-
公开(公告)号：DE102012002633B4
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：DE102012002633
申请日：2012-02-10
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： BIANUCCI GIOVANNI , ZOCCHI FABIO , BANHAM ROBERT , PEDRALI MARCO , STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , YUE GORDON , GREK BORIS , CEGLIO NATALE , SHOUGH DEAN , VALSECCHI GUISEPPE
Abstract: Wärmemanagementanordnung für einen Kollektor mit streifendem Einfall (GIC), die den Fluss eines Kühlmittels (172) verwendet, umfassend: eine GIC-Spiegelschale (110) mit einer reflektiven inneren Fläche (116), einer entgegengesetzten äußeren Fläche (118) sowie ersten und zweiten Spiegelenden (170T, 170L); ein Mantel (160) mit einer inneren Fläche und ersten und zweiten Mantelenden, wobei der Mantel (160) und die GIC-Spiegelschale (110) erste und zweite Kontaktflächen an den jeweils ersten und zweiten Spiegel- und Mantelenden aufweisen, um eine flüssigkeitsdichte Kammer (180) zwischen der inneren Fläche des Mantels (160) und der äußeren Fläche der GIC-Spiegelschale (110) zu definieren, wobei die abgedichtete Kammer (180) Eintritts- und Austrittsenden (201L, 201T) aufweist, die jeweils Eintritts- und Austritts-Verteilerkanäle (230L, 230T) mit jeweils Eintritts- und Austrittsöffnungen (169L, 169T) definieren; und ein offenzelliges Wärmetransfer-(OCHT)-Material (202), enthalten in der abgedichteten Kammer (180), das mit der äußeren Fläche der GIC-Spiegelschale (110) und der inneren Fläche des Mantels (160) thermisch verbunden ist, wobei das OCHT-Material dazu dient, den Fluss des Kühlmittels (172) hierdurch vom Eintritts-Verteilerkanal (230L) zum Austritts-Verteilerkanal (230T) zu unterstützen.
-
公开(公告)号：NL2010274C2
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：NL2010274
申请日：2013-02-07
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , KOOLS JACQUES , VALSECCHI GIUSEPPE , ZOCCHI FABIO , BINDA RICCARDO
Abstract: Source-collector modules for use with EUV lithography systems are disclosed, wherein the source-collector modules employ a laser-produced plasma EUV radiation source and a grazing-incidence collector. The EUV radiation source is generated by first forming an under-dense plasma, and then irradiating the under-dense plasma with infrared radiation of sufficient intensity to create a final EUV-emitting plasma. The grazing incidence collector can include a grating configured to prevent infrared radiation from reaching the intermediate focus. Use of debris mitigation devices preserves the longevity of operation of the source-collector modules.
-
公开(公告)号：NL2014254A
公开(公告)日：2015-03-03
申请号：NL2014254
申请日：2015-02-06
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , KOOLS JACQUES , VALSECCHI GIUSEPPE , ZOCCHI FABIO , BINDA RICCARDO
Abstract: Source-collector modules for use with EUV lithography systems are disclosed, wherein the source-collector modules employ a laser-produced plasma EUV radiation source and a grazing-incidence collector. The EUV radiation source is generated by first forming an under-dense plasma, and then irradiating the under-dense plasma with infrared radiation of sufficient intensity to create a final EUV-emitting plasma. The grazing incidence collector can include a grating configured to prevent infrared radiation from reaching the intermediate focus. Use of debris mitigation devices preserves the longevity of operation of the source-collector modules.
-
公开(公告)号：NL2012709A
公开(公告)日：2014-11-04
申请号：NL2012709
申请日：2014-04-29
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD
-
公开(公告)号：NL2008647C2
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：NL2008647
申请日：2012-04-17
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： GREK BORIS , STEARNS DANIEL , CEGLIO NATALE M
-
Patent Agency Ranking6.发明专利
公开(公告)号：DE102012008216A1
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：DE102012008216
申请日：2012-04-25
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： GREK BORIS , STEARNS DANIEL , CEGLIO NATALE M
Abstract: Verdunstungs-Wärmemanagementsysteme und -verfahren für Kollektoren mit streifendem Einfall (grazing incidence collectors) (GICs) für Extrem-Ultraviolett(EUV)-Lithographie, umfassend eine GIC-Hülle bzw. -Schale, gekoppelt an einen Mantel, um eine Struktur mit einem vorderen Ende zu bilden und das eine Kammer definiert. Die Kammer unterstützt betriebsfähig mindestens eine Schicht mit Dochtwirkung bzw. Kapillarschicht. Eine Leitung verbindet die Schicht mit Dochtwirkung bzw. Kapillarschicht mit einem Kondensatorsystem, das die Kühlflüssigkeit in einem Reservoir enthält. Wenn Wärme beim vorderen Ende auftritt, wird die Kühlflüssigkeit vom Kondensatorsystem über Kapillarwirkung in die Schicht mit Dochtwirkung bzw. Kapillarschicht und optional unter Schwerkraftunterstützung abgezogen, während der Dampf in entgegengesetzter Richtung von der Kammer zum Kondensatorsystem abgezogen wird. Die Wärme wird aus dem kondensierten Dampf im Kondensatorsystem entfernt, wodurch die GIC-Spiegelhülle bzw. -schale gekühlt wird.
