Abstract:
2차원 도파관형 메쉬미러 테라헤르츠 자유전자레이저 공진기를 개시한다. 상기 2차원 도파관형 메쉬미러 테라헤르츠 자유전자레이저 공진기는 금속통의 진공 단열층, 상기 진공 단열층 내부에 외부로부터 액체질소 또는 액체헬륨 등의 초저온 냉각재를 공급받음으로써 극저온 환경에서도 상전도 또는 초전도로 자기장을 발생시키는 전자석 코일로 동작하는 나선형 또는 평면형 언듈레이터(helical or planar undulator), 상기 언듈레이터 내부에 장착되며 초저온으로 냉각되는 2차원 원형 또는 사각형 도파관(cylindrical or rectangular waveguide) 및 상기 2차원 도파관의 전자빔 입사부 및 출구부 각각에 구비되는 메쉬미러를 포함한다.
Abstract:
본 발명의 목적은 평면형 언듈레이터 뿐 아니라 나선형 언듈레이터에도 적용 가능한, 주기가변 영구자석 언듈레이터를 제공함에 있다. 보다 상세하게는, 본 발명의 목적은 영구자석 및 강자성체가 교번 배치된 형태로 이루어지는 언듈레이터에서, 영구자석 사이에 개재된 강자성체가 자속포화됨으로써 영구자석 간의 척력에 의하여 자석 간 간격이 효과적으로 벌어질 수 있도록 형성된 구조를 통해, 자기장의 주기를 용이하면서도 세밀하게 조절 가능하도록 하는, 주기가변 영구자석 언듈레이터를 제공함에 있다.
Abstract:
가열기와 레이저 간섭계를 이용하여 시편 내부의 결함을 고속으로 검출하는 비접촉식 비파괴 영상 검사 장치가 개시된다. 비접촉식 영상 검사 장치는, 시편의 일면에 주기적으로 반복되는 일정 형태의 열 강도를 갖는 열에너지를 조사하는 가열부, 상기 시편의 길이 방향에서 윗면과 아랫면에 위치하여 상기 시편의 위쪽 방향과 아래쪽 방향에 대해서 고정하도록 일정한 힘으로 상기 시편을 지지하는 스프링 지지부, 상기 시편에서 상기 열에너지가 가해지는 면과 다른 면에 대한 레이저 간섭영상을 생성하는 레이저 간섭부 및 상기 레이저 간섭부에서 생성된 레이저 간섭영상으로부터 결함 영상을 추출하는 신호처리 기능과 화면보여주기 기능 및 상기 가열부의 제어를 담당하는 제어 및 신호처리부를 포함하여 구성된다.
Abstract:
The object of the present invention is to provide a variable-period permanent magnet undulator which is applicable to not only a planar undulator but also a helical undulator. More particularly, the object of the present invention is to provide a variable-period permanent magnet capable of easily and precisely controlling the period of the permanent magnet through a structure to efficiently widen a distance between the permanent magnets by a repulsive force between the permanent magnets by the magnetic flux saturation of a ferromagnetic body interposed between the permanent magnets in the undulator on which the permanent magnet and the ferromagnetic body are alternatively arranged.
Abstract:
The present invention relates to a method of manufacturing a multi-layer target including a vacuum layer with a narrow vacuum gap for the laser induced, specifically, by this the step five (5 step) forming the vacuum layer in the metal layer intervening space the side in which the step four (4 step), patterning the photoresist layer of the first substrate and the metal layer of the second substrate are formed in which the photoresist layer is formed on the upper part of the metal layer of the step three (3 step). The first substrate manufacturing the second substrate with the step one and step two is patterning the opposite surface of the side in which the metal layer is formed from the previous step one and manufactures the first substrate, and step two and the same method generate the metal layer in one side of the substrate or the second substrate. According to the invention, the double-layer target can be easily manufactured from the micro-electromechanical system (MEMS) technology, and it is used for manufacturing the conventional semiconductor processes. The each thickness of the double-layer target as well as the energy spectrum of the ion beam particle to generate can be controlled by the invention. [Reference numerals] (1) Silicon substrate;(10) Double layer target including a vacuum layer;(2) Spread a metal film material;(3) Aluminum (masking material) deposition;(4) Photoresist deposition;(5) Photolithography;(6) Photoresist development;(7) Etch an aluminum layer;(8) Etch the silicon substrate-DRIE;(9) Photoresist + Photolithography;(AA) Make two sheets
Abstract:
본 발명은 에너지 측정을 위한 파라데이컵에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 파라데이컵 일측 단부에 입사된 고에너지 빔 중 미소량이 통과하도록 미세 개구를 형성시켜 에너지 측정장치에서 고에너지 입자의 에너지를 측정할 수 있는 기능이 부가된 파라데이컵을 제공하기 위한 것이다. 그 기술적 구성은 대전된 고에너지 빔에 포함된 고에너지 입자의 에너지 측정을 위하여, 관통형성된 미세 개구부를 포함하는 입자 포집체와, 상기 입자 포집체에서 포집된 입자의 전하량 측정을 위해 기준 전위를 형성하도록 구비된 접지체와, 상기 입자 포집체와 접지체 간의 절연을 위하여 구비된 절연체와, 상기 각 구성 요소에서 발생된 물질의 외부 방출을 막고, 대전된 입자가 상기 접지체로의 충돌을 막는 차폐 하우징을 포함하는 것을 특징으로 한다. 파라데이컵, 에너지, 전하량, 형상, 미세 개구, 분광기, 에너지 분포