公开(公告)号：KR101211187B1

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：KR1020110005210

申请日：2011-01-19

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 이지영 ,  이기태 ,  박성희 ,  김경남 ,  정영욱

IPC: B65H20/02 ,  B65H77/00 ,  H01S3/00

Abstract: 본발명은베이스, 상기베이스에, 레이저가집속되어입자를발생시키는테이프를장착토록제공되되, 회전하여상기테이프를이동시키는한 쌍의테이프권취부및 상기한 쌍의테이프권취부사이에, 상기테이프를가압하여테이프의장력을조절또는유지토록제공되는장력제어수단을포함하며, 상기베이스에, 상기한 쌍의테이프권취부사이에서테이프의집속면을형성토록제공되는보조회전부를더 포함하는것을특징으로하는레이저집속테이프마운팅장치에관한것으로서, 본발명에의하면, 나노미터단위의매우얇은두께의테이프를안정적으로사용할수 있고, 다양한두께의필름의사용할수 있으며, 재료비용이절감되어경제성이향상되는효과가있다.

公开(公告)号：KR1020120083958A

公开(公告)日：2012-07-27

申请号：KR1020110005210

申请日：2011-01-19

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 이지영 ,  이기태 ,  박성희 ,  김경남 ,  정영욱

IPC: B65H20/02 ,  B65H77/00 ,  H01S3/00

CPC classification number: B65H23/048 ,  B65H18/10 ,  B65H2402/54 ,  B65H2701/37

Abstract: PURPOSE: A mounting device for a laser focusing tape is provided to adjust or maintain the tension of a tape by pressurizing the tape with a tension adjusting device and to stably use the tape having very thin thickness of nanometer unit. CONSTITUTION: A mounting device for a laser focusing tape comprises a base(10), a pair of tape winding parts(20,22), and a tension adjusting device(30). The tape winding parts mount a tape, in which laser is focused to generate particles, on the base and moves the tape while rotating. The tension adjusting device is provided between the pair of tape winding parts to pressurize the tape, thereby adjusting or maintaining the tension of the tape.

Abstract translation: 目的：提供一种用于激光聚焦带的安装装置，以通过用张力调节装置对带进行加压来调节或保持带的张力，并稳定地使用具有非常薄的纳米单位厚度的带。 构成：用于激光聚束带的安装装置包括基座（10），一对带卷绕部分（20,22）和张力调节装置（30）。 磁带绕组部分安装一个胶带，激光在其中被聚焦以产生颗粒，并在旋转的同时移动磁带。 张力调节装置设置在一对带卷绕部之间以对带进行加压，由此调节或保持带的张力。

公开(公告)号：KR100431587B1

公开(公告)日：2004-05-17

申请号：KR1020020025380

申请日：2002-05-08

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 박성희 ,  고도경 ,  김현수 ,  임권 ,  차병헌

IPC: G02B27/10

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for homogenizing laser beam by using a split-recombination method are provided to increase the homogeneity by compensating the movement of a center axis between the superposed beams. CONSTITUTION: An apparatus for homogenizing laser beam by using a split-recombination method includes a beam splitter(1), the first prism(2), the first and the second total reflection mirrors(4,5), the second prism(3), and a beam refractor(6). The beam splitter(1) is used for dividing the incident beam(7) into the first and the second beams(9,8). The first beam(9) penetrates the beam splitter(1) and the second beam(8) is reflected by the beam splitter(1). The first prism(2) is used for dividing the second beam(8) into the third and the fourth beams(10,11). The first and the second total reflection mirrors(4,5) are used for inverting the waveform of the third beam(10) and the waveform of the fourth beam(11). The second prism(3) is used for recombining the inverted beams(12,13). The beam refractor(6) is used for transmitting the recombined beam(14), reflecting the recombined beam(14) by means of the beam splitter(1), supposing the reflected beam on the first beam(9), and adjusting a center axis of the supposed beam(15) to the center axis of the first beam(9).