-
7.发明专利
公开(公告)号：DE102012008216B4
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：DE102012008216
申请日：2012-04-25
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： GREK BORIS , STEARNS DANIEL , CEGLIO NATALE M
Abstract: Spiegelkühlanordnung (150) für einen Kollektor (100) mit streifendem Einfall (GIC), umfassend: eine GIC-Spiegelschale (110) mit einer reflektiven inneren Fläche (166) und einer entgegengesetzten äußeren Fläche (168); einen Mantel (160) mit einer inneren Fläche und gekoppelt an die GIC-Spiegelschale (110), um eine Kammer (180) mit vorderem und rückwärtigem Ende zu definieren, wobei eine Dampfleitung (240) sich in Flüssigkeitsaustausch-zulassender Verbindung mit der Kammer (180) am rückwärtigen Ende (170L, 170T) befindet; mindestens eine Kapillarschicht (200M, 200J), angeordnet unmittelbar angrenzend und in thermischem Kontakt mit der äußeren Fläche der GIC-Spiegelschale (110); eine Leitung, die mindestens eine Kapillarschicht (200M, 200J) unterstützt und die eine Dampfleitung (240) definiert; und ein Kondensationssystem (250) in Flüssigkeitsaustausch-zulassender Verbindung mit der Leitung und mit der mindestens eine Kapillarschicht (200M, 200J), wobei die mindestens eine Kapillarschicht (200M, 200J) aufgebaut ist, um den Kapillarfluss einer Kühlflüssigkeit (172) vom Kondensationssystem (250) durch die Leitung und durch die Kammer (180) sowie einen Gegenstrom des Kühlflüssigkeitsdampfes (174) durch die Kammer (180), durch die Dampfleitung (240) und zum Kondensationssystem (250) zu unterstützen.
-
公开(公告)号：NL2010274C
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：NL2010274
申请日：2013-02-07
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , KOOLS JACQUES , VALSECCHI GIUSEPPE , ZOCCHI FABIO , BINDA RICCARDO
CPC classification number: H05G2/005 , G02B5/203 , G02B19/0095 , G02B27/425 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70316 , G03F7/70575 , G03F7/70916 , G21K1/067 , H05G2/008 , G21K2201/06 , G21K2201/064
-
公开(公告)号：NL2008216C2
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：NL2008216
申请日：2012-02-01
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： BIANUCCI GIOVANNI , ZOCCHI FABIO , BANHAM ROBERT , PEDRALI MARCO , STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , YUE GORDON , GREK BORIS , CEGLIO NATALE , SHOUGH DEAN , VALSECCHI GIUSEPPE
IPC: G03F7/20
Abstract: Systems, assemblies and methods for thermally managing a grazing incidence collector (GIC) for EUV lithography applications are disclosed. The GIC thermal management assembly includes a GIC mirror shell interfaced with a jacket to form a sealed chamber. An open cell, heat transfer (OCHT) material is disposed within the metal chamber and is thermally and mechanically bonded with the GIC mirror shell and jacket. A coolant is flowed in an azimuthally symmetric fashion through the OCHT material between input and output plenums to effectuate cooling when the GIC thermal management assembly is used in a GIC mirror system configured to receive and form collected EUV radiation from an EUV radiation source.
-
10.发明专利
公开(公告)号：DE102013002064A1
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：DE102013002064
申请日：2013-02-07
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , KOOLS JACQUES , VALSECCHI GUISEPPE , ZOCCHI FABIO , BINDA RICCARDO
IPC: H05G2/00
Abstract: Quell-Kollektormodul(SoCoMo)-Vorrichtung für ein Extrem-Ultraviolett(EUV)-Lithographiesystem, umfassend: einen Kollektor mit streifendem Einfall (grazing-incidence collector) mit einer optischen Achse, einem Eintrittsende und einem Austrittsende, mit einem Zwischenfokus angrenzend an das Austrittsende; ein Target mit geringer Masse, das sich entlang der optischen GIC-Achse bei einer ersten Position befindet; mindestens einen ersten Laser, funktionsbereit angeordnet, um mindestens einen ersten Lichtpuls von erster Infrarot(IR)strahlung an die erste Position zu erzeugen, um das Target mit geringer Masse zu bestrahlen, um das Target mit geringer Masse zu verdampfen und zu ionisieren, um ein anfängliches Plasma zu bilden, während ein Teil der ersten IR-Strahlung reflektiert wird, um erste reflektierte IR-Strahlung zu bilden; mindestens einen zweiten Laser, funktionsbereit angeordnet, um mindestens einen zweiten Lichtpuls zu erzeugen, um das anfängliche Plasma zu bestrahlen, um ein endgültiges Plasma zu bilden, das EUV-Strahlung im Wesentlichen isotrop emittiert, und während ein Teil der zweiten IR-Strahlung reflektiert wird, um zweite reflektierte IR-Strahlung zu bilden; und wobei der mindestens erste und der mindestens zweite Laser relativ zum Target mit geringer Masse und dem GIC-Spiegel derart angeordnet sind, dass mindestens die zweite reflektierte IR-Strahlung im Wesentlichen vom GIC-Spiegel nicht gesammelt wird.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
19
records
(took 0.021 seconds)
