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公开(公告)号:CN113874645B
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202080038363.8
申请日:2020-05-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种流体控制设备(100),包括:结构(120),限定阀腔、第一流体端口(135)、第二流体端口(140)和第三流体端口(145),第三流体端口(145)被配置为流体地联接到主体的气密内部(105);以及柱塞阀(130),位于阀腔内并且被配置为在第一模式与第二模式之间移动,同时维持主体的气密内部。在第一模式下,柱塞阀打开,使得第一流体流动路径在气密内部与第一流体端口之间打开,并且流体在第一流体端口与气密内部之间自由通过。在第二模式下,柱塞阀关闭,使得第一流体端口与气密内部被柱塞阀阻挡开,并且第二流体流动路径在气密内部与第二流体端口之间打开。
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公开(公告)号:CN117203456A
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN202280028790.7
申请日:2022-02-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: F16K13/10
Abstract: 公开了用于激光产生的等离子体辐射源的靶材传输系统的部件和制造这样的部件的方法。可以是例如靶材传输线、冻结阀或限流器或该功能的某种组合的部件由玻璃毛细管体制成,玻璃毛细管体在其两个端部处使用玻璃‑金属密封件密封到相应的金属配件。制造方法涉及加热玻璃毛细管的端部,并且然后将它们形成为符合每个金属配件中的相应通道的内部轮廓并利用每个金属配件中的相应通道的内部轮廓,形成玻璃‑金属密封件。
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公开(公告)号:CN113273314A
公开(公告)日:2021-08-17
申请号:CN201980087171.3
申请日:2019-12-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种用于控制将EUV目标材料引入EUV腔室的装置,其中流限制器的孔口被放置在目标材料通过微滴生成器的流动路径中,例如,在微滴生成器内过滤器的上游位置处。此外,液态锡传感器(例如,传导探针或电负载检测器)可以位于微滴生成器的加热器块的体积中。流限制器可以被配置为附加地用作例如用于过滤器的密封件。因此,流限制器可以被配置为金属盘,该金属盘还可以用作密封垫圈。例如,金属可以是未经退火的钽、钽‑钨合金、经退火的钼、钼‑铼合金、或经退火的铼。
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公开(公告)号:CN108698850A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201780013932.1
申请日:2017-02-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于净化用于EUV光源的靶材料的脱氧系统包括炉子,该炉子具有中央区域和用于以均匀方式加热中央区域的加热器。容器被插入炉子的中央区域,并且坩埚设置在容器内。封闭装置覆盖容器的开口端以形成具有真空和压力能力的密封。该系统还包括气体输入管、气体排出管和真空端口。气体供应网络与气体输入管的一端流动连通地耦合,并且气体供应网络与气体排出管的一端流动连通地耦合。真空网络与真空端口的一端流动连通地耦合。还描述了一种用于净化靶材料的方法和设备。
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