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公开(公告)号:KR101858945B1
公开(公告)日:2018-05-23
申请号:KR1020160117881
申请日:2016-09-13
Applicant: 한국기계연구원 , 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , B82Y40/00
Abstract: 고종횡비금속구조제조방법은제1 베이스기판상에씨드층을형성한다. 상기씨드층상면에상기씨드층을외부로노출하는홀(hole)을포함하도록나노마스크를형성한다. 상기씨드층으로부터상기홀을관통하여나노로드(nano rod)들을성장시킨다. 상기나노로드들사이의이격공간을금속으로채운다. 상기씨드층으로부터상기나노로드들을제거하여홀을포함하는금속구조를형성한다.
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公开(公告)号:KR101803523B1
公开(公告)日:2017-11-30
申请号:KR1020150111795
申请日:2015-08-07
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02F1/01 , G02F1/017 , G02F1/1333
Abstract: 본발명은같은색깔을지니는양자점들을하나의집합체로형성하여간섭을최소화시킨디스플레이에사용되는양자점집합체의집합방법에관한것으로, 내측튜브와외측튜브로구성된이중튜브를제조하는단계; 콜로이드분산액에양자점이분산된양자점잉크를상기내측튜브에수용시키는단계; 상기외측튜브에계면활성제를포함하는물 수용액을수용시키는단계; 상기내측튜브및 외측튜브에압력을가하여각각수용된양자점잉크및 물을분사하여상기양자점잉크를액적으로생성하는단계; 및상기액적형태의양자점잉크를자외선영역을통과시켜경화시키는단계;를포함하여구성되어, 같은색깔을지니는양자점들을하나의집합체로형성하여간섭을최소화시킴으로서양자점들의에너지가색의간섭에의해분산되지않아에너지효율이향상되며간섭을최소화시킴으로서양자점들의색이간섭에의해발생하는깜박거림현상을감소시키는효과가있다.
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公开(公告)号:KR1020170125245A
公开(公告)日:2017-11-14
申请号:KR1020160055480
申请日:2016-05-04
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/311 , H01L29/06 , H01L21/033 , H01L21/308 , H01L21/768 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/31144 , H01L21/0337 , H01L21/3065 , H01L21/308 , H01L21/76811 , H01L29/0665
Abstract: 고세장비나노패턴제조방법에서몰드패턴이형성된전사기판상에에치마스크를증착한다. 상기몰드패턴에대하여측벽식각을수행한다. 상기몰드패턴의상면에금속을증착한다. 타겟기판상에전사용접착층을도포한다. 상기몰드패턴에증착된금속을상기전사용접착층으로전사한다.
Abstract translation: 在高科技设备纳米图案制造方法中,蚀刻掩模沉积在其上形成模型图案的转印基板上。 在模具图案上执行侧壁蚀刻。 金属沉积在模具图案的上表面上。 可转印的粘合剂层被涂覆在目标基板上。 沉积在模具图案上的金属被转移到可转印的粘合剂层。
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公开(公告)号:KR1020170017615A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:KR1020150111795
申请日:2015-08-07
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02F1/01 , G02F1/017 , G02F1/1333
Abstract: 본발명은같은색깔을지니는양자점들을하나의집합체로형성하여간섭을최소화시킨디스플레이에사용되는양자점집합체의집합방법에관한것으로, 내측튜브와외측튜브로구성된이중튜브를제조하는단계; 콜로이드분산액에양자점이분산된양자점잉크를상기내측튜브에수용시키는단계; 상기외측튜브에계면활성제를포함하는물 수용액을수용시키는단계; 상기내측튜브및 외측튜브에압력을가하여각각수용된양자점잉크및 물을분사하여상기양자점잉크를액적으로생성하는단계; 및상기액적형태의양자점잉크를자외선영역을통과시켜경화시키는단계;를포함하여구성되어, 같은색깔을지니는양자점들을하나의집합체로형성하여간섭을최소화시킴으로서양자점들의에너지가색의간섭에의해분산되지않아에너지효율이향상되며간섭을최소화시킴으로서양자점들의색이간섭에의해발생하는깜박거림현상을감소시키는효과가있다.
