公开(公告)号：KR1019990027993A

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019970050532

申请日：1997-09-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 옥경하 ,  조신현

IPC: F17C13/06

Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제조 공정에 쓰이는 가스를 저장하는 가스 저장용기에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 가스 저장용기의 몸체와 외부의 가스관이 연결수단을 통하여 연결되어 있을 때 작업자의 과도한 힘에 의하여 연결수단이 파손되는 것을 방지할 수 있는 가스 저장용기에 관한 것이며, 이를 위하여 가스 연결수단인 가스구와 가스관 사이에 테플론(Teflon)과 같은 합성수지로 형성된 가스킷과 같은 밀봉수단을 끼워 넣고 연결되는 가스킷을 사용한 가스 저장용기의 구조를 개시하고 또한 가스킷을 가스관의 끝단에 씌우기 위해 종래보다 가는 직경을 갖는 가스관의 구조를 개시하며, 이러한 구조를 통하여 가스 저장용기와 가스관을 연결함으로써 연결수단의 파손에 의한 가스의 누출을 방지하고 결과적으로 작업장의 안정성을 향상하여 전체적 인 공정의 효율을 높일 수 있다.

公开(公告)号：KR100166218B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950056598

申请日：1995-12-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 옥경하 ,  주영병 ,  송우철 ,  조신현

IPC: H01L21/265

Abstract: 반도체 제조공정중 이온 주입공정에서 웨이퍼 디스크의 동작 방법을 변경함으로써 생산성을 향상시키고 제조되는 소자의 신뢰도를 향상시킨 반도체 제조공정의 이온 주입 방법이 개시되어 있다.
본 발명에 따른 반도체 제조공정의 이온 주입 방법은 이온 주입이 실시되어야 할 웨이퍼를 이온 주입 장비의 웨이퍼 디스크상에 탑재시킨 후 초기 방향각(β)을 맞추고, 초기 틸트각(α)을 소정의(-)각으로 맞추는 단계, 상기 웨이퍼 디스크를 이온 주입 챔버내로 로딩하는 단계, 총 이온주입예정량의 일부를 상기 웨이퍼 표면의 이온 주입 영역에 주입하는 단계, 상기 틸트각(α)만을 소정의 (+)각으로 재조정하여 상기 이온주입예정량의 나머지를 상기 이온주입 영역에 주입하는 단계로 이루어진다.
본 발명에 따르면 반도체 이온 주입에 있어서 섀도우 효과를 해소하고 균일한 이온 주입을 실행할 수 있어서 제조되는 반도체 소자의 신뢰도를 제고할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980011826A

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR1019960029274

申请日：1996-07-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 옥경하 ,  조신현 ,  윤수한 ,  송우철

IPC: H01L21/265

公开(公告)号：KR1019970052143A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950056598

申请日：1995-12-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 옥경하 ,  주영병 ,  송우철 ,  조신현

IPC: H01L21/265

Abstract: 반도체 제조공정중 이온 주입공정에서 웨이퍼 디스크의 동작 방법을 변경함으로써 생산성을 향상시키고 제조되는 소자의 신뢰도를 향상시킨 반도체 제조공정의 이온 주입 방법이 개시되어 있다.
본 발명에 따른 반도체 제조공정의 이온 주입 방법은 이온 주입이 실시되어야 할 웨이퍼를 이온 주입 장비의 웨이퍼 디스크상에 탑재시킨 후 초기 방향각(β)을 맞추고, 초기 틸트각(α)을 소정의(-)각으로 맞추는 단계, 상기 웨이퍼 디스크를 이온 주입 챔버내로 로딩하는 단계, 총 이온주입예정량의 일부를 상기 웨이퍼 표면의 이온 주입 영역에 주입하는 단계, 상기 틸트각(α)만을 소정의 (+)각으로 재조정하여 상기 이온주입예정량의 나머지를 상기 이온주입 영역에 주입하는 단계로 이루어진다.
본 발명에 따르면 반도체 이온 주입에 있어서 섀도우 효과를 해소하고 균일한 이온 주입을 실행할 수 있어서 제조되는 반도체 소자의 신뢰도를 제고할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020020080934A

