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公开(公告)号：ES2435468T3
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：ES10701030
申请日：2010-01-26
Applicant: BASF SE
Inventor： SALA MASSIMILIANO , COCCO GIULIA , BASSI ANNA , ROTH MICHAEL , SCHOENING KAI-UWE
IPC: A01G9/14 , C07D487/18 , C08K5/3492
Abstract: Una composición que comprende (a) un polímero natural o sintético sujeto a degradación inducida por la luz, el calor o la oxidación, y (b) 0,001 a 10% en peso, con respecto al peso del polímero natural o sintético de una mezcla de producto quecontiene los componentes b-l, b-ll, b-III y b-IV; siendo el componente b-I un compuesto de fórmula (I) con un grado de sustitución de 1 en una cantidad de 5 a 25partes en peso, siendo el componente b-ll un compuesto de fórmula (I) con un grado de sustitución de 2 en una cantidad de 5 a 35partes en peso, siendo el componente b-III un compuesto de fórmula (I) con un grado de sustitución de 3 en una cantidad de 10 a 45partes en peso y siendo el componente b-IV un compuesto de fórmula (I) con un grado de sustitución de 4 en una cantidad de 10 a 45partes en peso, siendo la suma de las partes de componentes b-l a b-IV 100; siendo la fórmula (I)
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公开(公告)号：MX2013003999A
公开(公告)日：2013-05-20
申请号：MX2013003999
申请日：2011-10-17
Applicant: BASF SE
Inventor： SCHOENING KAI-UWE , MENOZZI EDOARDO
IPC: C08F8/30 , C08F8/32 , C08F222/40 , C08K5/00 , C08K5/3415
Abstract: Un compuesto de la fórmula (I) (ver Fórmula) en donde m y n son independientemente uno del otro un número de 1 a 50, preferiblemente 2 a 20, en particular 2 a 10; la relación de m/n es 1:10 a 10:1, preferiblemente 1:5 a 5:1, en particular 1:3 a 3:1; las unidades recurrentes X pueden tener la misma definición o definiciones diferentes; las unidades recurrentes Y pueden tener la misma definición o definiciones diferentes, y las unidades recurrentes X e Y pueden tener una distribución aleatoria, alternante o de bloque; la unidad recurrente X es un grupo de la fórmula (I-a) (ver Fórmula) y la unidad recurrente Y es un grupo de la fórmula (I-b) (ver Fórmula ) los radicales R1 independientemente uno del otro son alquilo de C1-C12 o cicloalquilo de C3-C12; los radicales R2 y R4 son independientemente uno del otro alquilo de C12-C30; y los radicales R3 son independientemente uno del otro hidrógeno, alquilo de C1-C12 o cicloalquilo de C3-C12.
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公开(公告)号：MX2013003960A
公开(公告)日：2013-05-20
申请号：MX2013003960
申请日：2011-10-17
Applicant: BASF SE
Inventor： SCHOENING KAI-UWE , MENOZZI EDOARDO
IPC: C07D401/14 , C08K5/3492
Abstract: Un compuesto de la fórmula (I) (ver Fórmula (I)) en donde uno o dos radicales de los radicales R1 son independientemente uno del otro alquiloxi de C1-C20 o cicloalquiloxi de C3-C12 y los radicales R1 restantes son independientemente uno del otro hidrógeno, alquilo de C1-C20 o cicloalquilo de C3-C12; los radicales R0 y R2 son independientemente uno del otro hidrógeno, alquilo de C1-C20, cicloalquilo de C3-C12 o un grupo de la fórmula (II-a) (ver Fórmula) con R3 siendo hidrógeno, alquilo de C1-C20, cicloalquilo de C3-C12, alquiloxi de C1-C20 o cicloalquiloxi de C3-C12; Y es alquileno de C2-C12; m es 0 ó 1; n es 1, 2 ó 3; cuando n es 1, X es hidrógeno, alquilo de C1-C20, cicloalquilo de C3-C12 o un grupo de la fórmula (II-a); cuando n es 2, X es alquileno de C2-C12; cuando n es 3, X es un grupo N(Z-)3 con Z siendo alquileno de C2-12.
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公开(公告)号：CA2789067A1
公开(公告)日：2011-09-09
申请号：CA2789067
申请日：2011-03-02
Applicant: BASF SE
Inventor： MEIER HANS-RUDOLF , SCHOENING KAI-UWE , HINDALEKAR SHRIRANG BHIKAJI
IPC: C07D211/94 , C08K5/3435
Abstract: A compound of the formula (A) wherein the radicals R1 are independently of one another methyl, ethyl or n-propyl, and X is C2-C8alkylene or C2-C8alkylene interrupted by sulfur, is useful for stabilizing an organic material against degradation induced by light, heat or oxidation.
