불소 함유 공중합체를 포함하는 디스플레이용 코팅제 조성물

    公开(公告)号:KR101749640B1

    公开(公告)日:2017-06-22

    申请号:KR1020140195130

    申请日:2014-12-31

    Abstract: 본발명은불소함유공중합체를포함하는디스플레이용코팅제조성물에대한것으로, 더욱구체적으로는불소함량이적은단량체를이용하여저굴절공중합체를제조하고, 여기에유연성이우수한경화제를사용하여디스플레이용으로사용되는저굴절코팅제조성물을제조하는것이다. 이러한본 발명은깨지기쉬운불소함유단량체의특성을개선할수 있을뿐만아니라, 투과도가우수하고, 유연성및 강도가증가된디스플레이를제공할수있다.

    전도성 고분자 조성물 및 그의 제조방법
    12.
    发明公开
    전도성 고분자 조성물 및 그의 제조방법 有权
    导电聚合物组合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020170025313A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:KR1020150121619

    申请日:2015-08-28

    Abstract: 저온에서접착성능을나타내고리워크성이우수한전도성고분자조성물및 그의제조방법이제공된다. 본발명에따른전도성고분자조성물은수소결합가능한관능기를포함하는수소결합고분자및 전도성입자를포함하는데, 수소결합고분자의수소결합가능한관능기의수소결합비율에따라접착력이달라질수 있다.

    전극 및 그의 제조방법
    13.
    发明公开
    전극 및 그의 제조방법 有权
    电极及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020160077457A

    公开(公告)日:2016-07-04

    申请号:KR1020140187046

    申请日:2014-12-23

    CPC classification number: H01B13/0013 H01B5/14

    Abstract: 신뢰성높은전극및 그의제조방법이제공된다. 본발명에따른전극제조방법에서는, 기판상에나노와이어를도포하여나노와이어층을형성하고, 나노와이어층이패턴영역및 제거영역을포함할때, 패턴영역에서의나노와이어층및 기판사이의접착력이, 제거영역에서의나노와이어층및 기판사이의접착력보다크도록하는접착력을조절한후에제거영역을제거하여전극이제조된다.

    Abstract translation: 提供一种高度可靠的电极及其制造方法。 根据本发明,电极制造方法包括以下步骤:通过在基板上涂覆纳米线形成纳米线层; 当纳米线层包括图案区域和去除区域时,在图案区域中控制纳米线层和基板之间的粘附力比去除区域中的纳米线层和基底之间的粘合强; 之后,去除去除区域。

    금속 구조물 및 이의 제조방법
    15.
    发明公开
    금속 구조물 및 이의 제조방법 有权
    金属结构及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020150116345A

    公开(公告)日:2015-10-15

    申请号:KR1020140041491

    申请日:2014-04-07

    Inventor: 곽민기 김종웅

    Abstract: 금속구조물및 이의제조방법이제공되고, 본발명의일 구현예에따른금속구조물은나노와이어(nanowire) 형상을갖고금속을포함하는코어(core)부, 그리고코어(core)부의외부전체를둘러싸고있으며금속을포함하는제1 쉘(shell)부를포함하고, 코어(core)부의외주면의적어도일부가제1 쉘(shell)부의내면과접촉하는코어-쉘(core-shell)구조를갖는금속나노와이어를포함할수 있다.

    Abstract translation: 提供一种金属结构及其制造方法。 根据本发明的一个实施方案,金属结构包括:金属纳米线,其包括具有纳米线形状的核心部分,包括金属; 以及第一壳体部分,其包围包括所述金属的所述芯部的整个外部,其中所述金属结构具有核心部分的整个外周表面的至少一部分的核 - 壳结构, 第一个壳部分。

    이방성 나노소재 기반 투명 전도 유연기판 및 이의 제조방법
    16.
    发明公开
    이방성 나노소재 기반 투명 전도 유연기판 및 이의 제조방법 无效
    基于各向异性纳米材料的透明,导电和柔性基板及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020150042634A

    公开(公告)日:2015-04-21

    申请号:KR1020130121526

    申请日:2013-10-11

    CPC classification number: H01B5/14 H01B13/00

    Abstract: 투명전도유연기판은비전도성의폴리머층을포함하고, 폴리머층의내부의상부표면(upper surface) 부근에전도성을갖는이방성나노소재(anisotropic nanomaterial)가위치하고, 이방성나노소재의일부는폴리머층의상부표면에노출되어있고, 폴리머층의상부표면의평균조도(Ra)는약 0.1 nm 내지약 10 nm 이다.

