公开(公告)号：KR100191126B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019950044162

申请日：1995-11-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김진백 ,  김현우

IPC: C08F216/00

CPC classification number: C08F8/28 ,  C08F8/48 ,  C08F16/06

Abstract: There is a vinyl 4-hydroxybenzal-vinylalcohol-vinyl acetate copolymer, a 4-t-butoxycarbonyloxybenzal-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer and a vinyl 4-t-butoxycarbonyloxybenzal-vinyl 4-hydroxybenzal-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer suitable for photoresist and methods for preparing the same. The latter two polymers contain 4-hydroxybenzal groups all or parts of which are protected with t-butoxycarbonyl group. Superior in transparency, thermal stability, mechanical strength, and adhesiveness to silicon wafer, the photoresists prepared from the protected copolymers can enhance the resolution of fine circuit by virtue of low weight loss upon the thermal treatment after exposure.

公开(公告)号：KR102204873B1

公开(公告)日：2021-01-19

申请号：KR1020190020137

申请日：2019-02-20

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김현우 ,  신태일

IPC: C07C227/20 ,  C07C229/08 ,  B01J31/24

Abstract: 본발명은하이드로포밀화반응을이용한 11-아미노운데칸산또는그의구조이성질체의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는올레산의복분해반응을통해얻은올레핀산에스터로부터폴리아미드의단량체로사용되는아미노운데칸산및 그의구조이성질체를하이드로포밀화, 환원적아민화반응, 가수분해반응을통해제조할수 있으며, 리간드에따라구조이성질체의비율을조절할수 있어, 각이성질체의비율에따라다른물성을갖는다양한폴리아미드를제조할수 있는친환경적인방법이다.

公开(公告)号：KR102139040B1

公开(公告)日：2020-07-29

申请号：KR1020190009085

申请日：2019-01-24

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정기훈 ,  서영현 ,  김현우 ,  양성표

IPC: H04N13/254 ,  H04N13/236 ,  G02B26/08

公开(公告)号：KR101574071B1

公开(公告)日：2015-12-03

申请号：KR1020140111576

申请日：2014-08-26

Applicant: 기초과학연구원 ,  한국과학기술원

Inventor： 김현우 ,  이안수

IPC: C07F9/6584

CPC classification number: C07F9/6584 ,  C07F9/00

Abstract: 본발명은두고리구조를갖는포스포라미다이트및 이의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는상기두고리구조를갖는포스포라미다이트는금속과파이결합력을증가시켜강한파이받개리간드로서활용가능한화합물로, 다이하이드록시벤조페논과다양한일차아민화합물의이민화반응, 환원성아미노화반응및 포스포러스트리아미드화합물과의반응을통해제조된다.

Abstract translation: 本发明涉及双环桥头亚磷酰胺及其制备方法。 更具体地，双环桥头亚磷酰胺是通过增加金属和π的结合力而可以用作强π受体配体的化合物，并且通过各种第一胺化合物与二羟基二苯甲酮的还原胺化反应和 与磷三酰胺化合物反应。

公开(公告)号：KR100646827B1

公开(公告)日：2006-11-23

申请号：KR1020050043529

申请日：2005-05-24

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김세헌 ,  김현우 ,  정석봉

IPC: H04L12/28

Abstract: A method for selecting an intrusion detection agent of a mobile ad hoc network is provided to monitor the overall network thoroughly and effectively use network resources. Each agent of a network transmits a control packet to neighbor agents in order to recognize the amount of battery energy of the neighbor agents. Each agent compares an amount of its battery energy with that of neighbor agents. Each agent selects an agent having the largest amount of battery energy. Each agent transmits a select message to the selected agent. The selected agent performs intrusion detection of the network.

Abstract translation: 提供了一种选择移动ad hoc网络的入侵检测代理的方法，以全面监控整个网络并有效利用网络资源。 网络的每个代理向邻居代理发送控制分组以识别邻居代理的电池能量。 每个代理都会将其电池能量与相邻代理的电量进行比较。 每个代理选择具有最大电池能量的代理。 每个代理向选定的代理发送选择消息。 所选代理执行网络的入侵检测。

公开(公告)号：KR100592492B1

公开(公告)日：2006-06-23

申请号：KR1020040021767

申请日：2004-03-30

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 한선기 ,  신항식 ,  김현우

IPC: B09B3/00 ,  C02F11/04 ,  C02F3/28

Abstract: 본 발명은 연속회분식 고온/중온 이단 혐기소화 공정을 이용한 유기성 폐기물의 처리방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 가수분해미생물, 산발효미생물, 메탄생성미생물을 포함하는 혐기성 미생물을 직렬로 연결된 고온 반응조 및 중온 반응조에 각각 식종하고 이들 혐기성 미생물의 공생관계를 유지하도록 하여 유기성 폐기물을 처리하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 연속회분식 고온/중온 이단 혐기소화 공정을 이용한 유기성 폐기물의 처리방법은
(1)혐기성 미생물이 함유된 고온 반응조에 유기성 폐기물을 유입시켜 혐기성 미생물과 반응시키는 단계와,
(2)혐기성 미생물이 함유된 중온 반응조에 상기 (1)단계 처리후의 상등액을 유입시켜 혐기성 미생물과 반응시키는 단계와,
(3)상기 (2)단계 후 중온 반응조에서 처리된 유기성 폐기물을 유출시키는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR100269513B1

