40 , B32B2307/42 , B32B2309/16 , B32B2457/202 , B32B2551/00 , G02B5/305 , G02B5/3083
Abstract: 편광층, 상기편광층의일면에위치하고액정을포함하는제1 위상지연층, 그리고상기제1 위상지연층의일면에위치하는제2 위상지연층을포함하고, 상기제1 위상지연층은상기편광층의투과축에대하여 17 도내지 27 도또는 -27 도내지 -17 도의각도를이루는광축을가지고, 상기제2 위상지연층은상기편광층의투과축에대하여 85 도내지 95 도의각도를이루는광축을가지는광학필름, 상기광학필름의제조방법및 상기광학필름을포함하는표시장치에관한것이다.
Abstract translation: 偏振层，第一相位延迟层，与所述第一相位延迟层，以及位于所述第一相位延迟层的一个表面上的第二相位延迟层具有位于在偏振层的一侧的偏振包括液晶 相对于所述层的透射轴17或甚至27 -27如果省具有形成的角度东京不-17度的光轴上，该第二相位延迟层具有相对于形成的85度在东京支持95倾斜于偏振层的透射轴的光轴 该光学膜的制造方法以及包括该光学膜的显示装置。
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公开(公告)号：KR1020170117014A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：KR1020170129257
申请日：2017-10-11
IPC: G02B5/30 , G02F1/13363 , H01L51/52
Abstract: 한실시예에따른광학필름은역파장분산성을가지는사분파장판인액정도포막, 그리고상기액정도포막위에위치하며음의 c-플레이트이거나이축성인기재층을포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实例的光学膜包括作为具有反波长分散特性的四极板的液晶涂膜和位于液晶涂膜上并且是负c片或层压体的基层。
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公开(公告)号：KR1020170098652A
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：KR1020160020857
申请日：2016-02-22
Applicant: 삼성전자주식회사 , 삼성에스디아이 주식회사
IPC: G02B5/30 , C08J5/18 , C08L101/00 , C09B29/033
CPC classification number: G02F1/133533 , C08J5/18 , C08J2323/12 , C08J2323/14 , C09B67/0097 , G02B1/08 , G02B5/3033 , G02B5/305 , G02B5/3083 , G02F1/13363 , G02F2001/133638 , H01L27/322 , H01L51/004 , H01L51/0052 , H01L51/0068 , H01L51/5281
Abstract: 고분자와약 380 nm 내지약 780 nm에걸쳐흡수파장영역을가지는이색성염료를포함하고, 약 380 nm 내지약 780 nm의범위에서최대흡수파장(λ)을보이는컬러편광필름을제공한다. 또한제1 고분자와약 380 nm 내지약 780 nm에걸쳐흡수파장영역을가지는이색성염료를포함하는제1층; 및상기제1층위에제2 고분자와약 380 nm 내지약 780 nm에걸쳐흡수파장영역을가지는이색성염료, 약 380 nm 내지약 780 nm에걸쳐흡수파장영역을가지는비이색성염료및 이들의조합에서선택되는염료를포함하는제2층;을포함하고, 상기 1층과제2층은조합하여약 380 nm 내지약 780 nm의범위에서최대흡수파장(λ)을보이는컬러편광필름을제공한다
Abstract translation: 它包括具有在所述聚合物和从约380nm的吸收波长区域至约780nm的二色性染料，并提供显示该范围内的约780nm以上约380nm的最大吸收波长（λ）的彩色偏振片。 包含第一聚合物和二色性染料的第一层，所述第一聚合物和二色性染料具有约380nm至约780nm的吸收波长范围; 和非二色性染料，以及它们的组合具有在一段约380nm的第二聚合物和二色性染料，吸收波长区域大约780nm具有吸收波长区域在一段约380nm至约780nm的第一层上 其中该组合的两层中的第一层提供显示最大吸收波长（λ）的彩色偏振膜，其组合在约380nm至约780nm的范围内
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