Abstract:
PURPOSE: A p-type transparent oxide semiconductor, a transistor having the same, and a method for manufacturing the same are provided to have high transmittance necessary for transparent display production and to be used for various semiconductor devices including a transparent flexible substrate. CONSTITUTION: An insulating layer (11) is formed on a gate substrate (10). A channel layer (12) including a p-type transparent oxide semiconductor is formed on the insulating layer. The p-type transparent oxide semiconductor includes a tin oxide compound. A source electrode (13) and a drain electrode (14) are formed on the insulating layer. The source electrode is separated from the drain electrode. [Reference numerals] (10) Gate substrate; (11) Insulating layer; (12) Channel layer; (13) Source electrode; (14) Drain electrode
Abstract:
본 발명은 p형 산화아연(ZnO) 박막 제조방법 및 이를 이용한 산화아연계 광전소자 제조방법에 관한 것으로서, Ⅴ족 원소가 도프된 p형 ZnO 박막을 형성하는 단계와, 상기 p형 ZnO 박막의 산소결핍에 의한 n형 성질이 보상되도록, 산소분위기에서 상기 p형 ZnO 박막을 열처리하는 단계를 포함하는 p형 ZnO 박막 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기한 p형 ZnO 박막 제조방법을 채용한 광전소자 제조방법도 제공한다. 산화아연(ZnO), 열처리(annealing), 비소(As), 광전소자(opto-electronic device), 발광 다이오드(light emitting diode: LED), 레이저 다이오드(laser diode)
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본 발명은 p형 산화아연(ZnO) 박막 제조방법 및 이를 이용한 산화아연계 광전소자 제조방법에 관한 것으로서, Ⅴ족 원소가 도프된 p형 ZnO 박막을 형성하는 단계와, 상기 p형 ZnO 박막의 산소결핍에 의한 n형 성질이 보상되도록, 산소분위기에서 상기 p형 ZnO 박막을 열처리하는 단계를 포함하는 p형 ZnO 박막 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기한 p형 ZnO 박막 제조방법을 채용한 광전소자 제조방법도 제공한다. 산화아연(ZnO), 열처리(annealing), 비소(As), 광전소자(opto-electronic device), 발광 다이오드(light emitting diode: LED), 레이저 다이오드(laser diode)
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본 발명은 고품질의 박막을 증착하기 위하여 황산 (H 2 SO 4 ) 용액을 이용하여 사파이어 기판을 전처리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따를 경우 표면이 평탄하고 표면의 평균 조도 (surface RMS roughness)가 0.20 nm 이하로 매우 매끄러우며 피트 (pit)가 없는 우수한 표면을 갖는 기판을 얻을 수 있다. 또한, 이러한 기판을 이용하여 박막을 증착시 기판에 의한 영향을 최소화할 수 있다. 사파이어 기판, 황산, 피트, 평균 조도