    Abstract translation: 透明的,导电的和柔性的衬底包括非导电聚合物层。 具有导电性的各向异性纳米材料位于聚合物层内侧的上表面附近。 各向异性纳米材料的一部分暴露在聚合物层的上表面上。 聚合物层的上表面的平均照度(Ra)为约0.1nm至10nm。

    액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법
    18.
    发明授权
    액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법 失效
    TFT-LCD基板分离回收方法

    公开(公告)号:KR101285590B1

    公开(公告)日:2013-07-12

    申请号:KR1020110016585

    申请日:2011-02-24

    Abstract: 본 발명은 액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 액정표시장치에 포함되어 있는 기판을 재사용할 수 있도록 액정표시장치를 분해여 액정을 제거하고 컬러 필터 기판(상부 기판) 및 TFT-어레이 기판(하부 기판)상에 적층되어 있던 컬러 필터, 투명 전극, 편광 필름 등을 포함하는 여러 부품층 및 필름을 제거함으로써 상부 및 하부 기판을 분리 및 재생하는 방법에 관한 것이다.
    상부 기판의 일면에는 편광 필름이 에폭시로 부착되고 다른 면에는 컬러 필터와 공통전극이 적층되어 구성되는 컬러 필터 기판(상부 기판)과, 게이트 전극과 실리콘 질화막과 액티브 층과 소스 및 드레인 전극과 화소 전극이 하부 기판의 일면에 적층되고 다른 면에는 편광필름이 에폭시로 부착되어 구성되는 TFT-어레이 기판(하부 기판)과, 상기 컬러 필터 기판(상부 기판)과 상기 TFT-어레이 기판(하부 기판) 사이에 채워져서 실란트에 의해 보존되는 액정으로 구성되는 액정표시장치에 있어서, 본 발명에 따르는 액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법은, 액정표시장치를 컬러 필터 기판 및 TFT-어레이 기판으로 각각 분리하는 단계; 분리된 상기 컬러 필터 기판(상부 기판)과 상기 TFT-어레이 기판(하부 기판)의 잔여 액정을 제거하는 단계; 상기 상부 기판 및 하부 기판의 일면에 부착된 편광 필름을 떼어내고 상부 기판 및 하부 기판상의 잔여 에폭시를 제거하는 단계; 상기 상부 기판의 다른 면에 구성된 컬러 필터 및 투명 전극층을 제거하는 단계; 및 상기 하부 기판의 일면에 배치된 실리콘 질화막을 용해하여, 액티브 층과 소스 및 드레인 전극과 화소 전극(투명 전극)을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

    액정 표시 소자로부터 인듐 주석 산화물 및 유가 자원을 회수하는 방법 및 이에 따라 회수된 인듐 주석 산화물
    19.
    发明公开
    액정 표시 소자로부터 인듐 주석 산화물 및 유가 자원을 회수하는 방법 및 이에 따라 회수된 인듐 주석 산화물 失效
    氧化铅和其他有价值的液体回收方法从液晶装置和其中制造的氧化铟锡

