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公开(公告)号：KR1019990002608A
公开(公告)日：1999-01-15
申请号：KR1019970026264
申请日：1997-06-20
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G01R31/00
Abstract: 반도체 광 증폭기내에서의 부분 축퇴된 4관파 혼합 현상과 전압 구동형 광노정 지연기를 이용하여 수 피코초 이하의 시간폭을 갖는 극초단 광 펄스열의 펄스폭과 펄스 파형을 측정하는 본 발명에 따른 장치는, 광 샘플림용 극초단 광 펄스열을 일정 시간 지연시키기 위한 전압 구동형 광 노정 지연기와, 이 전압 구동형 광노정 지연기에 수 Hz의 전압 변화를 출력하는 신호 발생기와, 측정하려고 하는 극초단 광 펄스열과 상기 광 노정 지연기에 의해 일정 시간 지연된 광 샘플링용 극초단 광 펄스열을 혼합하여, 4광파 혼합 광 신호 펄스열을 생성하는 반도체 광증폭기와, 상기 4광파 혼합광만을 투과시키는 광파장 필터와, 상기 4광파 혼합 광 신호 펄스열의 평균 전압 출력을 구하기 위한 광 검출기와, 상기 광 검출기로부터 얻어지는 측정용 전압 신호를 증 폭시키는 증폭기와, 상기 증폭된 전압 신호의 펄스폭과 그 파형을 측정하기 위한 파형 측정 장비를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1019990011686A
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR1019970034886
申请日：1997-07-25
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 능동형 모드 록킹된 광섬유 고리형 극초단 펄스 레이저 장치 및 이를 이용한 펄스의 폭 및 반복성 조절 방법이 개시된다. 종래의 능동형 모드 록킹된 펄스형 레이저 장치에서 출력되는 펄스의 펄스 폭과 반복성이 광 변조기의 주파수에 관계되기 때문에 레이저 장치에서 출력되는 펄스의 반복성과 펄스 폭은 광 변조기가 작동하는 최대 주파수에 의해서 제한된다는 문제가 있었다. 따라서, 본 발명에서는 종래의 능동형 모드 록킹된 레이저 장치에 두개의 광 변조기를 사용하여, 상기 두개의 광 변조기에 0 또는 π이외의 위상차 신호를 인가하여 반복성은 변화시키지 않으면서 레이저 출력의 펄스 폭을 줄일 수 있고, 또 위상차가 π인 신호를 인가하여 반복성은 두배로 되면서 펄스 폭이 줄어든 레이저 펄스를 얻을 수 있도록 하였다. 따라서, 레이저 장치의 출력 외부에서 펄스를 압축하는 종래의 방법에 비하여 방법이 극히 간단하고, 레이저 펄스의 펄스 폭만 또는 반복성과 펄스 폭을 동시에 줄일 수 있는 작용 효과가 있다.
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公开(公告)号：KR1019930010830B1
公开(公告)日：1993-11-12
申请号：KR1019910014603
申请日：1991-08-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01P1/15
Abstract: spin coating a photoresist on a LiNbO3 substrate; placing the substrate close to a mask, exposing it to ultraviolet light, and developing the sample; forming the desired waveguide by depositing Ti on the developed substrate, immersing the substrate in acetone and removing residual photoresist on it; depositing SiO2 on the substrate before thermal diffusion of Ti in the electric furnace so as to prevent out-diffusion of Li2O in the thermal diffusion process.
Abstract translation: 在LiNbO3衬底上旋涂光致抗蚀剂; 将基板放置在靠近掩模的位置，将其暴露于紫外线并显影样品; 通过在显影的基底上沉积Ti形成期望的波导，将基底浸入丙酮中并除去其上残留的光致抗蚀剂; 在电炉内Ti扩散之前，在基板上沉积SiO2，以防止热扩散过程中Li2O的扩散。
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