公开(公告)号：WO2004016822A3

公开(公告)日：2004-04-08

申请号：PCT/FR0302487

申请日：2003-08-07

Applicant: ESSILOR INT ,  SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  ROISIN PHILIPPE ,  BOSMANS RICHARD

Inventor： SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  ROISIN PHILIPPE ,  BOSMANS RICHARD

IPC: G02C7/02 ,  C23C14/10 ,  C23C14/22 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C23C14/10 ,  C23C14/22 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: The invention concerns a method for forming on a SiOxFy layer a protective coating of silica SiO2 and/or of a metal oxide by ion-assisted vapour phase deposition, consisting in bombarding the layer being formed with a beam of positive ions formed from a rare gas, oxygen or a mixture of both or more of said gases by sputtering a silicon or metal layer followed by a step which consists in oxidizing the silicon or metal layer. The invention is useful for producing antireflection coatings.

Abstract translation: 本发明涉及一种通过离子辅助气相沉积在SiO x F y层上形成二氧化硅SiO 2和/或金属氧化物的保护涂层的方法，包括轰击由稀有气体形成的正离子束形成的层 ，氧气或两种或多种所述气体的混合物通过溅射硅或金属层，接着进行氧化硅或金属层的步骤。 本发明对于生产抗反射涂层是有用的。

公开(公告)号：FR3039828B1

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：FR1557560

申请日：2015-08-05

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN ,  SCHERER KARIN

IPC: C03C17/42 ,  G02B1/10

Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche comprenant au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, l'une au moins des couches du revêtement interférentiel étant une couche de nature organique-inorganique ayant été déposée sous vide et présentant une épaisseur supérieure ou égale à 30 nm, ledit revêtement interférentiel présentant une épaisseur supérieure ou égale à 450 nm et/ou un nombre de couches supérieur ou égal à 8.

公开(公告)号：FR3051000A1

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：FR1654138

申请日：2016-05-09

Applicant: CORP DE L'ECOLE POLYTECHNIQUE DE MONTREAL ,  ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)

Inventor： TROTTIER-LAPOINTE WILLIAM ,  ZABEIDA OLEG ,  MARTINU LUDVIK ,  SCHMITT THOMAS ,  SCHERER KARIN

IPC: C23C14/22 ,  C03C17/00 ,  G02B1/10

Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche de nature organique-inorganique d'un matériau obtenu par dépôt sous vide d'au moins un oxyde métallique B ayant de préférence un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,53 et d'au moins un composé organique, ladite couche présentant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,45, et ledit oxyde métallique ayant été déposé par dépôt à angle oblique.

公开(公告)号：FR3039786B1

公开(公告)日：2017-09-29

申请号：FR1557557

申请日：2015-08-05

Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)

Inventor： LECHAT CELINE ,  SCHERER KARIN

IPC: B32B37/12 ,  B29C67/00 ,  G02B1/10

公开(公告)号：CA2947115A1

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：CA2947115

申请日：2014-04-28

Applicant: CORP DE L'ECOLE POLYTECHNIQUE DE MONTREAL ,  ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)

Inventor： ZABEIDA OLEG ,  SCHMITT THOMAS ,  SAPIEHA JOLANTA ,  MARTINU LUDVIK ,  SCHERER KARIN

IPC: G02B1/11

Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A d'un matériau obtenu par dépôt sous vide et assisté par une source d'ions d'au moins un oxyde de titane et d'au moins un composé B organosilicié, ledit matériau présentant un indice de réfraction à 550 nm supérieur ou égal à 1,8, un coefficient d'extinction k à 550 nm inférieur ou égal à 0,02, un ratio H/E supérieur ou égal à 0,046, où H et E désignent respectivement la dureté du matériau et le module d'élasticité du matériau.

公开(公告)号：MX2011010103A

公开(公告)日：2011-12-16

申请号：MX2011010103

申请日：2010-03-26

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： CONTE DOMINIQUE ,  PASSARD DELPHINE ,  SCHERER KARIN ,  SIRJEAN JEAN-LOUIS

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11

Abstract: La invención se refiere a un artículo óptico que tiene propiedades antiestáticas y anti-reflejantes o reflectoras, que comprenden un sustrato el cual tiene por lo menos una superficie principal revestida con un revestimiento anti-reflejante o reflector. Este revestimiento mencionado antes comprende por lo menos una película eléctricamente conductora que contiene por lo menos 30% de óxido de estaño (SnO2) por peso en relación al peso total de la película eléctricamente conductora, dicha película eléctricamente conductora habiendo sido depositada por depósito asistido por iones. El sustrato tiene una absorción de agua igual que o mayor ae 0.6% en peso en relación con el peso total del sustrato, la absorción de agua siendo medida siguiendo el secado previo del sustrato y el almacenamiento subsiguiente del mismo durante 800 horas en una cámara a 50°C bajo humedad relativa al 100% y presión atmosférica.