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公开(公告)号:KR1020160118820A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:KR1020150047589
申请日:2015-04-03
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명의실시예에따른 RF MEMS 스위치는서로마주하는제1 기판및 제2 기판, 제1 기판과상기제2 기판사이에위치하며상기제1 기판과상기제2 기판사이에밀봉된공간을형성하는절연부재, 공간내의상기제1 기판위에위치하는제1 전극, 공간내의상기제2 기판위에위치하며상기제1 전극과마주하는제2 고체전극, 제1 전극위에위치하는액체금속층, 제2 전극위에위치하는나노전극을포함하고, 액체금속층과상기나노전극은이격되어위치한다.
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公开(公告)号:KR101635138B1
公开(公告)日:2016-06-30
申请号:KR1020140119082
申请日:2014-09-05
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 다단복합스탬프의제작방법및 다단복합스탬프를이용한위조방지필름의제작방법에서, 상기다단복합스탬프의제작방법은트랜치(trench)를포함하는몰드패턴을형성하는단계, 상기몰드패턴상에금속을증착하는단계, 상기몰드패턴의트랜치에만금속을잔류시키는단계, 상기잔류한금속을클러스터링(clustering)시키는단계, 상기클러스터링된금속으로상기트랜치상에미세홀을형성하는단계, 및상기클러스터링된금속을제거하는단계를포함한다.
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公开(公告)号:KR1020160029480A
公开(公告)日:2016-03-15
申请号:KR1020140119083
申请日:2014-09-05
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274
Abstract: 금속나노패턴제조방법에서기판의상면에금속층을형성한다. 개구부가형성된템플릿(template)을상기기판상에고온, 고압으로합착시킨다. 상기템플릿이상기기판의금속층에고온, 고압으로합착함에따라, 상기금속층의금속을클러스터링(clustering)시킨다. 상기개구부에대응되는위치의금속이클러스터링되며상기기판상에잔류하여, 금속패턴을형성한다.
Abstract translation: 本发明涉及金属纳米图案的制造方法。 金属层形成在基板的上表面上; 具有形成在其上的开口部的模板在高温高压下紧固在基板上; 允许金属层的金属聚集,同时模板在高温高压下紧固在基板的金属层上; 并且在与开口部分对应的位置处的金属聚集并保留在基板上以形成金属图案。 根据本发明的一个实施例,模板的开口部分可以以各种方式布置,从而容易地形成金属图案的布置和点结构。
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公开(公告)号:KR101486890B1
公开(公告)日:2015-01-28
申请号:KR1020130005007
申请日:2013-01-16
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 이종접합을 이용한 구조물 제조방법 및 이를 이용한 에너지 소자에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 이종접합을 이용한 구조물 제조방법은 제1기판에 구조물을 형성하는 구조물형성단계; 접합매개층을 상기 구조물과 이종재료의 물질로 이루어지는 제2기판에 도포하는 접합매개층도포단계; 상기 구조물과 상기 접합매개층을 접합시키는 접합단계; 상기 구조물이 상기 제2기판에 남겨지도록 상기 제1기판을 분리하는 분리단계; 및 상기 구조물 형성단계와 상기 분리단계 사이에는 상기 분리단계에서 상기 구조물이 상기 제1기판으로부터 용이하게 분리되도록 상기 제1기판을 습식식각용액에 침지시켜 상기 구조물의 표면에 크랙(crack)을 형성하는 크랙형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 구조물과 접합매개층의 접촉면 또는 접합증진층과 접합매개층의 접촉면에서 원소가 확산되어 합금을 이룬 뒤 접합매개층을 고화시킴으로써 구조물과 제2기판 간의 접합강도가 향상되는 이종접합을 이용한 구조물 제조방법이 제공된다.-
公开(公告)号:KR101449272B1
公开(公告)日:2014-10-08
申请号:KR1020130044343
申请日:2013-04-22
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: G02B5/008 , B32B37/06 , B82Y20/00 , G09F3/10 , Y10T156/1031 , Y10T156/1041
