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公开(公告)号：KR1020080008077A
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：KR1020060067519
申请日：2006-07-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/136
CPC classification number: G02F1/136286 , G02F2001/1316
Abstract: An etching device, a line forming method using the same, and an array substrate manufacturing method using the same are provided to reduce the frequency of cleaning processes after the etching process, thereby enhancing the productivity. A loader member(110) loads an object from a cassette for receiving the object including at least one metal layer and transfers the object to an etching member. The etching member(120) includes the first etching member(121) for etching the first metal layer formed on a substrate by means of the first etchant including ceric ammonium nitrate. The second etching member(123) etches the second metal layer formed on the substrate by the second etchant including ammonium fluoride. A cleaning member(130) cleans the substrate transmitted from the etching member. The first metal layer includes chromium and the second metal layer includes aluminum. The number of the first and second etching members is increased according to the size and number of the object. An unloader member(140) loads the object from the cleaning member and loads the object to a receiving container for receiving the object.
Abstract translation: 提供一种蚀刻装置，使用该蚀刻装置的线形成方法和使用该蚀刻装置的阵列基板制造方法以减少蚀刻工艺之后的清洗工艺的频率，从而提高生产率。 装载部件（110）从用于接收包括至少一个金属层的物体的盒装载物体，并将物体传送到蚀刻部件。 蚀刻构件（120）包括用于通过包括硝酸铈铵在内的第一蚀刻剂蚀刻形成在基板上的第一金属层的第一蚀刻构件（121）。 第二蚀刻构件（123）通过包括氟化铵的第二蚀刻剂蚀刻形成在基板上的第二金属层。 清洁构件（130）清洁从蚀刻构件传递的衬底。 第一金属层包括铬，第二金属层包括铝。 第一和第二蚀刻构件的数量根据物体的大小和数量增加。 卸载器构件（140）从清洁构件加载物体并将物体加载到用于接收物体的接收容器。
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公开(公告)号：KR1020070037878A
公开(公告)日：2007-04-09
申请号：KR1020050093028
申请日：2005-10-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1333 , G02F2001/1316 , G02F2001/133354 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 본 발명은 액정 표시 장치의 기판 식각 인라인 시스템 및 이를 이용한 기판 식각 방법에 관한 것으로서, 기판 상에 존재하는 불순물을 제거하기 위한 세정 장치와, 기판의 표면을 식각하기 위한 식각 장치와, 식각된 기판의 두께를 측정하기 위한 두께 측정 장치 및 기판을 이송하기 위한 이송 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 식각 인라인 시스템이 제공된다.
액정 표시 장치, 기판, 식각, 인라인 시스템-
公开(公告)号：KR1020080009579A
公开(公告)日：2008-01-29
申请号：KR1020060069350
申请日：2006-07-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306 , H01L21/3063
CPC classification number: H01L21/30604 , H01L21/67086
Abstract: An apparatus and a method of etching a mother glass are provided to minimize the thickness of the mother glass and perform the uniform etching of the mother glass by minimizing the pressure applied on the mother glass and uniformly applying the pressure on the mother glass. An apparatus of etching a mother glass(10) includes an etching rail(110) and a solution supplying unit(120). The etching rail has an inner moving space where at least one mother glass moves, receives an etching solution for etching the mother glass in the moving space, and has an adjustable slope with respect to the surface. The solution supplying unit provides the etching solution to the etching rail. The etching rail includes a floor surface, and a side wall which is extended from the edge of the floor surface and forms the moving space.
Abstract translation: 提供了一种蚀刻母玻璃的装置和方法，以使母玻璃的厚度最小化，并通过使施加在母玻璃上的压力最小化并均匀地施加在母玻璃上的压力来进行母玻璃的均匀蚀刻。 蚀刻母玻璃（10）的设备包括蚀刻轨道（110）和溶液供应单元（120）。 蚀刻轨道具有至少一个母体玻璃移动的内部移动空间，接收用于在移动空间中蚀刻母体玻璃的蚀刻溶液，并且具有相对于表面的可调节的斜率。 溶液供给单元向蚀刻轨道提供蚀刻溶液。 蚀刻轨道包括地板表面和从地板表面的边缘延伸并形成移动空间的侧壁。
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公开(公告)号：KR1020070040564A
公开(公告)日：2007-04-17
申请号：KR1020050096060
申请日：2005-10-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/13 , B08B3/02 , G02F2001/1316 , H01L21/02057
Abstract: 본 발명은 액정 표시 소자 제조용 세정장치 및 세정 방법에 관한 것으로, 기판이 안착되는 챔버 또는 용기를 포함하고, 산 세정액을 이용하여 상기 기판의 슬러지를 제거할 수 있는 세정장치와 세정 방법을 제공한다. 이와 같이 본 발명은 산 세정액을 이용하여 기판을 세정하여 기판 표면에 흡착된 슬러지를 제거할 수 있고, 상부 유리 기판과 하부 유리 기판 사이의 리세스 영역에 잔류하는 슬러지를 효과적으로 제거할 수 있다.