    公开(公告)号:KR1020120116659A

    公开(公告)日:2012-10-23

    申请号:KR1020110034234

    申请日:2011-04-13

    Abstract: PURPOSE: A collecting method for indium tin oxide and valuable resources from a liquid crystal display device and collected indium tin oxide by the method are provided to collect indium tin oxide and valuable sources from a liquid crystal display device using a simple process. CONSTITUTION: A collecting method for indium tin oxide and valuable resources from a liquid crystal display device comprises the following steps: separating liquid crystal display(s110); separating an upper plate from a lower plate of a liquid crystal display(s120); removing polaroid film and liquid crystal residue of the upper plate(s130); removing a color filter of the upper plate and separating a glass substrate from the upper plate(s140); and heat treating and pulverizing the residual indium tin oxide(s150); and post-treating indium tin oxide(s160). In the first step, a sealed part of the upper and lower plates is cut by being scribed. The Polaroid film is removed by using an organic solvent. The color filter is removed by dissolving the color filter using alkaline solution. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Decomposing product and separating liquid crystal display; (S120) Separating an upper plate from a lower plate of a liquid crystal display; (S130) Removing Polaroid film and liquid crystal; (S140) Removing a color filter and separating a glass substrate; (S150) Heat treating and pulverizing the residual indium tin oxide; (S160) Post-treating indium tin oxide

    Abstract translation: 目的:提供一种通过该方法从液晶显示装置和收集的氧化铟锡中的氧化铟锡和有价值的资源的收集方法,以使用简单的工艺从液晶显示装置中收集氧化铟锡和有价值的源。 构成:从液晶显示装置获得的氧化铟锡和有价值的资源的收集方法包括以下步骤:分离液晶显示器(s110); 从液晶显示器的下板分离上板(S120); 去除所述上板的偏光片和液晶残渣(s130); 去除上板的滤色片并将玻璃基板与上板分离(s140); 并对残留的氧化铟锡进行热处理和粉碎(s150); 和后处理氧化铟锡(s160)。 在第一步骤中,通过划刻切割上板和下板的密封部分。 通过使用有机溶剂除去偏光片。 通过使用碱性溶液溶解滤色器除去滤色器。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S110)分解产品并分离液晶显示器; (S120)从液晶显示器的下板分离上板; (S130)去除偏光片和液晶; (S140)去除滤色器并分离玻璃基板; (S150)对残留的氧化铟锡进行热处理粉碎; (S160)后处理氧化铟锡

    액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법
    20.
    发明公开
    액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법 失效
    TFT-LCD分离和回收衬底的方法

    公开(公告)号:KR1020120097181A

    公开(公告)日:2012-09-03

    申请号:KR1020110016585

    申请日:2011-02-24

    CPC classification number: G02F1/1309 G02F1/133514 G02F1/1368 G02F2203/68

    Abstract: PURPOSE: A method for separating and recycling a substrate of a liquid crystal display device is provided to eliminate several layers from a substrate without breaking the liquid crystal display device, thereby separating and recycling upper/lower substrates of the liquid crystal display device. CONSTITUTION: Polarization films attached to one-sides of upper/lower substrates are eliminated. Remaining epoxy is eliminated from the upper/lower substrates. A color filter and a transparent electrode layer are eliminated from the other side of the upper substrate. A silicon nitride film is dissolved while the silicon nitride film is arranged on the lower substrate. An active layer, source and drain electrodes, and a pixel electrode are eliminated. [Reference numerals] (AA) Disassembling products and separating TFT-LCDs; (BB) Cutting the edge and separating upper/lower substrates; (CC) Removing polarization films of the upper/lower substrates and epoxy; (DD) Removing a color filter and a transparent electrode of the upper substrate; (EE) Removing SiNx, a pixel electrode and residues of the lower substrate; (FF) Forming a recycled substrate; (GG) Treating the surface of the substrate for reinforcement

    Abstract translation: 目的:提供一种分离和再循环液晶显示装置的基板的方法,从而从液晶显示装置中分离和再循环上下基板,从而从基板上除去多层而不破坏液晶显示装置。 构成:消除了附着在上/下基板一侧的极化膜。 剩余的环氧树脂从上/下基板上消除。 从上基板的另一侧排出滤色器和透明电极层。 氮化硅膜被溶解,而氮化硅膜被布置在下基板上。 消除有源层,源极和漏极以及像素电极。 (附图标记)(AA)拆卸产品和分离TFT-LCD; (BB)切割边缘并分离上/下基板; (CC)去除上/下基板和环氧树脂的偏振膜; (DD)去除上基板的滤色器和透明电极; (EE)去除SiNx,像素电极和下基板的残留物; (FF)形成再生基材; (GG)处理基材的表面进行加固

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