公开(公告)号：CN1637543A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410081682.X

申请日：2004-12-24

Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社

Inventor： 郑允皓

IPC: G02F1/136 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L21/0268 ,  B23K26/066 ,  C30B13/24 ,  C30B29/06 ,  H01L21/2026 ,  H01L29/6675 ,  H01L29/78672 ,  Y10T117/10

Abstract: 一种硅结晶设备，包括：激光束源，用于发射激光束；投射单元，用于会聚并改变来自所述激光束源的激光束图案；装/卸基板的载台；反射镜，用于将来自所述投射单元的激光束偏转到基板之外；以及冷却装置，用于接收被所述反射镜偏转的激光束，并散发由所接收的激光束产生的热量。从而在基板装载完成之前预热投射镜，或在基板结晶之后截断照射到基板上的激光束。

公开(公告)号：CN1637484A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410091702.1

申请日：2004-11-25

Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社

Inventor： 郑允皓 ,  金荣柱

IPC: G02F1/133 ,  G03F1/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/0268 ,  B01D9/0036 ,  B01D9/0063 ,  B23K26/066 ,  H01L21/2026 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明公开了一种连续横向结晶(SLS)装置和用它结晶硅的方法，其中用具有多个不同图案的掩模在基板上形成对准键，并且根据掩模与对准键之间的距离信息按平行于连接相邻对准键的虚线的方向进行结晶。所述SLS装置包括发射激光束的激光束发生器；具有多个区的掩模；移动其上承载的掩模的掩模工作台，使激光束穿过掩模的选择区；和基板工作台，移动其上承载的基板，改变穿过掩模的激光束照射的基板部分。

公开(公告)号：CN1514304A

公开(公告)日：2004-07-21

申请号：CN03137474.3

申请日：2003-06-25

Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社

Inventor： 郑允皓

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B23K26/0661 ,  B23K26/066 ,  C30B1/023 ,  C30B13/22 ,  C30B28/02 ,  C30B29/06 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0268 ,  H01L21/02691 ,  Y10S438/942 ,  Y10T117/1004 ,  Y10T117/1008 ,  Y10T117/1012

Abstract: 一种用于形成多晶硅层的方法，包括：在非晶硅层上设置一掩模，所述的掩模具有多个透射区，多个透射区沿着第一方向和基本上与第一方向垂直的第二方向以阶梯排列的方式相互间隔设置，每一个透射区有一中央部分和第一侧部分与第二侧部分，第一侧部分和第二侧部分在第一方向上与中央部分的相对的两端相邻，其中每一部分在第一方向上有一长度而在第二方向上有一宽度，并且其中第一部分和第二部分的宽度沿着第一方向从中央部分开始向外减小；第一次通过掩模将一激光束照射到非晶硅层上，形成与多个透射区对应的多个第一照射区，每一个第一照射区有一中央部分以及在中央部分两侧的第一侧部分和第二侧部分；将衬底和掩模彼此相对移动，以使每一个透射区的第一侧部分与每一个第一照射区的中央部分重叠；通过掩模第二次将激光束照射到非晶硅层上，形成与多个透射区对应的多个第二照射区。

公开(公告)号：CN1388564A

公开(公告)日：2003-01-01

申请号：CN02122042.5

申请日：2002-05-28

Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社

Inventor： 郑允皓

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/0268 ,  C30B1/023 ,  C30B13/22 ,  C30B13/32 ,  C30B29/06 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02595 ,  H01L21/2026

Abstract: 一种按序横向固化掩膜,包括具有由第一狭缝分开的多个第一条的第一区。该掩膜还包括具有由第二狭缝分开的多个第二条的第二区。该第二条与第一条垂直。还包括具有由第三狭缝分开的多个第三条的第三区,其中第三条相对第一条横向设置。第四区,具有多个第四条和第四条之间的多个第四狭缝,其中第四条相对于第二条横向设置。采用该掩膜经多次移动掩膜并多次重叠辐射而进行按序横向固化。