公开(公告)号：KR3004227790000S

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：KR3020050036483

申请日：2005-10-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Designer： 정민화 ,  홍순기 ,  변희수 ,  윤수정

公开(公告)号：KR3004072400000S

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：KR3020050009434

申请日：2005-03-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Designer： 정민화 ,  이동욱 ,  한명환 ,  강태영 ,  홍순기

公开(公告)号：KR2019940021061U

公开(公告)日：1994-09-24

申请号：KR2019930002812

申请日：1993-02-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정민화

IPC: F25D21/00

公开(公告)号：KR200070689Y1

公开(公告)日：1993-02-17

申请号：KR2019890016927

申请日：1989-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정민화

IPC: G11B20/24

公开(公告)号：KR200065044Y1

公开(公告)日：1992-05-21

申请号：KR2019880017081

申请日：1988-10-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정민화

IPC: H04N5/235 ,  H04N5/16

公开(公告)号：KR2019920001616U

公开(公告)日：1992-01-28

申请号：KR2019900008162

申请日：1990-06-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박상조 ,  정민화

IPC: H04N5/208

公开(公告)号：KR200060711Y1

公开(公告)日：1991-11-21

申请号：KR2019880003132

申请日：1988-03-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정민화

IPC: H04N5/235

公开(公告)号：KR2019910009753U

公开(公告)日：1991-06-29

申请号：KR2019890016927

申请日：1989-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정민화

IPC: G11B20/24

公开(公告)号：KR2019900021395U

公开(公告)日：1990-12-15

申请号：KR2019890006083

申请日：1989-05-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정민화

IPC: H04N5/228

公开(公告)号：KR1020170051642A

公开(公告)日：2017-05-12

申请号：KR1020150151511

申请日：2015-10-30

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  주식회사 원익아이피에스

Inventor： 정숙진 ,  이종철 ,  정민화 ,  신재철 ,  이인선 ,  최근규 ,  안중일 ,  이승한 ,  허진필

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/60

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45563

Abstract: 본발명의실시예에따른기판처리장치는, 기판에대해공정을처리하는공정챔버, 상기공정챔버내에배치되고, 상기기판을지지하는지지유닛, 상기지지유닛에지지된상기기판상으로공정가스를공급하는가스공급홀들을갖는가스공급부를포함하는가스공급유닛그리고상기공정가스를배출하는배기유닛을포함하되, 상기가스공급부는가스공급영역및 상기가스공급영역과상기배기유닛사이에배치되는가스확산영역을포함하되, 상기가스공급홀들은, 상기가스공급영역및 상기가스확산영역중 상기가스공급영역에배치된다.

Abstract translation: 的基板处理装置根据本发明的一个实施例中，设置在处理室中，处理室的工艺处理对基板，由支撑单元，所述支撑单元，用于支撑所述衬底支撑所述工艺气体在基材上 包括，但包括具有用于供给气体供应单元以及用于排出处理气体，设置在气体供给区域和气体供给区域和排气单元之间的气体供给单元的气体扩散排气单元的气体进料孔的气体供给 其中气体供应孔设置在气体供应区域和气体供应区域中。