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公开(公告)号：CA2862139A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：CA2862139
申请日：2012-12-27
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche, ledit revêtement comprenant une couche A ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, caractérisé en ce que : - ladite couche A constitue : o soit la couche externe du revêtement interférentiel, o soit une couche intermédiaire, directement en contact avec la couche externe du revêtement interférentiel, cette couche externe du revêtement interférentiel étant une couche B ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, - et ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse contenant dans sa structure au moins un atome de silicium, au moins un atome de carbone, au moins un atome d'hydrogène et, optionnellement au moins un atome d'azote et/ou au moins un atome d'oxygène, le dépôt de la dite couche A s'effectuant en présence d'azote et/ou d'oxygène lorsque le composé A ne contient pas d'azote et/ou d'oxygène et - ladite couche A n'est pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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公开(公告)号：FR3039828B1
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：FR1557560
申请日：2015-08-05
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche comprenant au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, l'une au moins des couches du revêtement interférentiel étant une couche de nature organique-inorganique ayant été déposée sous vide et présentant une épaisseur supérieure ou égale à 30 nm, ledit revêtement interférentiel présentant une épaisseur supérieure ou égale à 450 nm et/ou un nombre de couches supérieur ou égal à 8.
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3.发明专利
公开(公告)号：FR3039827A1
公开(公告)日：2017-02-10
申请号：FR1557558
申请日：2015-08-05
Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel comprenant une couche A présentant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un composé A organosilicié, et en contact direct avec cette couche A, soit une couche B présentant un indice de réfraction supérieur à 1,65, obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un oxyde métallique et d'au moins un composé B organosilicié, ladite couche B contenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8, soit une couche C comprenant un oxyde de silicium et ayant une épaisseur inférieure ou égale à 15 nm, en contact direct avec une couche E comprenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8.
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4.发明专利
公开(公告)号：FR3039827B1
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：FR1557558
申请日：2015-08-05
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel comprenant une couche A présentant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un composé A organosilicié, et en contact direct avec cette couche A, soit une couche B présentant un indice de réfraction supérieur à 1,65, obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un oxyde métallique et d'au moins un composé B organosilicié, ladite couche B contenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8, soit une couche C comprenant un oxyde de silicium et ayant une épaisseur inférieure ou égale à 15 nm, en contact direct avec une couche E comprenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8.
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公开(公告)号：CA2915139A1
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：CA2915139
申请日：2014-06-13
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , FAURE BRUCE , PEGA STEPHANIE , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A en contact direct avec un revêtement B externe hydrophobe, caractérisé en ce que ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse, contenant dans sa structure : - au moins un atome de carbone, - au moins un atome d'hydrogène, - au moins un groupe Si-X, où X est un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable choisi parmi les groupes H, halogène, alcoxy, aryloxy, acyloxy, -NR1 R2 où R1 et R2 désignent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle, et -N(R3)-Si où R3 désigne un groupe alkyle ou un groupe aryle, ledit composé C n'étant ni le tétraméthyldisiloxane, ni le tétraéthoxysilane, ni le vinylméthyldiéthoxysilane, ni l'hexaméthylcyclotrisilazane, ladite couche A n'étant pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CA2915139C
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CA2915139
申请日：2014-06-13
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , FAURE BRUCE , PEGA STEPHANIE , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A en contact direct avec un revêtement B externe hydrophobe, caractérisé en ce que ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse, contenant dans sa structure : - au moins un atome de carbone, - au moins un atome d'hydrogène, - au moins un groupe Si-X, où X est un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable choisi parmi les groupes H, halogène, alcoxy, aryloxy, acyloxy, -NR1 R2 où R1 et R2 désignent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle, et -N(R3)-Si où R3 désigne un groupe alkyle ou un groupe aryle, ledit composé C n'étant ni le tétraméthyldisiloxane, ni le tétraéthoxysilane, ni le vinylméthyldiéthoxysilane, ni l'hexaméthylcyclotrisilazane, ladite couche A n'étant pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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公开(公告)号：FR3045672B1
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：FR1562857
申请日：2015-12-18
Applicant: ESSILOR INT , CORP DE LECOLE POLYTECHNIQUE DE MONTREAL
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , SAPIEHA JOLANTA , CARON MARTIN
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公开(公告)号：FR3045672A1
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：FR1562857
申请日：2015-12-18
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , SAPIEHA JOLANTA , CARON MARTIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche L d'un matériau M obtenu par dépôt sous vide, par co-évaporation , d'au moins un composé métallique A choisi parmi les fluorures des métaux alcalino-terreux et d'au moins un composé organique B, le matériau M ayant un indice de réfraction à la longueur d'onde de 632,8 nm allant de 1,38 à 1,47. Selon l'invention : - le composé organique B comprend un composé organosilicié ou un mélange de composés organosiliciés ; et - le dépôt du composé B, sous forme gazeuse, est effectué en présence d'un bombardement ionique.
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公开(公告)号：FR3039828A1
公开(公告)日：2017-02-10
申请号：FR1557560
申请日：2015-08-05
Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche comprenant au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, l'une au moins des couches du revêtement interférentiel étant une couche de nature organique-inorganique ayant été déposée sous vide et présentant une épaisseur supérieure ou égale à 30 nm, ledit revêtement interférentiel présentant une épaisseur supérieure ou égale à 450 nm et/ou un nombre de couches supérieur ou égal à 8.
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10.发明专利
公开(公告)号：FR2985255B1
公开(公告)日：2015-08-07
申请号：FR1162492
申请日：2011-12-28
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
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