-
公开(公告)号：CN111919516B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN201980022585.8
申请日：2019-03-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种控制用于生成EUV辐射的液滴的形成的装置和方法，该装置和方法包括产生被引导至照射区域的激光束和液滴源的布置。液滴源包括离开喷嘴的流体和具有可电致动元件的子系统，该可电致动元件在流体中产生扰动。液滴源产生束流，该束流分裂成液滴，当液滴朝向照射区域行进时，这些液滴又聚结成较大液滴。通过在束流中的液滴尚未完全聚结的点处观察束流来控制该过程。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113874645A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038363.8
申请日：2020-05-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种流体控制设备(100)，包括：结构(120)，限定阀腔、第一流体端口(135)、第二流体端口(140)和第三流体端口(145)，第三流体端口(145)被配置为流体地联接到主体的气密内部(105)；以及柱塞阀(130)，位于阀腔内并且被配置为在第一模式与第二模式之间移动，同时维持主体的气密内部。在第一模式下，柱塞阀打开，使得第一流体流动路径在气密内部与第一流体端口之间打开，并且流体在第一流体端口与气密内部之间自由通过。在第二模式下，柱塞阀关闭，使得第一流体端口与气密内部被柱塞阀阻挡开，并且第二流体流动路径在气密内部与第二流体端口之间打开。
-
公开(公告)号：CN113508645A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202080016743.1
申请日：2020-02-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种控制用于生成EUV辐射的液滴的形成的设备和方法。液滴源包括离开喷嘴的流体和具有在流体中产生扰动的可电致动元件的子系统。液滴源产生流，该流分裂成液滴，当液滴朝向辐照区域前进时，液滴转而聚结成更大的液滴。可电致动元件由具有正弦波分量和方波分量的控制信号驱动。测量和控制各种参数，诸如正弦波分量与方波分量之间的相位差，以使流中未聚结的卫星液滴的形成最小化。
-
公开(公告)号：CN117999856A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202280039881.0
申请日：2022-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 公开了一种毛细管保持系统，该毛细管保持系统包括压力激励套圈，该压力激励套圈是双重密封的并且被配置和布置成使得内部目标材料压力起到增加密封压力的作用。根据一个实施例的另一方面，压力激励套圈被配置和布置成使得毛细管上的密封接触压力更靠近构成喷嘴出口的毛细管自由面5，并因此减小毛细管自由长度，进而增加毛细管的弯曲模式，从而使其不太可能被系统振动激励。
-
公开(公告)号：CN117480868A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202280041058.3
申请日：2022-05-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种系统包括：包括孔口的导管，该孔口被配置为流体地联接到贮存器并且发射熔融的靶材料；致动器，其至少包括第一区和在第一区与孔口之间的第二区，其中第一区和第二区的运动被传递到该导管的内部；以及控制器，其被配置为将第一致动信号施加到第一区并且将第二致动信号施加到第二区。第二致动信号具有比第一致动信号更高的频率。
-
-
-
-
-
Search Results
16
records
(took 0.039 seconds)
