公开(公告)号：JP2015179806A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2014151404

申请日：2014-07-25

Applicant: CANON KK

Inventor： ITO TOSHIKI ,  HONMA TAKESHI ,  YONEZAWA SHIORI ,  KAWASAKI YOJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/38

Abstract: 【課題】光ナノインプリント法において、位置合わせ精度が高く、かつ、パターン倒れ欠陥の少ない膜の製造方法を提供する。【解決手段】基板の上に光硬化性組成物を配置する配置工程と、前記光硬化性組成物とモールドとを接触させる型接触工程と、前記光硬化性組成物に光を照射して硬化物とする光照射工程と、前記硬化物と前記モールドとを引き離す離型工程と、を有する膜の製造方法であって、前記光照射工程の前に、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う位置合わせ工程を有し、前記光硬化性組成物が、少なくとも成分(A)である重合性化合物と、成分(B)である光重合開始剤と、を有し、照度0.12mW/cm2、露光時間11.0秒の条件で露光した際に前記重合性化合物の重合転化率が50%以上であることを特徴とする。【選択図】図2

公开(公告)号：JP2015179807A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2014151500

申请日：2014-07-25

Applicant: CANON KK

Inventor： HONMA TAKESHI ,  ITO TOSHIKI ,  KATO JUN ,  YONEZAWA SHIORI ,  KAWASAKI YOJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C07C43/11 ,  C07C69/54 ,  C07C225/22 ,  C07C323/47 ,  C07F9/53 ,  C08F2/48

Abstract: 【課題】位置合わせ精度が高く、かつ、パターン倒れ欠陥の少ない光インプリント用組成物及び、それを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】重合性化合物である成分(A)と、光重合開始剤である成分(B)と、を少なくとも有し、下記式(1)および下記式(2)を満たすことを特徴とする光インプリント用組成物。0.800≦̸Er10/Er200(1)2.55GPa≦̸Er10(2)【選択図】図1

公开(公告)号：JP2020009994A

公开(公告)日：2020-01-16

申请号：JP2018132483

申请日：2018-07-12

Applicant: CANON KK

Inventor： KAWASAKI YOJI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

Abstract: 【課題】基板上の組成物を平坦化するのに有利な技術を提供する。【解決手段】型を用いて基板上の組成物を平坦化する平坦化装置において、基板上に配置された組成物と型を接触させて組成物を平坦化させてから組成物と型を離す機構を有し、型保持部は型の中心位置を含む領域より外側の領域を保持する保持面を有し、保持面は型保持部の外周に向かうにしたがって位置が高くなる形状であり、保持面で保持された型を基板の中心位置を含む第1領域上の組成物に接触させつつ基板の前記第1領域より外側の第2領域上の組成物から離した状態で第1領域上の組成物を平坦化させてから、第1領域上の組成物と型を離す。【選択図】図3