Abstract translation: 目的：提供一种通过使用分裂复合方法使激光束均匀化的设备和方法，以通过补偿重叠光束之间的中心轴的移动来提高均匀性。 本发明的目的在于提供一种利用分裂复合方法使激光束均匀化的装置，其包括分束器（1），第一棱镜（2），第一和第二全反射镜（4,5），第二棱镜（3） ，以及光束折射器（6）。 分束器（1）用于将入射光束（7）分成第一和第二光束（9,8）。 第一光束（9）穿过分束器（1），第二光束（8）被分束器（1）反射。 第一棱镜（2）用于将第二光束（8）分成第三和第四光束（10,11）。 第一和第二全反射镜（4,5）用于反转第三光束（10）的波形和第四光束（11）的波形。 第二棱镜（3）用于重新组合反转光束（12,13）。 所述光束折射器（6）用于透射所述复合光束（14），通过所述分束器（1）反射所述复合光束（14），假设所述第一光束（9）上的所述反射光束，以及调节中心 假想光束（15）的轴线到第一光束（9）的中心轴线。

公开(公告)号：KR1020030087355A

公开(公告)日：2003-11-14

申请号：KR1020020025380

申请日：2002-05-08

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 박성희 ,  고도경 ,  김현수 ,  임권 ,  차병헌

IPC: G02B27/10

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for homogenizing laser beam by using a split-recombination method are provided to increase the homogeneity by compensating the movement of a center axis between the superposed beams. CONSTITUTION: An apparatus for homogenizing laser beam by using a split-recombination method includes a beam splitter(1), the first prism(2), the first and the second total reflection mirrors(4,5), the second prism(3), and a beam refractor(6). The beam splitter(1) is used for dividing the incident beam(7) into the first and the second beams(9,8). The first beam(9) penetrates the beam splitter(1) and the second beam(8) is reflected by the beam splitter(1). The first prism(2) is used for dividing the second beam(8) into the third and the fourth beams(10,11). The first and the second total reflection mirrors(4,5) are used for inverting the waveform of the third beam(10) and the waveform of the fourth beam(11). The second prism(3) is used for recombining the inverted beams(12,13). The beam refractor(6) is used for transmitting the recombined beam(14), reflecting the recombined beam(14) by means of the beam splitter(1), supposing the reflected beam on the first beam(9), and adjusting a center axis of the supposed beam(15) to the center axis of the first beam(9).

Abstract translation: 目的：提供一种使用分裂复合法均匀化激光束的装置和方法，以通过补偿叠加光束之间的中心轴的移动来增加均匀性。 构成：通过使用分裂复合方法使激光束均匀化的装置包括分束器（1），第一棱镜（2），第一和第二全反射镜（4,5），第二棱镜（3） ，和射束折射器（6）。 分束器（1）用于将入射光束（7）分成第一和第二光束（9,8）。 第一光束（9）穿透分束器（1），第二光束（8）被分束器（1）反射。 第一棱镜（2）用于将第二光束（8）分割成第三和第四光束（10,11）。 第一和第二全反射镜（4,5）用于反转第三光束（10）的波形和第四光束（11）的波形。 第二棱镜（3）用于重组反向光束（12,13）。 光束折射器（6）用于传输重组光束（14），通过分束器（1）反射重新组合的光束（14），假设反射光束在第一光束（9）上，并且调节中心 假设光束（15）的轴线相对于第一光束（9）的中心轴线。

公开(公告)号：KR101360852B1

公开(公告)日：2014-02-11

申请号：KR1020120093102

申请日：2012-08-24

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 정영욱 ,  이기태 ,  박성희 ,  신상인 ,  장규하 ,  문정호 ,  니콜라이비노쿠로프

IPC: H05H13/04

CPC classification number: H01F7/0221 ,  H01F1/053 ,  H05H7/04

Abstract: The object of the present invention is to provide a variable-period permanent magnet undulator which is applicable to not only a planar undulator but also a helical undulator. More particularly, the object of the present invention is to provide a variable-period permanent magnet capable of easily and precisely controlling the period of the permanent magnet through a structure to efficiently widen a distance between the permanent magnets by a repulsive force between the permanent magnets by the magnetic flux saturation of a ferromagnetic body interposed between the permanent magnets in the undulator on which the permanent magnet and the ferromagnetic body are alternatively arranged.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种可变周期的永久磁铁起波器，其不仅可应用于平面波动器，而且适用于螺旋形波动器。 更具体地，本发明的目的是提供一种可变周期永磁体，其能够容易且精确地控制通过结构的永磁体的周期，以通过永磁体之间的排斥力有效地加宽永磁体之间的距离 通过交替布置永磁体和铁磁体之间的波动器中的永磁体之间的铁磁体的磁通饱和度。