公开(公告)号：AT417943T

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：AT04787297

申请日：2004-09-02

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  BOSMANS RICHARD

IPC: C23C14/06 ,  C03C17/32 ,  C03C17/34 ,  C03C17/42 ,  C23C14/22

Abstract: A method for depositing, under vacuum, an amorphous layer primarily containing fluorine and carbon onto a substrate (9), characterized in that it comprises a step for depositing this layer with an ion gun (1) for ejecting ions in the form of a beam of accelerated ions that is created from at least one compound containing fluorine and carbon in a gaseous form or saturated vapor supplied to the ion canon. A method of this type makes it possible, in particular, to improve the adherence of an outer layer having a low index of refraction to the underlying layer of an anti-reflective stack. A device suited for carrying out the method is also described.

公开(公告)号：FR2843407A1

公开(公告)日：2004-02-13

申请号：FR0210112

申请日：2002-08-08

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  ROISIN PHILIPPE ,  BOSMANS RICHARD

IPC: C23C14/10 ,  C23C14/22 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11 ,  B32B7/00 ,  C03C17/245 ,  C23C14/24 ,  G02C7/04

Abstract: The production of a stabilized thin layer of silica doped with SiOxFy fluorite comprises the formation, on a layer of silica oxyfluoride, of a protective layer of silica and/or a metal oxide by vapor phase deposition with ionic assistance consisting of bombarding the layer during formation with a beam of positive ions formed from a rare gas, oxygen or a mixture of the two or more of these gases. Independent claims are also included for: (a) a stabilized thin layer of silica doped with silica oxyfluoride produced by this method; (b) a multi-layer anti-glare coating incorporating such a stabilized thin layer; (c) an ophthalmic lens of organic glass including the anti-glare coating.

公开(公告)号：ES2701377T3

公开(公告)日：2019-02-21

申请号：ES17150894

申请日：2010-03-26

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： CONTE DOMINIQUE ,  PASSARD DELPHINE ,  SCHERER KARIN ,  SIRJEAN JEAN-LOUIS

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/10 ,  G02C7/00 ,  G02C7/10

Abstract: Artículo óptico con propiedades antiestáticas y antirreflectantes o reflectantes, que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal revestida de un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa eléctricamente conductora, en el que - el depósito de dicha capa eléctricamente conductora se ha realizado bajo asistencia iónica bombardeando la superficie del sustrato con un haz de iones emitidos por un cañón de iones, y - dicho sustrato tiene un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, siendo el porcentaje de recogida de agua medido después del secado previo de dicho sustrato y después del almacenamiento de este sustrato durante 800 horas en un recinto a 50ºC bajo una humedad relativa del 100% y a presión atmosférica, caracterizado por que: a capa eléctricamente conductora según la presente invención comprende al menos un 30% en masa de óxido de estaño (SnO2) con respecto a la masa total de la capa eléctricamente conductora.

公开(公告)号：EA027776B1

公开(公告)日：2017-08-31

申请号：EA201500603

申请日：2010-03-26

Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)

Inventor： CONTE DOMINIQUE ,  PASSARD DELPHINE ,  SCHERER KARIN ,  SIRJEAN JEAN-LOUIS

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11

Abstract: Объектомнастоящегоизобретенияявляетсяприменениеэлектропроводящегослоя, содержащегопоменьшеймере 30 мас.% оксидаолова (SnO) поотношениюк общеймассеэлектропроводящегослоя, вантистатическомантибликовомилиотражающемпокрытии, нанесенномнапоменьшеймереоднуглавнуюповерхностьподложкиоптическогоизделия, котораяимееткоэффициентпоглощениявлагипоменьшеймере 0,6 мас.% поотношениюк общеймассеуказаннойподложки, приэтомуказанныйкоэффициентпоглощениявлагиизмеренпослепредварительнойсушкиуказаннойподложкии последующейвыдержкиэтойподложкив течение 800 чв закрытойкамерепри 50°C, относительнойвлажности 100% иатмосферномдавлении, вкачествесредствадлясохраненияпрозрачностиуказанногопокрытияилипредупрежденияпоявлениякосметическихдефектовв оптическомизделии.