公开(公告)日：2002-10-26

申请号：KR1020010020802

申请日：2001-04-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현

IPC: H01L21/265

Abstract: PURPOSE: A manipulator of ion implantation equipment is provided to reduce contamination of an insulating member by improving a structure of the insulating member installed between an extraction electrode and a restriction portion of the manipulator. CONSTITUTION: An insulating member(500) has a cylindrical shape. An extraction electrode and a restriction portion are formed at both ends of the insulating member(500). The insulating member(500) includes a main body(510). A combination hole(550) is formed in the body(510). A combination member is combined with the combination hole(550). A contact protection portion is formed on an outer circumference of one end portion of the main body(510) in order to prevent migration of electrons from the extraction electrode to a contact portion between the main body(510) and the restriction portion. The contact protection portion includes a contact barrier(520) and a contact protection groove(530). A shielding barrier(540) is formed at an end portion of the contact barrier(520).

Abstract translation: 目的：提供离子注入设备的操纵器，通过改进安装在提取电极和操纵器的限制部分之间的绝缘构件的结构来减少绝缘构件的污染。 构成：绝缘构件（500）具有圆筒形状。 在绝缘构件（500）的两端形成引出电极和限制部。 绝缘构件（500）包括主体（510）。 组合孔（550）形成在主体（510）中。 组合构件与组合孔（550）组合。 为了防止电子从引出电极迁移到主体（510）与限制部之间的接触部分，在主体（510）的一端部的外周形成有接触保护部。 接触保护部分包括接触屏障（520）和接触保护槽（530）。 在接触屏障（520）的端部处形成屏蔽屏障（540）。

公开(公告)号：KR1020020073823A

公开(公告)日：2002-09-28

申请号：KR1020010013686

申请日：2001-03-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A chamber apparatus used for semiconductor fabrication equipment is provided to prevent an error generated from a working process and an error generated from a breaking function of an elevator motor for driving a seal plate. CONSTITUTION: A load lock(200) is connected with a process chamber through a connection hole. A service valve(510) is used for opening or shutting the connection hole. A service valve drive portion is used for driving the service valve(510). A seal plate is used for sealing an inlet hole formed on one wall side(100') of the load lock(200). A seal plate drive portion is used for driving the seal plate. The seal plate drive portion is formed with a shaft and an elevator motor. An air current detection sensor(610) is installed nearly to the service valve(510) in order to sense generation of air current. A control portion(630) is used for driving the service valve drive portion in order to close the connection hole according to a sense signal from the air current detection sensor(610).

Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体制造设备的腔室装置，以防止由工作过程产生的误差和由用于驱动密封板的电梯电机的断裂功能产生的误差。 构成：负载锁（200）通过连接孔与处理室连接。 使用维修阀（510）来打开或关闭连接孔。 维修阀驱动部用于驱动维修阀（510）。 密封板用于密封形成在装载锁（200）的一个壁侧（100'）上的入口孔。 密封板驱动部用于驱动密封板。 密封板驱动部分形成有轴和电梯电机。 气流检测传感器（610）几乎安装在维修阀（510）上，以便感测气流的产生。 控制部分（630）用于驱动维修阀驱动部分，以便根据来自气流检测传感器（610）的检测信号关闭连接孔。

公开(公告)号：KR100268437B1

公开(公告)日：2000-11-01

申请号：KR1019980034064

申请日：1998-08-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은, 반도체 소자 제조용 펌프 오일 오염도 측정방법 및 장치에 관한 것으로서, 오일에 절연체와 2개의 철심으로 된 센서를 설치하여 상기 하나의 철심에 전류를 가하는 단계, 상기 센서의 다른 철심에서 전류를 검출하는 단계, 상기 검출된 전류를 전류-전압 변환기에 의해 전압으로 변환시키는 단계, 상기 가해준 전압과 상기 변환된 전압을 콘트롤러를 거쳐 모니터로 전송하는 단계 및 상기 가해준 전압과 상기 변환된 전압을 모니터상에서 비교하는 단계로 이루어지고, 본 발명에 따른 오일 오염도 측정장치는 오일내부에 설치되는 절연체와 2개의 철심으로 이루어진 센서, 전압-전류 변환기, 전류-전압 변환기, 상기 변환기들을 제어하는 콘트롤러 및 상기 콘트롤러에 연결되어 상기 센서에서 나오는 상기 전압을 표시하는 모니터를 구비하여 이� ��어진다.