公开(公告)号：KR101331493B1

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：KR1020120057342

申请日：2012-05-30

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 장규하 ,  김경남 ,  이기태 ,  박성희 ,  김하나 ,  정영욱

IPC: H01J27/02

Abstract: The present invention relates to a method of manufacturing a multi-layer target including a vacuum layer with a narrow vacuum gap for the laser induced, specifically, by this the step five (5 step) forming the vacuum layer in the metal layer intervening space the side in which the step four (4 step), patterning the photoresist layer of the first substrate and the metal layer of the second substrate are formed in which the photoresist layer is formed on the upper part of the metal layer of the step three (3 step). The first substrate manufacturing the second substrate with the step one and step two is patterning the opposite surface of the side in which the metal layer is formed from the previous step one and manufactures the first substrate, and step two and the same method generate the metal layer in one side of the substrate or the second substrate. According to the invention, the double-layer target can be easily manufactured from the micro-electromechanical system (MEMS) technology, and it is used for manufacturing the conventional semiconductor processes. The each thickness of the double-layer target as well as the energy spectrum of the ion beam particle to generate can be controlled by the invention. [Reference numerals] (1) Silicon substrate;(10) Double layer target including a vacuum layer;(2) Spread a metal film material;(3) Aluminum (masking material) deposition;(4) Photoresist deposition;(5) Photolithography;(6) Photoresist development;(7) Etch an aluminum layer;(8) Etch the silicon substrate-DRIE;(9) Photoresist + Photolithography;(AA) Make two sheets

Abstract translation: 本发明涉及一种制造多层靶的方法，该多层靶包括用于激光诱发的具有窄真空间隙的真空层，具体地说，通过在金属层中间空间中形成真空层的步骤5（5步骤） 形成步骤四（4步骤），图案化第一基板的光致抗蚀剂层和第二基板的金属层，其中光致抗蚀剂层形成在步骤三（3）的金属层的上部 步）。 用第一步和第二步制造第二衬底的第一衬底是从前一步骤中形成其中形成金属层的一侧的相反表面并制造第一衬底，并且步骤二和相同的方法产生金属 层在基板的一侧或第二基板上。 根据本发明，双层靶可以容易地从微机电系统（MEMS）技术制造，并且用于制造常规的半导体工艺。 通过本发明可以控制双层靶的每个厚度以及所产生的离子束粒子的能谱。 （1）硅衬底;（10）包括真空层的双层靶;（2）扩展金属膜材料;（3）铝（掩模材料）沉积;（4）光刻胶沉积;（5）光刻 ;（6）光刻胶显影;（7）蚀刻铝层;（8）蚀刻硅衬底-DRIE;（9）光刻胶+光刻;（AA）

公开(公告)号：KR100905992B1

公开(公告)日：2009-07-02

申请号：KR1020070080012

申请日：2007-08-09

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 예권해 ,  정영욱 ,  이기태 ,  박성희 ,  차용호 ,  이지영 ,  이용우

IPC: G01R29/24

Abstract: 본 발명은 에너지 측정을 위한 파라데이컵에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 파라데이컵 일측 단부에 입사된 고에너지 빔 중 미소량이 통과하도록 미세 개구를 형성시켜 에너지 측정장치에서 고에너지 입자의 에너지를 측정할 수 있는 기능이 부가된 파라데이컵을 제공하기 위한 것이다.
그 기술적 구성은 대전된 고에너지 빔에 포함된 고에너지 입자의 에너지 측정을 위하여, 관통형성된 미세 개구부를 포함하는 입자 포집체와, 상기 입자 포집체에서 포집된 입자의 전하량 측정을 위해 기준 전위를 형성하도록 구비된 접지체와, 상기 입자 포집체와 접지체 간의 절연을 위하여 구비된 절연체와, 상기 각 구성 요소에서 발생된 물질의 외부 방출을 막고, 대전된 입자가 상기 접지체로의 충돌을 막는 차폐 하우징을 포함하는 것을 특징으로 한다.
파라데이컵, 에너지, 전하량, 형상, 미세 개구, 분광기, 에너지 분포

