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公开(公告)号：CN102770811B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180010632.0
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70516 , G03F7/70558
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，包括：光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列或其一部分。设置光学传感器装置，所述光学传感器装置相对于光学装置列是可移动的且具有能够使得所述光学传感器装置(936)移动通过光学装置列中的每个光学装置列的投影区域(940)的移动范围以测量光学装置列中的每个光学装置列的束。
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公开(公告)号：CN102763041B
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201180010292.1
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70383 , G03F7/70391
Abstract: 公开了一种光刻设备，包括光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上。聚焦控制器被设置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置(906、920、924、930)，其中聚焦控制器包括聚焦测量装置(942)和聚焦致动器，聚焦测量装置配置成确定参考物体(938)上的聚焦品质，聚焦致动器配置成基于已确定的聚焦品质调整光学装置列的聚焦位置。
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公开(公告)号：CN103597404A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280027886.8
申请日：2012-03-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70191 , G02F1/1303 , G02F1/29 , G03F7/704
Abstract: 在一个实施例中，公开一种光刻设备，包括：调制器，配置成将衬底的曝光区域以根据期望的图案调制的多个束曝光；和投影系统，配置成将经过调制的束投影到衬底上。调制器包括偏转器，用以相对于曝光区域使所述多个束移位。
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公开(公告)号：CN103597404B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201280027886.8
申请日：2012-03-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70191 , G02F1/1303 , G02F1/29 , G03F7/704
Abstract: 在一个实施例中，公开一种光刻设备，包括：调制器，配置成将衬底的曝光区域以根据期望的图案调制的多个束曝光；和投影系统，配置成将经过调制的束投影到衬底上。调制器包括偏转器，用以相对于曝光区域使所述多个束移位。
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公开(公告)号：CN102822749B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201180017276.5
申请日：2011-02-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70491 , G03F7/70883
Abstract: 公开了一种光刻设备，其包括能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列具有：配置成发射所述束的自发射式对比度装置(906)；和配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还可以具有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分。所述光刻设备被构造以通过使用隔室(936)减小围绕光学装置列的移动部分的介质的密度变化对所述束的光学效应，所述隔室(936)提供围绕所述移动部分的基本上封闭的环境。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102844713B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201180010585.X
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 彼得·德亚格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , 埃里克·弗瑞特茨 , 阿尔伯特·德克 , 约翰尼斯·P·F·斯皮尔迪杰克 , 汉瑞克·德曼 , 埃尔温·约翰·范茨韦特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70258 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装置列或其一部分。投影系统还包括可调节构件(936)，用于相对于可移动光学装置列或其一部分调节可移动光学装置列或其一部分中的至少一个透镜(930)的位置。
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公开(公告)号：CN102770810B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201180010603.4
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70475 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 一种光刻设备，包括：两个或更多的光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上，所述两个或更多的光学装置列中的每一个包括用于提供所述束的一个或更多的辐射源（906）和用于将所述束投影到目标部分上的投影系统（920、924、930）；扫描移动致动器，配置成相对于所述两个或更多的光学装置列沿扫描方向以扫描速度移动衬底；和两个或更多的位置测量装置（944），配置成确定相应的两个或更多的光学装置列相对于参考物体（940）的位置。
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公开(公告)号：CN103238113A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201180058558.X
申请日：2011-11-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70216 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70275 , G03F7/70375 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法，具体地提供一种用于控制无掩模光刻设备的聚焦的系统，其中提供将可编程图案形成装置的图像投影到衬底上的投影系统。第一致动器系统配置成沿垂直于投影系统的光轴的方向移动投影系统的多个透镜中的至少一个。还设置辐射束扩束器，配置成将可编程图案形成装置的图像投影到所述透镜上。此外，提供第二致动器系统，配置成沿平行于投影系统的光轴的方向移动辐射束扩束器，以便控制投影到衬底上的图像的聚焦。
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公开(公告)号：CN102844713A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180010585.X
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 彼得·德亚格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , 埃里克·弗瑞特茨 , 阿尔伯特·德克 , 约翰尼斯·P·F·斯皮尔迪杰克 , 汉瑞克·德曼 , 埃尔温·约翰·范茨韦特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70258 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装置列或其一部分。投影系统还包括可调节构件(936)，用于相对于可移动光学装置列或其一部分调节可移动光学装置列或其一部分中的至少一个透镜(930)的位置。
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公开(公告)号：CN102770810A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201180010603.4
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70475 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 一种光刻设备，包括：两个或更多的光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上，所述两个或更多的光学装置列中的每一个包括用于提供所述束的一个或更多的辐射源（906）和用于将所述束投影到目标部分上的投影系统（920、924、930）；扫描移动致动器，配置成相对于所述两个或更多的光学装置列沿扫描方向以扫描速度移动衬底；和两个或更多的位置测量装置（944），配置成确定相应的两个或更多的光学装置列相对于参考物体（940）的位置。
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