세정, 산 세정액, 액정 표시 장치, 패널, 슬러지, 분사, 챔버, 용기-
公开(公告)号：KR2019970057049U
公开(公告)日：1997-11-10
申请号：KR2019960009179
申请日：1996-04-25
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 최호근
IPC: B01D46/44
Abstract: 본고안은필터하우징장치에센서를설치하여센서가공기를감지하면밸브가개방되어필터하우징내부에존재하는공기를배출시키고, 액체가감지되면밸브를폐쇄시켜필터하우징내에설치되있는필터의실용면적을증가시켜더 많은양의용액을필터링하고, 필터의수명을연장시켰으며, 작업자가직접밸브를조절해야하는불편함을해소하였다.
Abstract translation: 制品内时安装一个传感器到过滤器壳体装置检测传感器加工机和排出空气的阀打开存在于过滤器壳体中，当液体被通过关闭阀感测到的增加，其被安装在过滤器壳体中的过滤器的实际面积内 为了过滤更多的溶液，延长过滤器的使用寿命，并消除操作人员手动调节阀门的不便。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080024921A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：KR1020060089689
申请日：2006-09-15
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: A substrate holding apparatus is provided to perform etching on a desired surface of the substrate while stably holding the substrate, since a surface adsorbed by the substrate holding apparatus is prevented from being exposed by an etching solution during etching process. A substrate holding apparatus(500) comprises a chamber and a gas controller. The chamber comprises an internal space for containing gas, a plurality of openings(150) with a predetermined area removed at least one sidewall where the substrate is mounted, and a gas inlet communicating with the internal space, wherein the gas moves in and out through the internal space and openings. The gas controller, which is in connection with the chamber, sucks the gas within the internal space so that gas outside the chamber flows into the opening, to adsorb the substrate onto the sidewall, and separates the substrate mounted onto the sidewall by discharging the gas within the internal space to the outside through the openings. The gas controller comprises a main piping(190) having one end connected to the gas inlet, a gas supply unit(120) connected to the other end of the main piping, and supplying the gas to the internal space of the chamber through the main piping, an auxiliary piping(193,195) branching from the main piping, and a gas suction unit(130) in connection with the auxiliary piping for sucking the gas within the internal space of the chamber through the auxiliary piping.
Abstract translation: 提供了一种基板保持装置，用于在稳定地保持基板的同时在基板的期望表面上进行蚀刻，因为在蚀刻过程中防止了由基板保持装置吸附的表面被蚀刻溶液暴露。 基板保持装置（500）包括室和气体控制器。 所述腔室包括用于容纳气体的内部空间，具有预定面积的多个开口（150），其中至少一个侧壁被移除，所述至少一个侧壁安装在所述基板上;以及气体入口，其与所述内部空间连通， 内部空间和开口。 与腔室连接的气体控制器吸收内部空间内的气体，使得室外的气体流入开口，以将衬底吸附到侧壁上，并通过排出气体来分离安装在侧壁上的衬底 在通过开口的内部空间内到达外部。 气体控制器包括一个连接到气体入口的主管道（190），连接到主管道另一端的气体供应单元（120），并通过主体将气体供应到腔室的内部空间 管道，从主管道分支的辅助管道（193,195）和与辅助管道连接的气体抽吸单元（130），用于通过辅助管道吸入腔室的内部空间内的气体。
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公开(公告)号：KR1020080022917A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：KR1020060086744
申请日：2006-09-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306 , H01L21/3063 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/67086 , H01L21/67253
Abstract: An etchant supplying device, an etching apparatus and an etching method are provided to uniformly etch a glass substrate by supplying a control component according to a measured result obtained by a condensation measuring unit. An etchant supplying device supplies an etchant containing composite consisting of water, hydrofluoric acid, and inorganic acid to an etching apparatus for etching a glass substrate in an etching bath. An etchant tank(210) receives the etchant used in the etching bath. The etchant is supplied from the etchant tank to the etchant bath by an etchant transfer unit. A concentration measuring unit(220) measures a concentration of a control component among the components in the etchant in the etchant tank. A component supply unit(230) supplies the respective control component to the etchant tank.
