公开(公告)号：KR1020070044313A

公开(公告)日：2007-04-27

申请号：KR1020050100444

申请日：2005-10-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최호근 ,  최진철 ,  강승배

IPC: H01L21/68 ,  B65G1/04

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/6773

Abstract: 연속적인 기판 반송이 가능한 기판 반송 장치, 기판 반송 방법 및 이를 이용한 기판 반송 시스템이 제공된다. 기판 반송 장치는 기판 투입부에 배치된 기판이 적재되어 있는 카세트로부터 배출되어 투입된 기판을 기판 처리부로 반송하고, 기판 처리부로부터 처리된 기판을 기판 수용부로 반송하는 기판 반송부와, 기판이 배출된 카세트를 기판 투입부로부터 기판 수용부로 반송하는 카세트 반송부를 포함한다.
기판, 반송, 카세트, 레일, 승강 장치

公开(公告)号：KR1020070024880A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020050080458

申请日：2005-08-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최호근 ,  최연수 ,  임득수 ,  문동원

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1313 ,  B08B3/12 ,  G02F2001/1316

Abstract: A substrate cleaning apparatus and a method thereof are provided to separate and remove various impurities sticked on a substrate by inert ions jetted from an ion-sputtering cleaning unit, thereby reinforcing adhesion force between the substrate and signal lines. A substrate cleaning apparatus includes an ion-sputtering cleaning unit, a first main cleaning unit and a second main cleaning unit. The ion-sputtering cleaning unit removes impurities generated by at least one of organic and inorganic substances, and metals from a glass substrate(20), and has an ion supplier(190) for generating ions and an ion accelerator(200) for accelerating the generated ions to be emitted to the substrate, wherein the ion supplier supplies inert ions(210) of the generated ions to the ion accelerator. The first main cleaning unit cleans the substrate by a first rinsing solution. The second main cleaning unit cleans the substrate by jetting a second rinsing solution to the substrate with high pressure.

Abstract translation: 提供了一种基板清洗装置及其方法，用于通过从离子溅射清洁单元喷射的惰性离子分离和去除粘附在基板上的各种杂质，从而增强基板与信号线之间的粘附力。 基板清洗装置包括离子溅射清洗单元，第一主清洁单元和第二主清洁单元。 离子溅射清洗单元除去由玻璃基板（20）中的至少一种有机和无机物质和金属产生的杂质，并具有用于产生离子的离子供体（190）和用于加速 产生的离子被发射到衬底，其中离子供体向离子加速器提供产生的离子的惰性离子（210）。 第一主要清洁单元通过第一冲洗溶液清洗基底。 第二主要清洁单元通过以高压将第二冲洗溶液喷射到基底来清洁基底。

公开(公告)号：KR1020070010868A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020050065841

申请日：2005-07-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문동원 ,  최호근 ,  최연수 ,  임득수

IPC: H01L29/786 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L27/124 ,  G02F1/136286 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02068 ,  H01L27/1214

Abstract: A method for fabricating a TFT substrate is provided to improve the quality of a metal thin film by efficiently removing particles. A gate metal layer is formed on an insulation substrate. A photoresist layer pattern is formed on the gate metal layer. The gate metal layer is etched by using the photoresist layer pattern to form a gate interconnection(22). The photoresist layer pattern is stripped to expose the gate interconnection. The exposed gate interconnection is cleaned by using a cleaning solution including nitric acid. A gate insulation layer made of silicon nitride is formed on the gate interconnection.

