Quellkollektormodul mit GIC-Spiegel- und Xenonflüssigkeits-EUV-LPP-Target-System

    公开(公告)号:DE102011111244A1

    公开(公告)日:2012-03-15

    申请号:DE102011111244

    申请日:2011-08-22

    Abstract: Ein Quellkollektormodul (SOCOMO) zum Erzeugen eines lasererzeugten Plasmas (LPP), das EUV-Strahlung emittiert, sowie einen Kollektorspiegel mit streifendem Einfall (grazing-incidence collector (GIC) mirror), angeordnet relativ zum LPP und mit einem Eintrittsende und einem Austrittsende. Das LPP wird unter Verwendung eines LPP-Target-Systems mit einem Lichtquellen-Abschnitt und einem Target-Abschnitt gebildet, wobei ein gepulster Laserstrahl vom Lichtquell-Abschnitt Xenonflüssigkeit im Target-Abschnitt bestrahlt. Der GIC-Spiegel ist relativ zum LPP angeordnet, um die EUV-Strahlung an ihrem Eintrittsende aufzunehmen und die aufgenommene EUV-Strahlung an einem Zwischenfokus, angrenzend an das Austrittsende zu fokussieren. Eine Strahlungskollektor-Verstärkungsvorrichtung mit mindestens einem Trichterelement kann eingesetzt werden, um die Menge an EUV-Strahlung, bereitgestellt für den Zwischenfokus, zu erhöhen und/oder zu einem stromabwärtigen Beleuchtungsgerät zu richten bzw. zu lenken. Ein EUV-Lithographiesystem, das das SOCOMO verwendet, ist ebenfalls offenbart.

    SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN ROD EUV LPP TARGET SYSTEM.

    公开(公告)号:NL2007241A

    公开(公告)日:2012-03-01

    申请号:NL2007241

    申请日:2011-08-09

    Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates a rotating Sn rod in the target portion to generate the EUV radiation. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device having at least one funnel element may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus and/or directed to a downstream illuminator. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.

    SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND XENON LIQUID EUV LPP TARGET SYSTEM.

    公开(公告)号:NL2007225A

    公开(公告)日:2012-03-01

    申请号:NL2007225

    申请日:2011-08-04

    Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates Xenon liquid in the target portion. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device having at least one funnel element may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus and/or directed to a downstream illuminator. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.

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