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公开(公告)号：KR100689838B1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：KR1020050072480
申请日：2005-08-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 웨이퍼 카세트 엘리베이터 시스템을 제공한다. 개시된 웨이퍼 카세트 엘리베이터 시스템은 웨이퍼 카세트가 안착되는 카세트 스테이션과, 상기 카세트 스테이션을 승하강시키는 승강 구동 유닛과, 상기 웨이퍼 카세트로부터 돌출된 웨이퍼를 감지하는 웨이퍼 돌출 감지부와, 상기 승강 구동 유닛을 급제동하기 위한 제동 유닛, 및 상기 웨이퍼 돌출 감지부로부터의 감지 신호에 따라 상기 승강 구동 유닛 및 상기 제동 유닛의 구동을 제어하는 제어부를 구비한다.
로드락 챔버, 웨이퍼 카세트, 엘리베이터, 제동Abstract translation: 提供晶圆盒式电梯系统。 到制动所公开的晶片盒的电梯系统中提升驱动单元和晶片突出感测单元，所述提升驱动单元，用于检测从晶片盒到盒台突出的晶片盒就位在晶片和，升降盒站 以及控制单元，用于根据来自晶片突起检测单元的检测信号来控制升降驱动单元和制动单元的驱动。
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公开(公告)号：KR100568112B1
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：KR1020040000609
申请日：2004-01-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 고에너지 이온 주입 설비의 스캔 인터락 시스템 및 그 제어 방법에 관한 것이다. 스캐닝 어셈블리는 위치 변환기의 스캔 무빙에 따른 움직임을 감지하기 위하여 센서부를 포함한다. 시스템 제어부는 셈서부로부터 스캔 무빙에 따른 이동 거리를 모니터링하고, 이상이 발생되면, 이온 주입 설비를 인터락 제어한다. 따라서 스캔 무빙 동작시, SST(Scan Spin Tilt) 인터페이스 유닛, 전원 공급용 IC 또는 위치 변환기(position transducer) 등의 불량으로 인하여 스캔 동작이 끝까지 이동하지 않고 중간에서 되돌아오는 현상이 발생되면, 이온 주입 설비의 인터락을 제어함으로써, 공정 불량을 방지한다.
이온 주입 설비, 스캐닝 장치, 스캔 무빙, 인터락, 센서-
公开(公告)号：KR100534097B1
公开(公告)日：2005-12-06
申请号：KR1020030067531
申请日：2003-09-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 카세트 로딩/언로딩장치는 소정의 공정을 실시할 피처리체기판을 수납하는 카세트와, 카세트가 설치되는 공간을 제공하는 챔버와, 카세트를 챔버 내외부로 로딩/언로딩시키는 카세트홀더와, 카세트홀더를 회전시키도록 카세트홀더의 측면에 연결된 회전바와, 회전바를 회전시키는 동력을 제공하는 모터와, 모터의 축과 연결된 웜기어와, 웜기어와 기어 물림된 웜힐 및 웜힐과 회전바와 연결된 연결축을 포함한다.
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公开(公告)号：KR1019980076736A
公开(公告)日：1998-11-16
申请号：KR1019970013582
申请日：1997-04-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 이온주입장치에 관한 것으로, 스필오버컵을 지지하는 지지축의 일단부에 설치되어 있는 스프링에 의해 발생하는 진동으로 스필오버컵이 디스크 후면을 가격하는 것을 방지할 수 있도록 스프링 대신에 모터가 설치된 구동부를 이용하여 스필오버컵에 진동이 발생하는 것을 제거하거나, 수직 상태에서 스필오버컵을 고정한 후 수평 상태에서 로봇 암과 충돌하는 부분의 스필오버컵 영역을 절단함으로써, 디스크가 수직 상태로 될 때 스필오버컵이 디스크 후면을 가격하여 웨이퍼가 사이트상에서 떨어지는 것을 방지할 수 있어 반도체 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019980074799A
公开(公告)日：1998-11-05
申请号：KR1019970010783
申请日：1997-03-27
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 이온 주입 설비의 사이트 구조에 관한 것으로, 웨이퍼가 225˚각도로 사이트 상부에 로딩될 경우, 로봇 암의 얼라인 미스로 인해 웨이퍼가 리프트 핀 상부에 잘못 놓인 다음 리프트 핀이 내려가고, 이어서 풀 로드에 설치된 롤러가 웨이퍼를 밀고 들어오는데, 이때, 웨이퍼의 플랫 존의 소정 영역이 펜스의 일측단에 위치하게 되어 웨이퍼가 정확히 펜스내로 위치하지 못하게 되고, 이로 인해 회전 디스크의 스핀 업 및 스핀 다운되는 힘에 의해 웨이퍼가 쉽게 사이트에서 이탈되는 문제점을 제거하는 것을 목적으로 한다.