Abstract: The present invention relates to an embedded pattern manufacturing method using a transfer-based imprinting process. The embedded pattern manufacturing method using a transfer-based imprinting process comprises: an adhesion layer laminating step of laminating an adhesion layer made up of photo-curable resins on a substrate; a stamp preparing step of preparing a stamp equipped with a protrusion pattern on which a thin film layer is deposited on an external surface; a thin layer transferring step of selectively transferring the thin layer on the protrusion pattern to the adhesion layer by pressurizing the stamp in conditions in which the thin film layer of the protrusion pattern and the adhesion layer are in contact; a hardening step of irradiating ultraviolet light so that the adhesion layer is hardened; and a releasing step of releasing the stamp, and is characterized by arranging the thin film layer transferred to an area embedded by stamp and the adhesion layer which is not pressurized by the stamp in the thin film layer transferring layer on an identical plane. Accordingly, the present invention provides the embedded pattern manufacturing method using a transfer-based imprinting process capable of manufacturing the embedded pattern of a uniform shape.
Abstract translation: 本发明涉及使用基于转印的印刷方法的嵌入图案制造方法。 使用基于转印的压印方法的嵌入图案制造方法包括:将由光固化树脂构成的粘合层层压在基板上的粘合层层压步骤; 印模准备步骤,准备装有突起图案的印模,在外表面上沉积有薄膜层; 通过在突起图案和粘合层的薄膜层接触的条件下对印模进行加压来选择性地将突起图案上的薄层转移到粘合层的薄层转印步骤; 照射紫外线使得粘附层硬化的硬化步骤; 以及释放印模的释放步骤,其特征在于将薄膜层转印到由印模嵌入的区域和在薄膜层转印层中在同一平面上未被印模加压的粘合层。 因此,本发明提供了使用能够制造均匀形状的嵌入图案的基于转印的印刷工艺的嵌入图案制造方法。
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公开(公告)号:KR101421047B1
公开(公告)日:2014-07-22
申请号:KR1020130026170
申请日:2013-03-12
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: C01B33/021 , B82B3/00 , C01P2004/13
Abstract: The present invention relates to a method of manufacturing a silicone nanotube using metal nanopatterning and chemical etching. The method of manufacturing a silicone nanotube using metal nanopatterning and chemical etching given in the present invention includes: a preparation step of preparing a silicone layer; a stacking step of stacking a metal layer, on which a tube-shaped intaglio pattern is formed, on the top of the silicone layer; and an etching step of etching the silicone layer through a metal-assisted chemical etching process using the patterned metal to manufacture a tube-shaped silicone nanotube. Therefore, according to the present invention, provided is the method of manufacturing a silicone nanotube using metal nanopatterning and chemical etching which enables a large-area nanotube to be manufactured with reduced costs through a relatively-simple process.
Abstract translation: 本发明涉及使用金属纳米图案和化学蚀刻制造硅氧烷纳米管的方法。 使用本发明中提供的金属纳米图案和化学蚀刻制造硅氧烷纳米管的方法包括:制备硅氧烷层的制备步骤; 将形成有管状凹版图案的金属层层叠在硅氧烷层的顶部上的层叠工序; 以及通过使用图案化金属的金属辅助化学蚀刻工艺蚀刻硅氧烷层以制造管状硅氧烷纳米管的蚀刻步骤。 因此,根据本发明,提供了使用金属纳米图案和化学蚀刻制造硅氧烷纳米管的方法,其能够通过相对简单的工艺以降低成本制造大面积纳米管。
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