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15.发明专利
公开(公告)号：DE60334444D1
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：DE60334444
申请日：2003-02-25
Applicant: BASF SE
Inventor： OEHRLEIN REINHOLD , SCHOENING KAI-UWE , BAISCH GABRIELE , SCHMIDT JEMIMA , BAUDIN GISELE , JUNG TUNJA
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：AT449072T
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：AT07786825
申请日：2007-06-25
Applicant: BASF SE
Inventor： BASBAS ABDEL-ILAH , ALVISI DAVIDE , CORDOVA ROBERT , DIFAZIO MICHAEL PETER , FISCHER WALTER , KOTROLA JOSEPH A , NOCENTINI TIZIANO , ROBBINS JAMES , SCHOENING KAI-UWE
IPC: C07D211/94 , C07B43/00
Abstract: The present invention relates to a novel process for the preparation of specific sterically hindered nitroxyl ethers from their corresponding sterically hindered nitroxyl radicals by reacting it with an aldehyde and a hydroperoxide. This nitroxyl ether formation may be carried out from different starting nitroxyl radicals, which are subsequently further reacted to the desired compounds. The compounds prepared by this process are effective as stabilizers for polymers against harmful effects of light, oxygen and/or heat and as flame-retardants for polymers.
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公开(公告)号：AU2015299175B2
公开(公告)日：2018-12-20
申请号：AU2015299175
申请日：2015-08-03
Applicant: BASF SE
Inventor： HOELZL WERNER , ROTZINGER BRUNO , SCHOENING KAI-UWE , KING III RICK
IPC: C08K5/527 , C07F9/6574 , C08L23/02
Abstract: The invention relates to a composition comprising an organic material susceptible to oxidative, thermal or light-induced degradation and a compound of formula I-P, I-O or I- M. Further embodiments are a compound of formula I-P, I-O or I-M, a process for protection of the organic material by the compound, the use of the compound against degradation of the organic material, an additive composition comprising the compound, a process for manufacturing the compound and an intermediate involved therein.
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18.发明专利
公开(公告)号：MA34669B1
公开(公告)日：2013-11-02
申请号：MA35908
申请日：2013-05-15
Applicant: BASF SE
Inventor： MENOZZI EDOARDO , SCHOENING KAI-UWE
IPC: C07D401/14 , C08K5/3477
Abstract: LA PRÉSENTE INVENTION CONCERNE UN COMPOSÉ DE FORMULE (I), DANS LAQUELLE UN OU DEUX RADICAUX DES RADICAUX R1 REPRÉSENTENT INDÉPENDAMMENT LES UNS DES AUTRES UN GROUPE ALKYL EN C1 À C20-OXY OU CYCLOALKYL EN C3 À C12-OXY ET LES RADICAUX R1 RESTANTS REPRÉSENTENT INDÉPENDAMMENT LES UNS DES AUTRES UN ATOME D'HYDROGÈNE, UN GROUPE ALKYLE EN C1 À C20 OU CYCLOALKYLE C3 À C12; LES RADICAUX R0 ET R2 REPRÉSENTENT INDÉPENDAMMENT LES UNS DES AUTRES UN ATOME D'HYDROGÈNE, UN GROUPE ALKYLE EN C1 À C20, CYCLOALKYLE EN C3 À C12 OU UN GROUPE DE FORMULE (LL-A) AVEC R3 REPRÉSENTANT UN ATOME D'HYDROGÈNE, UN GROUPE ALKYLE EN C1 À C20, CYCLOALKYLE EN C3 À C12, ALKYL EN C1 À C20-OXY OU CYCLOALKYL EN C3 À C12-OXY; Y REPRÉSENTE UN GROUPE ALKYLÈNE EN C2 À C12; M VAUT 0 OU 1; N VAUT 1, 2 OU 3; LORSQUE N VAUT 1, X REPRÉSENTE UN ATOME D'HYDROGÈNE, UN GROUPE ALKYLE EN C1 À C20, CYCLOALKYLE EN C3 À C12 OU UN GROUPE DE FORMULE (LL-A); LORSQUE N VAUT 2, X REPRÉSENTE UN GROUPE ALKYLÈNE EN C2 À C12; LORSQUE N VAUT 3, X REPRÉSENTE UN GROUPE N()3 AVEC Z REPRÉSENTANT UN GROUPE ALKYLE EN C2 À C12.
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公开(公告)号：ES2358690T3
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：ES07786819
申请日：2007-06-25
Applicant: BASF SE
Inventor： SCHOENING KAI-UWE , FISCHER WALTER , BASBAS ABDEL-ILAH , DICHTL ALEXANDER
IPC: C07D211/94 , C07B43/00
Abstract: Un proceso para la preparación de un éter nitroxilo estéricamente impedido que comprende hacer reaccionar un radical nitroxilo estéricamente impedido correspondiente con un radical alquilo, que se forma en la reacción de una cetona, aldehído, dicetona u oligocetona dialdehído u oligoaldehído con un hidroperóxido en la presencia de un catalizador de metal, con la condición que, si el radical nitroxilo estéricamente impedido es 2,2,6,6tetrametilpiperidina-1-oxilo (TEMPO), la cetona no es acetona.
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公开(公告)号：AT501636T
公开(公告)日：2011-04-15
申请号：AT07729848
申请日：2007-06-04
Applicant: BASF SE
Inventor： ELDER STEWART TODD , PREUSS ANDREA , SCHOENING KAI-UWE , MUEHLBAUER KARIN
Abstract: Anti-microbial compositions comprising certain imidazolium ionic liquids and non-ionic or anionic surfactants and methods of using said compositions in the preservation of personal care and cosmetic applications are provided.
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