公开(公告)号：KR1020000031332A

公开(公告)日：2000-06-05

申请号：KR1019980047314

申请日：1998-11-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현 ,  라종찬

IPC: H01L21/265

Abstract: PURPOSE: A fixing disc of an ion injector is provided to prevent a damage in a wafer including sliding of the wafer by omitting an O-ring established in a lift pin or by contacting the lift pin with a fixing site. CONSTITUTION: Lift pins(14) of a fixing disc(10) are made of SUS among conductive metals. Each lift pin is connected to a sensor(16) electrically. The sensor supplies an electric current to the lift pin for detecting if the current flows from a loading site(11). Moreover, the sensor is connected to a monitor(17) for a worker to display the lift pin and the loading site, which are contacted by an image. In the step of lifting the wafer(20) by the lift pin, a certain part of the lift pin is contacted to the bottom of the loading site or to an inner circumference having a site hole(13). Then, the current supplied from the sensor is delivered to the loading site through the lift pin. Therefore, the sensor, the lift pin, and the loading site are constituted as a single electrical circuit for displaying the state on a monitor.

Abstract translation: 目的：提供离子注入器的固定盘，以防止晶片中的损坏，包括通过省略建立在升降销中的O形环或者将升降销与固定位置接触来滑动晶片。 构成：固定盘（10）的提升销（14）由导电金属中的SUS制成。 每个提升销电连接到传感器（16）。 传感器向提升销提供电流，以检测电流是否从装载位置（11）流出。 此外，传感器连接到用于工人的监视器（17）以显示与图像接触的提升销和装载位置。 在通过提升销提升晶片（20）的步骤中，提升销的某一部分与装载位置的底部或具有位置孔（13）的内圆周接触。 然后，从传感器提供的电流通过提升销传送到装载位置。 因此，传感器，升降销和装载位置被构成为用于在监视器上显示状态的单个电路。

公开(公告)号：KR100242948B1

公开(公告)日：2000-02-01

申请号：KR1019960047487

申请日：1996-10-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현 ,  옥경하

IPC: H01L21/205

Abstract: 이온주입장치의 진공 시스템이 개시된다. 진공 시스템에서 공정 중에 반응로의 압력을 일정하게 유지하는 크라이오 펌프를 재생하는데 전용으로 사용되는 드라이 펌프를 하나 더 추가하여 설치함으로써 이온주입공정과 크라이오 펌프의 재생을 동시에 실시한다. 따라서, 설비 가동시간이 증가되며, 2대의 드라이 펌프를 이용하여 반응로를 초기 진공화 하므로서 반응로의 펌핑 시간을 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990058715A

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019970078864

申请日：1997-12-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현 ,  옥경하 ,  신동진

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제조 장치에 관한 것이며, 리드 스크류(Lead Screw)와 커플링(Coupling) 사이에 볼 베어링을 삽입함으로써 웨이퍼를 이송할 때 리드 스크류와 커플링 사이의 마찰에 의한 불순입자가 발생되는 것을 방지하는 웨이퍼 이송장치(Apparatus for transferring wafer)에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명은 수나사가 형성된 리드 스크류와, 수나사에 대응하는 베어링 홈이 형성된 커플링 및 베어링 홈에 삽입되는 복수개의 볼 베어링을 포함하는 웨이퍼 이송장치를 개시한다. 이러한 구조를 통하여, 종래 리드 스크류와 커플링 사이의 마찰에 의해 불순입자가 생성되는 것을 방지하며, 불순입자로 인해 웨이퍼 이송장치가 손상되는 것을 방지하고 더 나아가 웨이퍼 이송장치가 사용되는 반도체 제조 장치의 효율을 향상한다.