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公开(公告)号：ES2621967T3
公开(公告)日：2017-07-05
申请号：ES10716588
申请日：2010-03-26
Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GÉNÉRALE D'OPTIQUE)
Inventor： CONTE DOMINIQUE , PASSARD DELPHINE , SCHERER KARIN , SIRJEAN JEAN-LOUIS
Abstract: Artículo óptico con propiedades antiestáticas y antirreflectantes o reflectantes, que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal revestida de un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa eléctricamente conductora, en el que - el depósito de dicha capa eléctricamente conductora se ha realizado bajo asistencia iónica, y - dicho sustrato tiene un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, siendo el porcentaje de recogida de agua medido después del secado previo de dicho sustrato y después del almacenamiento de este sustrato durante 800 horas en un recinto a 50ºC bajo una humedad relativa del 100% y a presión atmosférica, caracterizado por que - dicha capa eléctricamente conductora comprende al menos un 30% en masa, preferentemente al menos un 40% en masa y mejor aún al menos un 50% en masa de óxido de estaño SnO2 con respecto a la masa total de la capa eléctricamente conductora.
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12.发明专利
公开(公告)号：CA2915139A1
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：CA2915139
申请日：2014-06-13
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , FAURE BRUCE , PEGA STEPHANIE , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A en contact direct avec un revêtement B externe hydrophobe, caractérisé en ce que ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse, contenant dans sa structure : - au moins un atome de carbone, - au moins un atome d'hydrogène, - au moins un groupe Si-X, où X est un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable choisi parmi les groupes H, halogène, alcoxy, aryloxy, acyloxy, -NR1 R2 où R1 et R2 désignent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle, et -N(R3)-Si où R3 désigne un groupe alkyle ou un groupe aryle, ledit composé C n'étant ni le tétraméthyldisiloxane, ni le tétraéthoxysilane, ni le vinylméthyldiéthoxysilane, ni l'hexaméthylcyclotrisilazane, ladite couche A n'étant pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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公开(公告)号：FR2976680B1
公开(公告)日：2013-06-28
申请号：FR1155179
申请日：2011-06-14
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CALBA PIERRE JEAN , MARTIN JOSEPH , SCHERER KARIN , THUILLIER ALAIN , WILLEMIN GERARD
IPC: G02B1/10
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公开(公告)号：FR2859487A1
公开(公告)日：2005-03-11
申请号：FR0311238
申请日：2003-09-25
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： SCHERER KARIN , LACAN PASCALE , BOSMANS RICHARD
IPC: C03C17/32 , C03C17/34 , C03C17/42 , C23C14/06 , C23C14/22 , C23C14/30 , C23C14/12 , C23C14/56 , C01B7/20
Abstract: A method for depositing, under vacuum, an amorphous layer primarily containing fluorine and carbon onto a substrate (9), characterized in that it comprises a step for depositing this layer with an ion gun (1) for ejecting ions in the form of a beam of accelerated ions that is created from at least one compound containing fluorine and carbon in a gaseous form or saturated vapor supplied to the ion canon. A method of this type makes it possible, in particular, to improve the adherence of an outer layer having a low index of refraction to the underlying layer of an anti-reflective stack. A device suited for carrying out the method is also described.
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公开(公告)号：FR2859485A1
公开(公告)日：2005-03-11
申请号：FR0310473
申请日：2003-09-04
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： SCHERER KARIN , LACAN PASCALE , BOSMANS RICHARD
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Patent Agency Ranking16.发明专利
公开(公告)号：CA2915139C
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CA2915139
申请日：2014-06-13
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , FAURE BRUCE , PEGA STEPHANIE , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A en contact direct avec un revêtement B externe hydrophobe, caractérisé en ce que ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse, contenant dans sa structure : - au moins un atome de carbone, - au moins un atome d'hydrogène, - au moins un groupe Si-X, où X est un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable choisi parmi les groupes H, halogène, alcoxy, aryloxy, acyloxy, -NR1 R2 où R1 et R2 désignent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle, et -N(R3)-Si où R3 désigne un groupe alkyle ou un groupe aryle, ledit composé C n'étant ni le tétraméthyldisiloxane, ni le tétraéthoxysilane, ni le vinylméthyldiéthoxysilane, ni l'hexaméthylcyclotrisilazane, ladite couche A n'étant pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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17.发明专利
公开(公告)号：FR3039828A1
公开(公告)日：2017-02-10
申请号：FR1557560
申请日：2015-08-05
Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche comprenant au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, l'une au moins des couches du revêtement interférentiel étant une couche de nature organique-inorganique ayant été déposée sous vide et présentant une épaisseur supérieure ou égale à 30 nm, ledit revêtement interférentiel présentant une épaisseur supérieure ou égale à 450 nm et/ou un nombre de couches supérieur ou égal à 8.
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公开(公告)号：FR3039786A1
公开(公告)日：2017-02-10
申请号：FR1557557
申请日：2015-08-05
Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)
Inventor： LECHAT CELINE , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un procédé de préparation d'un article d'optique ayant un rayon de courbure non nul revêtu d'un revêtement interférentiel, comprenant : a) fournir un film thermoplastique revêtu d'un revêtement interférentiel multicouche comprenant au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, l'une au moins des couches du revêtement interférentiel étant une couche de nature organique-inorganique ayant été déposée sous vide, b) laminer ledit film thermoplastique revêtu sur un article d'optique comprenant un substrat, au moyen d'une couche d'adhésif, c) récupérer ledit article d'optique comprenant un substrat revêtu de la couche d'adhésif, du film thermoplastique et du revêtement interférentiel multicouche.
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公开(公告)号：FR2943798A1
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：FR0901475
申请日：2009-03-27
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CONTE DOMINIQUE , PASSARD DELPHINE , SCHERER KARIN , SIRJEAN JEAN LOUIS
Abstract: L'invention concerne un article d'optique à propriétés antistatiques et antireflet ou réfléchissantes, comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement antireflet ou réfléchissant, ledit revêtement comprenant au moins une couche électriquement conductrice comprenant au moins 30% % en masse d'oxyde d'étain (SnO ) par rapport à la masse totale de la couche électriquement conductrice, le dépôt de ladite couche électriquement conductrice ayant été réalisé sous assistance ionique, et ledit substrat ayant un taux de reprise en eau supérieur ou égal à 0,6 % en masse par rapport à la masse totale dudit substrat, le taux de reprise en eau étant mesuré après séchage préalable dudit substrat puis stockage de ce substrat pendant 800 heures dans une enceinte à 50°C sous une humidité relative de 100 % et à pression atmosphérique.
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公开(公告)号：CA2757168A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：CA2757168
申请日：2010-03-26
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CONTE DOMINIQUE , PASSARD DELPHINE , SCHERER KARIN , SIRJEAN JEAN-LOUIS
Abstract: L'invention concerne un article d'optique à propriétés antistatiques et antireflet ou réfléchissantes, comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement antireflet ou réfléchissant, ledit revêtement comprenant au moins une couche électriquement conductrice comprenant au moins 30% % en masse d'oxyde d'étain (SnO2) par rapport à la masse totale de la couche électriquement conductrice, le dépôt de ladite couche électriquement conductrice ayant été réalisé sous assistance ionique, et ledit substrat ayant un taux de reprise en eau supérieur ou égal à 0,6 % en masse par rapport à la masse totale dudit substrat, le taux de reprise en eau étant mesuré après séchage préalable dudit substrat puis stockage de ce substrat pendant 800 heures dans une enceinte à 50 °C sous une humidité relative de 100 % et à pression atmosphérique.
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