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公开(公告)号：DE102011111244A1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：DE102011111244
申请日：2011-08-22
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： LEVESQUE RICHARD , CEGLIO NATALE M , NOCERINO GIOVANNI , ZOCCHI FABIO
Abstract: Ein Quellkollektormodul (SOCOMO) zum Erzeugen eines lasererzeugten Plasmas (LPP), das EUV-Strahlung emittiert, sowie einen Kollektorspiegel mit streifendem Einfall (grazing-incidence collector (GIC) mirror), angeordnet relativ zum LPP und mit einem Eintrittsende und einem Austrittsende. Das LPP wird unter Verwendung eines LPP-Target-Systems mit einem Lichtquellen-Abschnitt und einem Target-Abschnitt gebildet, wobei ein gepulster Laserstrahl vom Lichtquell-Abschnitt Xenonflüssigkeit im Target-Abschnitt bestrahlt. Der GIC-Spiegel ist relativ zum LPP angeordnet, um die EUV-Strahlung an ihrem Eintrittsende aufzunehmen und die aufgenommene EUV-Strahlung an einem Zwischenfokus, angrenzend an das Austrittsende zu fokussieren. Eine Strahlungskollektor-Verstärkungsvorrichtung mit mindestens einem Trichterelement kann eingesetzt werden, um die Menge an EUV-Strahlung, bereitgestellt für den Zwischenfokus, zu erhöhen und/oder zu einem stromabwärtigen Beleuchtungsgerät zu richten bzw. zu lenken. Ein EUV-Lithographiesystem, das das SOCOMO verwendet, ist ebenfalls offenbart.
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公开(公告)号：NL2007241A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：NL2007241
申请日：2011-08-09
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： LEVESQUE RICHARD A , CEGLIO NATALE M , ZOCCHI FABIO , NOCERINO GIOVANNI
Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates a rotating Sn rod in the target portion to generate the EUV radiation. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device having at least one funnel element may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus and/or directed to a downstream illuminator. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.
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公开(公告)号：NL2005960A
公开(公告)日：2011-07-12
申请号：NL2005960
申请日：2011-01-06
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , NOCERINO GIOVANNI , ZOCCHI FABIO
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公开(公告)号：DE102014006265B4
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：DE102014006265
申请日：2014-04-30
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , CEGLIO NATALE M
IPC: H05G2/00
Abstract: Sn-Dampf-EUV-LLP-Quellsystem für die EUV-Lithographie, umfassend: eine Sn-Dampfkammer, angepasst, um eine Sn-Dampfsäule aus einer Zufuhr von Sn-Flüssigkeit zu erzeugen, wobei die Sn-Säule eine Sn-Atomdichte von
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公开(公告)号：NL2014253A
公开(公告)日：2015-03-03
申请号：NL2014253
申请日：2015-02-06
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , KOOLS JACQUES , VALSECCHI GIUSEPPE , ZOCCHI FABIO , BINDA RICCARDO
Abstract: Source-collector modules for use with EUV lithography systems are disclosed, wherein the source-collector modules employ a laser-produced plasma EUV radiation source and a grazing-incidence collector. The EUV radiation source is generated by first forming an under-dense plasma, and then irradiating the under-dense plasma with infrared radiation of sufficient intensity to create a final EUV-emitting plasma. The grazing incidence collector can include a grating configured to prevent infrared radiation from reaching the intermediate focus. Use of debris mitigation devices preserves the longevity of operation of the source-collector modules.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：DE102014006265A1
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：DE102014006265
申请日：2014-04-30
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , CEGLIO NATALE M
IPC: H05G2/00
Abstract: Ein Sn-Dampf-EUV-LPP-Quellsystem für die EUV-Lithographie ist offenbart. Das System erzeugt eine Sn-Dampfsäule aus einer Zufuhr von Sn-Flüssigkeit. Die Sn-Säule weist eine Sn-Atomdichte von
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公开(公告)号：NL2008647C
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：NL2008647
申请日：2012-04-17
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： GREK BORIS , STEARNS DANIEL , CEGLIO NATALE M
CPC classification number: G03F7/70891 , F28D15/0208 , F28D15/04 , F28D15/046 , G02B7/1815 , G03F7/70166 , G21K1/067 , H05G2/001
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公开(公告)号：NL2007264C
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：NL2007264
申请日：2011-08-15
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： LEVESQUE RICHARD A , CEGLIO NATALE M , ZOCCHI FABIO , NOCERINO GIOVANNI
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公开(公告)号：NL2007265A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：NL2007265
申请日：2011-08-15
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： LEVESQUE RICHARD A , CEGLIO NATALE M , ZOCCHI FABIO , NOCERINO GIOVANNI
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公开(公告)号：NL2007225A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：NL2007225
申请日：2011-08-04
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： LEVESQUE RICHARD A , CEGLIO NATALE M , NOCERINO GIOVANNI , ZOCCHI FABIO
Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates Xenon liquid in the target portion. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device having at least one funnel element may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus and/or directed to a downstream illuminator. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.
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