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公开(公告)号:GB2505311B
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:GB201313036
申请日:2012-04-11
Applicant: IBM
Inventor: ZHONG JIATIAN , SHEN XINGXING , HU KUANG , WANG YUN , LI JIAN
Abstract: The present invention discloses an image capturing apparatus and a method for obtaining the distances between different points of an object to be shot during image capturing of said object. The method comprises: determining a pair of specified points on the object for distance measurement; focusing on each specified point respectively, and obtaining a focal length for obtaining a clear image of the specified point on an imaging device of an image capturing apparatus, a distance between the clear image point of the specified point and a longitudinal axis of a convex lens of the image capturing apparatus, and a distance between the convex lens and the imaging device of the image capturing apparatus during said focusing; and calculating a distance between the specified points in the pair on the object.
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公开(公告)号:DE112018005348T5
公开(公告)日:2020-06-25
申请号:DE112018005348
申请日:2018-10-10
Applicant: IBM
Inventor: GUAR NITIN , CHRISTIDIS KONSTANTINOS , WANG YUN
IPC: G06F21/62
Abstract: Ein beispielhafter Vorgang kann ein Identifizieren einer neu vorgeschlagenen Transaktion einer Blockchain, ein Initiieren eines Konsensvorgangs zum Ermitteln, ob die neu vorgeschlagene Transaktion genehmigt werden soll, ein Abrufen eines aus einer vorherigen Transaktion identifizierten Schlüssel-Wert-Paares, ein Vergleichen eines Indexwertes, der dem Schlüssel-Wert-Paar der vorherigen Transaktion zugehörig ist, mit einem Indexwert, der einem Schlüssel-Wert-Paar der neu vorgeschlagenen Transaktion zugehörig ist, und/oder ein Bereitstellen eines positiven Konsenses zum Akzeptieren der neu vorgeschlagenen Transaktion in der Blockchain aufweisen, wenn der Indexwert, der dem Schlüssel-Wert-Paar der vorherigen Transaktion zugehörig ist, zusammenhängend sequenziell mit dem Indexwert ist, der dem Schlüssel-Wert-Paar der neu vorgeschlagenen Transaktion zugehörig ist.
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公开(公告)号:AT539447T
公开(公告)日:2012-01-15
申请号:AT02784578
申请日:2002-11-22
Applicant: IBM , INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: CHEN TZE-CHIANG , ENGEL BRETT , FITZSIMMONS JOHN , KANE TERENCE , LUSTIG NAFTALI , MCDONALD ANN , MCGAHAY VINCENT , SEO SOON-CHEON , STAMPER ANTHONY , WANG YUN , KALTALIOGLU ERDEM
IPC: H01L21/768 , H01L23/522 , H01L23/532
Abstract: An advanced back-end-of-line (BEOL) metallization structure is disclosed. The structure includes a bilayer diffusion barrier or cap, where the first cap layer is formed of a dielectric material preferably deposited by a high density plasma chemical vapor deposition (HDP CVD) process, and the second cap layer is formed of a dielectric material preferably deposited by a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PE CVD) process. A method for forming the BEOL metallization structure is also disclosed. The invention is particularly useful in interconnect structure comprising low-k dielectric material for the inter-layer dielectric (ILD) and copper for the conductors.
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