Abstract translation: 提供一种用于制造TFT基板的方法，以通过有效地去除颗粒来改善金属薄膜的质量。 在绝缘基板上形成栅极金属层。 在栅极金属层上形成光致抗蚀剂图案。 通过使用光致抗蚀剂层图案来蚀刻栅极金属层以形成栅极互连（22）。 去除光致抗蚀剂层图案以露出栅极互连。 通过使用包括硝酸的清洁溶液来清洁暴露的栅极互连。 在栅极互连上形成由氮化硅制成的栅极绝缘层。

公开(公告)号：KR1020060011154A

公开(公告)日：2006-02-03

申请号：KR1020040059847

申请日：2004-07-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최호근 ,  최진철

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67057 ,  G02F1/1303

Abstract: 습식 식각 설비가 개시되어 있다. 습식 식각 설비는 습식 식각 공정이 진행되는 습식 식각 챔버, 습식 식각 챔버에 한 종류 이상의 케미컬을 공급하기 위한 케미컬 공급부 및 케미컬로부터 발생되는 가스와 반응하여 가스를 흡착하는 촉매제를 구비하며 촉매제의 배출에 의하여 가스를 배출하는 가스 흡착부를 포함한다. 가스 흡착부는 촉매제 공급부로부터 공급되는 촉매제가 흐를수 있도록 설치되는 수로부를 포함한다. 따라서, 케미컬로부터 발생되는 가스의 제거 능력을 향상시켜 습식 식각 설비 및 다른 금속 물질들의 부식을 방지한다.

公开(公告)号：KR1020070044110A

公开(公告)日：2007-04-27

申请号：KR1020050100045

申请日：2005-10-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최연수 ,  최호근 ,  최진철

IPC: G02F1/136

CPC classification number: G02F1/136 ,  C23F1/20 ,  H01L21/306 ,  H01L27/1214

Abstract: 제조공정을 단순화시키기 위한 어레이 기판의 제조방법이 개시된다. 기판 상에 알루미늄 합금으로 이루어진 제1 금속막 및 크롬으로 이루어진 제2 금속막을 형성하고, 제1 금속막을 식각하기 위한 제1 식각액 및 제2 금속막을 식각하기 위한 제2 식각액이 혼합된 혼합 식각액에 의해 1차 식각한다. 1차 식각 후 잔류하는 제2 금속막을 제3 식각액에 의해 2차 식각한다. 따라서, 혼합 식각액에 의해 제1 및 제2 금속막을 금속막을 하나의 식각 공정에서 식각하므로, 전극들 및 전극패드 형성을 위한 식각 공정을 줄일 수 있어 전체적인 제조공정을 단순화시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060059428A

公开(公告)日：2006-06-02

申请号：KR1020040098516

申请日：2004-11-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박선 ,  최호근 ,  오진수

IPC: G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67075 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/30604

Abstract: 본 발명에 따른 약액 공급 시스템은 약액이 저장되어 있는 약액 저장 탱크, 약액 저장 탱크의 약액이 운송되는 약액 운송관, 약액 운송관에 연결되어 약액을 분사하는 노즐 바를 포함하고, 약액 운송관의 체결 연장부 및 노즐 바의 체결부는 볼 베어링으로 연결되어 있는 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명에 따른 약액 공급 시스템은 스윙하는 노즐 바와 약액 운송관간의 체결부에 볼 베어링을 설치함으로써 체결부에서의 마모를 방지하여 체결부에서 약액이 누수되는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다.
약액운송관, 노즐바, 노즐, 스윙, 볼베어링, 격막, 누수, 체결부

公开(公告)号：KR1020060010565A

公开(公告)日：2006-02-02

申请号：KR1020040059313

申请日：2004-07-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최연수 ,  김용우 ,  정배현 ,  최호근

IPC: C09K13/04

CPC classification number: C09K13/04 ,  C09K13/06 ,  C23F1/20 ,  C23F1/26

Abstract: 본 발명은 몰리브덴층(Mo)과 알루미늄층(Al)을 포함하는 다중층을 식각하기 위한 식각액에 관한 것으로서, 인산 50 내지 70 중량%, 질산 10 내지 14 중량%, 초산 3 내지 9 중량%, 및 잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 몰리브덴층과 알루미늄층을 포함하는 다중층을 언더컷 등이 없는 바람직한 프로파일로 형성할 수 있는 식각액이 제공된다.