公开(公告)日：2000-10-16

申请号：KR1019970051623

申请日：1997-10-08

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김현우 ,  김진백

IPC: C07F7/12 ,  G03F7/07

CPC classification number: G03F7/0758 ,  G03F7/0755

Abstract: PURPOSE: Provided are photoresist compositions containing novel acrylate or methacrylate derivatives and their polymerization products. These polymers are different from the existing polymer matrix of photoresist, in that it is the chemical amplification type by the light and they, under light exposure, induce the differences of silicone contents by the dissociation of the silicone containing side-chains. The differences in silicone content bring about the differences in etching velocity in oxygen plasma and accordingly dry developing is possible. CONSTITUTION: The photoresist composition is characterized by comprising acrylate or methacrylate that contains homopolymer, copolymer, and terpolymer of organic metals represented by the chemical formulae I, II, and III where R1 is hydrogen or C1¯C4 alkyl group, R2¯R11 are independently hydrogen, C1¯C4 alkyl group, C1¯C4 alkoxy group, phenyl, phenoxy or -MR'3, further R' is C1¯C4 alkyl, C1¯C4 alkoxy, phenyl, benzyl or phenoxy, M represents Si, Ge, Sn or OSi. Also, the photoresist composition comprises onium compounds as photo acid generator (PAG).

Abstract translation: 目的：提供含有新型丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯衍生物及其聚合产物的光致抗蚀剂组合物。 这些聚合物与现有的光致抗蚀剂聚合物基质不同，因为它是通过光的化学放大型，并且它们在光照下通过含硅氧烷侧链的解离而引起硅氧烷含量的差异。 硅含量的差异导致氧等离子体中蚀刻速度的差异，因此干显影是可能的。 构成：光致抗蚀剂组合物的特征在于包含丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，其含有由化学式I，II和III表示的有机金属的均聚物，共聚物和三元共聚物，其中R 1是氢或C 1 -C 4烷基，R 2 -R 11独立地是 氢，C 1 -C 4烷基，C 1 -C 4烷氧基，苯基，苯氧基或-MR 3，另外R'是C 1 -C 4烷基，C 1 -C 4烷氧基，苯基，苄基或苯氧基，M表示Si，Ge，Sn 或OSi。 此外，光致抗蚀剂组合物包含作为光酸产生剂（PAG）的鎓化合物。

公开(公告)号：KR1019990031068A

公开(公告)日：1999-05-06

申请号：KR1019970051623

申请日：1997-10-08

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김현우 ,  김진백

IPC: C07F7/12 ,  G03F7/07

Abstract: 본 발명은 신규한 아크릴레이트(acrylate) 또는 메타크릴레이트(metacrylate) 유도체 및 이들의 고분자 중합체를 함유하는 포토레지스트(photoresisit)에 관한 것이다.
상기 중합체는 기존의 포토레지스트의 매트릭스 고분자로 사용되는 것들과는 달리, 광산에 의해 화학증폭형으로 실리콘을 함유하고 있는 측쇄가 탈리되어 노광부와 비노광부의 실리콘 함량이 차이를 유도할 수 있다. 실리콘 함량의 차이는 산소 플라즈마에 대해 에칭속도의 차이를 일으키고 이것에 의해 건식현상이 가능하다.
본 발명에 의한 포토레지스트 물질을 미세가공기술에 적용하면 아스펙트비가 증가함에 따라 발생하는 패턴의 변형이나 붕괴를 막을 수 있다는 건식현상의 일반적인 장점 외에 기존의 실릴화(silylation)나 다층레지스트 시스템(multi-level resist system)과 같은 건식현상형 레지스트에 비해 공정이 간단하고 용매를 전해 사용하지 않기 때문에 이로 인한 경제적인 이득이 크다고 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970027127A

公开(公告)日：1997-06-24

申请号：KR1019950044162

申请日：1995-11-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김진백 ,  김현우

IPC: C08F216/00

Abstract: 본 발명은 폴리(비닐 알코올)을 4-히드록시벤즈알데히드로 아세탈화시킨 비닐 4-히드록시벤잘-비닐 알코올-비닐 아세테이트 공중합체, 전기 공중합체의 4-히드록시벤잘기의 전부 또는 일부를 t-부톡시카르보닐기로 보호한 비닐 4-t-부톡시카르보닐옥시벤잘-비닐 알코올-비닐 아세테이트 공중합체(공중합체(II))또는 비닐 4-t-부톡시카르보닐옥시벤잘-비닐 4-히드록시벤잘-비닐 알코올-비닐 아세테이트 공중합체(공중합체(III)), 그들의 제조방법 및 그들 중합체의 포토레지스트로서의 용도에 관한 것이다. 상기 공중합체(II) 및 (III)를 포토레지스트로서 미세가공기술에 이용하면, 투명성과 열적안정성, 기계적 강도, 실리콘 웨이퍼에 대한 접착성 및 노광과 열처리 시의 적은 무게 손실로 미세회로의 해상도를 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR102233295B1

公开(公告)日：2021-03-29

申请号：KR1020190108590

申请日：2019-09-03

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정기훈 ,  김현우 ,  서영현

IPC: H04N13/254 ,  H04N13/236

Abstract: 본발명의일 실시예에따른, 스트라이프패턴을가지는가변구조광생성장치는변조된레이저광을출력하는광원부; 상기레이저광을반사하고서로직교하는양 축을가지는미러; 및상기미러의구동신호및 상기레이저광의변조신호를생성하여상기광원부및 상기미러에송신하는제어부;를포함하며, 상기변조신호의주파수를제어하여스트라이프패턴구조광을생성하는것을특징으로한다.