Abstract translation: 提供蚀刻剂供给装置，蚀刻装置和蚀刻方法，以通过根据由冷凝测量单元获得的测量结果提供控制部件来均匀地蚀刻玻璃基板。 蚀刻剂供给装置将由水，氢氟酸和无机酸组成的含蚀刻剂的复合材料提供给用于在蚀刻槽中蚀刻玻璃基板的蚀刻装置。 蚀刻槽（210）接受在蚀刻槽中使用的蚀刻剂。 蚀刻剂由蚀刻剂槽通过蚀刻剂转移单元供应到蚀刻液。 浓度测量单元（220）测量蚀刻剂槽中的蚀刻剂中的组分中的控制组分的浓度。 部件供应单元（230）将各个控制部件供应到蚀刻槽。
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公开(公告)号：KR1020070040565A
公开(公告)日：2007-04-17
申请号：KR1020050096061
申请日：2005-10-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/1341
CPC classification number: G02F1/1339 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/1341 , G02F2201/121 , G02F2201/123
Abstract: 본 발명은 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 박막 패턴이 형성된 상부 기판과 하부 기판을 접합하는 단계와, 접합된 두 기판의 가장자리 영역의 적어도 일부를 실링하는 단계와, 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 식각하는 단계를 포함하는 액정 표시 장지의 제조 방법을 제공한다. 이와 같이 상부 기판과 하부 기판을 접합한 다음, 접합된 상부 기판과 하부 기판의 가장자리 영역에 실링 부재를 마련하여 후속 기판 식각 공정시 접합된 두 기판 사이 영역으로 슬러지 및 식각액의 침투를 방지할 수 있다.
기판, 접합, 실링부재, 식각액, 기판 식각, 가장자리-
公开(公告)号：KR1020060032433A
公开(公告)日：2006-04-17
申请号：KR1020040081380
申请日：2004-10-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: C09K13/04
CPC classification number: C09K13/04 , H01L21/30604
Abstract: 순수의 증발이 억제되는 인듐 징크 옥사이드 식각액 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조방법에 관한 것으로서, 식각액 조성물은 황산수소칼륨 3 내지 10중량%, 황산 1 내지 6중량%, 계면활성제 3 내지 10중량% 및 여분의 순수를 포함한다. 상술한 조성을 갖는 인듐 징크 옥사이드 식각액 조성물은 세정 공정시 순수의 과도한 증발을 방지할 수 있어 인듐 징크 옥사이드막이 적용되는 액정표시장치를 양산하는데 적용할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020070116462A
公开(公告)日：2007-12-10
申请号：KR1020060050519
申请日：2006-06-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306 , H01L21/3063
CPC classification number: H01L21/67086 , G02F1/1303
Abstract: An etching apparatus is provided to prevent the quantity of air bubbles from being reduced in a specific region by directly receiving a gas from the outside without including an additional air tube. An etch bath(120) includes a bottom surface(110) and lateral portions(115) having at least one air hole wherein the lateral portions are extended from the edge of the bottom surface to store an etch solution for etching an object. A bubble plate(130) has a plurality of bubble holes for supplying air bubbles formed by using the gas injected through the air hole from the outside to a space where the object is received. The bubble plate is positioned in the etch bath, separated from the bottom surface by a predetermined interval. The air hole can be positioned between the bottom surface and the bubble plate.
Abstract translation: 提供一种蚀刻装置，用于通过从外部直接接收气体来防止气泡在特定区域的减少，而不包括附加的空气管。 蚀刻浴（120）包括底表面（110）和具有至少一个空气孔的侧部（115），其中侧部从底表面的边缘延伸以存储用于蚀刻物体的蚀刻溶液。 气泡板（130）具有多个气泡孔，用于提供通过使用从外部喷射到气体中的气体形成的气泡到接收物体的空间。 气泡板位于蚀刻槽中，与底表面隔开预定间隔。 气孔可以位于底面和气泡板之间。
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