이를 위해 본 발명에서는 웨이퍼를 펜스 방향으로 끌어당기는 풀 로드를 적어도 두 개 이상 설치하여 웨이퍼가 정확히 펜스의 벽면에 위치할 수 있도록 함으로써 주위 환경에서 발생하는 충격으로부터 웨이퍼가 이탈하는 것을 방지할 수 있도록 한다.-
Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR2019970046501U
公开(公告)日：1997-07-31
申请号：KR2019950052979
申请日：1995-12-29
IPC: H01J9/18
Abstract: 본고안은일렉트론플러드건에관한것으로서, 본고안은필라멘트의변형을방지하여수명을연장할수 있는일렉트론플러드건을제공하는데그 목적을두고있다. 상기의목적을달성하기위한본 고안에의한일렉트론플러드건은상단에일 측이안착되는필라멘트의접촉면적을확장할수 있도록필라멘트지지홈의동일수평선상에일정형상의필라멘트안착홈이구비된터미널과, 상기터미널에인가된전류에의해열팽창되는타측필라멘트의변형을방지할수 있도록복수개의인슐레이트를구비한전자방출부로구성됨을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020070043511A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：KR1020050099866
申请日：2005-10-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/67766
Abstract: 반도체 기판의 중심을 용이하게 정렬하는 편심 판별 원판이 제공된다. 편심 판별 원판은 기판 몸체, 기판 몸체의 중앙 부분이 투명 재질로 구비되고 격자 무늬가 형성된 윈도우를 포함한다.
반도체 기판, 편심, 판별, 정렬-
公开(公告)号：KR100505601B1
公开(公告)日：2005-09-26
申请号：KR1019980013325
申请日：1998-04-14
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 주영병
IPC: H01L21/26
Abstract: 반응 챔버의 벽면에 쉴드 부재를 장착함으로써, 빔게이트로부터 반사된 이온 빔 입자들이 벽면에 증착되어 파티클을 생성하는 것을 방지할 수 있는 이온 주입 장치가 개시되어 있다. 본 발명의 이온 주입장치는 이온 공급부, 빔 라인부 및 엔드 스테이션부로 이루어져 있고, 상기 빔 라인부의 반응 챔버의 벽면에는 상기 이온 공급부로부터 오는 이온 빔이 도입되는 빔 도입홀이 형성되어 있고, 빔 도입홀 주위의 반응 챔버 내벽을 덮는 쉴드 부재가 형성되어 있다.
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公开(公告)号：KR1020050061923A
公开(公告)日：2005-06-23
申请号：KR1020030093546
申请日：2003-12-19
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 주영병
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J2237/082
Abstract: 실리콘웨이퍼와 같은 반도체 기판의 표면으로 주입되기 위한 이온들은 이온 소스로부터 생성된다. 상기 이온 소스는 아크 챔버와 필라멘트를 포함하며, 상기 필라멘트는 전자들을 방출하기 위한 전자 방출부와, 필라멘트 파워 소스와 연결되는 리드들과, 상기 전자 방출부와 상기 리드들을 연결하는 연결부들을 포함한다. 상기 전자 방출부에는 열적 스트레스에 기인하는 열화를 억제하기 위한 제1코일이 와인딩되며, 상기 연결부들에는 상기 전자 방출부에 비하여 상대적으로 전기 저항을 감소시키기 위한 제2코일들이 와인딩된다. 따라서, 필라멘트의 사용 연한이 증가되며, 상기 이온 소스를 포함하는 이온 주입 장치의 가동 중지 기간이 감소될 수 있다.
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