公开(公告)号：KR101872699B1

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：KR1020160145554

申请日：2016-11-03

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 장규하 ,  정영욱 ,  이기태 ,  박성희

IPC: H01S1/00 ,  H01J25/00 ,  H03B17/00

Abstract: 본발명은전자기파발생장치에관한것으로, 전자빔을방출하는전자빔형성장치, 및전자빔형성장치에서방출된전자빔이위쪽으로지나가도록구비되고전자빔이진행되는방향에수직으로나란히이격되어돌출형성된복수의돌출벽부를구비하는그레이팅구조물을포함하여구성되고, 그레이팅구조물은, 적어도둘 이상의돌출벽부를포함하여구성되는하나의돌출벽부그룹이복수개 연속되어배치되되전체적으로 2종이상의돌출벽부간 이격거리및 2종이상의돌출벽부두께중 적어도하나이상을가지도록구성되며, 하나의돌출벽부그룹은, 전자빔형성장치가전자빔을방출할때 그상측에개별적으로동일주파수를가지는전자기파를방출하는전자번칭이형성됨으로써, 주기적인구조내에비주기적인소구조를가지는그레이팅구조물을개시하여단일주파수의고출력전자기파를일방향으로발생시킬수 있게한다.

公开(公告)号：KR1020150080397A

公开(公告)日：2015-07-09

申请号：KR1020140063997

申请日：2014-05-27

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 김경남 ,  이기태 ,  박성희 ,  정영욱 ,  장규하 ,  김하나 ,  한병헌

IPC: H01J27/24

CPC classification number: H01J27/24 ,  H01J27/20

Abstract: 본발명은, 레이저가입사되는제 1 타겟층; 상기레이저의진행방향에따라서상기제 1 타겟층의뒤쪽에위치하며, 목표로하는이온빔이생성되는중간층; 및상기중간층을사이에두고상기제 1 타겟층과반대쪽에위치하는제 2 타겟층을포함하는것을특징으로하는레이저유도입자가속을위한필름타겟및 그제작방법에관한것으로서, 본발명에따르면, 제 1 타겟층과제 2 타겟층사이에서목표로하는이온빔이발생함으로써, 레이저선행펄스에의한영향에둔감하여, 레이저선행펄스를감소시키기위한추가적인기술이요구되지않는효과가있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种激光诱导粒子加速用薄膜靶材，其包括：激光器输入的第一靶层，位于激光器的前进方向位于第一靶层后方的中间层，并产生离子束 以及通过插入中间层而被定位成与第一目标层相对的第二目标层及其制造方法。 根据本发明，通过产生作为第一目标层和第二目标层之间的目标的离子束，通过激光预脉冲的影响的不敏感性，不需要用于减少激光预脉冲的附加技术。

公开(公告)号：KR101189168B1

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：KR1020100126923

申请日：2010-12-13

Applicant: 한국원자력연구원

Inventor： 정영욱 ,  박성희 ,  이기태 ,  장규하

IPC: H01S3/08

CPC classification number: H01S1/005

Abstract: 2차원 도파관형 메쉬미러 테라헤르츠 자유전자레이저 공진기를 개시한다. 상기 2차원 도파관형 메쉬미러 테라헤르츠 자유전자레이저 공진기는 금속통의 진공 단열층, 상기 진공 단열층 내부에 외부로부터 액체질소 또는 액체헬륨 등의 초저온 냉각재를 공급받음으로써 극저온 환경에서도 상전도 또는 초전도로 자기장을 발생시키는 전자석 코일로 동작하는 나선형 또는 평면형 언듈레이터(helical or planar undulator), 상기 언듈레이터 내부에 장착되며 초저온으로 냉각되는 2차원 원형 또는 사각형 도파관(cylindrical or rectangular waveguide) 및 상기 2차원 도파관의 전자빔 입사부 및 출구부 각각에 구비되는 메쉬미러를 포함한다.