公开(公告)号：EP3039707A4

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：EP14840489

申请日：2014-08-22

Applicant: CANON KK

Inventor： HONMA TAKESHI ,  ITO TOSHIKI ,  KATO JUN ,  YONEZAWA SHIORI ,  KAWASAKI YOUJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/50 ,  C09D4/00 ,  G02B1/12 ,  G03F7/00 ,  G03F7/031 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3115

CPC classification number: C08F2/50 ,  C09D4/00 ,  G02B1/12 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/031 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/31155 ,  C08F2220/1875 ,  C08F2220/185 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2222/102

Abstract: A curable composition for photoimprint at least includes a polymerizable compound component (A) and a photopolymerization initiator component (B) and satisfies expression (1) and (2): 0.800≦Er10/Er200  (1) 2.55≦Er10  (2) wherein, Er10 represents the reduced modulus (GPa) of a photocured film prepared by exposing a film of the curable composition for photoimprint to light of 10 mJ/cm2; and Er200 represents the reduced modulus (GPa) of a photocured film prepared by exposing a film of the curable composition for photoimprint to light of 200 mJ/cm2.

Abstract translation: 一种光压印用固化性组合物，其特征在于，至少含有聚合性化合物成分（A）和光聚合引发剂成分（B），满足式（1）和（2）：0.800≤Er10/ Er200（1）2.55≤Er10（2） Er10表示通过将用于光压印的可固化组合物的膜暴露于10mJ / cm 2的光而制备的光固化膜的折合模量（GPa） 并且Er200表示通过将用于光压印的可固化组合物的膜暴露于200mJ / cm 2的光而制备的光固化膜的还原模量（GPa）。

公开(公告)号：EP3017460A4

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：EP14846207

申请日：2014-09-05

Applicant: CANON KK

Inventor： ITO TOSHIKI ,  HONMA TAKESHI ,  YONEZAWA SHIORI ,  KAWASAKI YOUJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  B81C1/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/031 ,  C08F222/1006 ,  C08F2222/1013 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029

公开(公告)号：JP2015179806A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2014151404

申请日：2014-07-25

Applicant: CANON KK

Inventor： ITO TOSHIKI ,  HONMA TAKESHI ,  YONEZAWA SHIORI ,  KAWASAKI YOJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/38

Abstract: 【課題】光ナノインプリント法において、位置合わせ精度が高く、かつ、パターン倒れ欠陥の少ない膜の製造方法を提供する。【解決手段】基板の上に光硬化性組成物を配置する配置工程と、前記光硬化性組成物とモールドとを接触させる型接触工程と、前記光硬化性組成物に光を照射して硬化物とする光照射工程と、前記硬化物と前記モールドとを引き離す離型工程と、を有する膜の製造方法であって、前記光照射工程の前に、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う位置合わせ工程を有し、前記光硬化性組成物が、少なくとも成分(A)である重合性化合物と、成分(B)である光重合開始剤と、を有し、照度0.12mW/cm2、露光時間11.0秒の条件で露光した際に前記重合性化合物の重合転化率が50%以上であることを特徴とする。【選択図】図2

公开(公告)号：JP2015179807A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2014151500

申请日：2014-07-25

Applicant: CANON KK

Inventor： HONMA TAKESHI ,  ITO TOSHIKI ,  KATO JUN ,  YONEZAWA SHIORI ,  KAWASAKI YOJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C07C43/11 ,  C07C69/54 ,  C07C225/22 ,  C07C323/47 ,  C07F9/53 ,  C08F2/48

Abstract: 【課題】位置合わせ精度が高く、かつ、パターン倒れ欠陥の少ない光インプリント用組成物及び、それを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】重合性化合物である成分(A)と、光重合開始剤である成分(B)と、を少なくとも有し、下記式(1)および下記式(2)を満たすことを特徴とする光インプリント用組成物。0.800≦̸Er10/Er200(1)2.55GPa≦̸Er10(2)【選択図】図1