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公开(公告)号：NL2008647A
公开(公告)日：2012-11-06
申请号：NL2008647
申请日：2012-04-17
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： GREK BORIS , STEARNS DANIEL , CEGLIO NATALE M
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：DE102012002633A1
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：DE102012002633
申请日：2012-02-10
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： BIANUCCI GIOVANNI , ZOCCHI FABIO , BANHAM ROBERT , PEDRALI MARCO , STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , YUE GORDON , GREK BORIS , CEGLIO NATALE , SHOUGH DEAN , VALSECCHI GUISEPPE
Abstract: Systeme, Anordnungen und Verfahren zum thermischen Management bzw. zur thermischen Handhabung eines Kollektors mit streifendem Einfall (grazing indicence collector) (GIC) für EUV-Lithographie-Anwendungen werden offenbart. Die GIC-Wärmemanagementanordnung umfasst eine GIC-Spiegelhülle bzw. -schale, angekoppelt an einen Mantel, um eine verschlossene bzw. abgedichtete Kammer zu bilden. Ein offenzelliges Wärmetransfer(OCHT)-Material ist in der Metallkammer abgeschieden und ist thermisch und mechanisch mit der GIC-Spiegelhülle bzw. -schale und dem Mantel verbunden. Ein Kühlmittel fließt in einer azimutal-symmetrischen Art und Weise durch das OCHT-Material zwischen den Eintritts- und Austritts-Verteilerkanälen, um ein Kühlen zu bewirken, wenn die GIC-Wärmemanagementanordnung in einem GIC-Spiegelsystem verwendet wird, das aufgebaut ist, um Kollektor-EUV-Strahlung von einer EUV-Strahlungsquelle aufzunehmen und zu bilden.
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公开(公告)号：DE102014006265B4
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：DE102014006265
申请日：2014-04-30
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , CEGLIO NATALE M
IPC: H05G2/00
Abstract: Sn-Dampf-EUV-LLP-Quellsystem für die EUV-Lithographie, umfassend: eine Sn-Dampfkammer, angepasst, um eine Sn-Dampfsäule aus einer Zufuhr von Sn-Flüssigkeit zu erzeugen, wobei die Sn-Säule eine Sn-Atomdichte von
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14.发明专利
公开(公告)号：DE102015211427A1
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：DE102015211427
申请日：2015-06-22
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： MERRILL JR RAYMOND , CEGLIO NATALE , STEARNS DANIEL
Abstract: Systeme und Verfahren zum synchronen Betrieb von Debris-Mitigations- bzw. Verschmutzungsabweisevorrichtungen (DMDs) in einer EUV-Strahlungsquelle, die EUV-Strahlung und Debris bzw. Schmutzpartikel emittiert, werden offenbart. Die Verfahren umfassen das Etablieren einer ausgewählten relativen Winkelorientierung zwischen der ersten und zweiten DMD, die einen maximalen Anteil der Transmission von EUV-Strahlung zwischen jeweils ersten und zweiten drehbaren Flügeln der ersten und zweiten DMD bereitstellt. Die Verfahren umfassen ebenfalls das Drehen des ersten und zweiten Satzes von Flügeln, um mindestens einem Teil des Debris bzw. der Schmutzpartikel ein- bzw. abzufangen, während die ausgewählte relative Winkelorientierung im Wesentlichen beibehalten wird. Die Systeme verwenden DMD-Antriebseinheiten, und eine optische Messgeber-Scheibe in einer der DMD-Antriebseinheiten misst und kontrolliert bzw. steuert die Drehgeschwindigkeit der drehbaren DMD-Flügel. Systeme und Verfahren für die optimale Ausrichtung der DMDs sind ebenfalls offenbart.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：NL2014253A
公开(公告)日：2015-03-03
申请号：NL2014253
申请日：2015-02-06
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： CEGLIO NATALE M , STEARNS DANIEL , KOOLS JACQUES , VALSECCHI GIUSEPPE , ZOCCHI FABIO , BINDA RICCARDO
Abstract: Source-collector modules for use with EUV lithography systems are disclosed, wherein the source-collector modules employ a laser-produced plasma EUV radiation source and a grazing-incidence collector. The EUV radiation source is generated by first forming an under-dense plasma, and then irradiating the under-dense plasma with infrared radiation of sufficient intensity to create a final EUV-emitting plasma. The grazing incidence collector can include a grating configured to prevent infrared radiation from reaching the intermediate focus. Use of debris mitigation devices preserves the longevity of operation of the source-collector modules.
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16.发明专利
公开(公告)号：NL2008216C
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：NL2008216
申请日：2012-02-01
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： BIANUCCI GIOVANNI , ZOCCHI FABIO , BANHAM ROBERT , PEDRALI MARCO , STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , YUE GORDON , GREK BORIS , CEGLIO NATALE , SHOUGH DEAN , VALSECCHI GIUSEPPE
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G02B5/09 , G02B5/10 , G02B7/1815 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70891
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公开(公告)号：DE102014006265A1
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：DE102014006265
申请日：2014-04-30
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , CEGLIO NATALE M
IPC: H05G2/00
Abstract: Ein Sn-Dampf-EUV-LPP-Quellsystem für die EUV-Lithographie ist offenbart. Das System erzeugt eine Sn-Dampfsäule aus einer Zufuhr von Sn-Flüssigkeit. Die Sn-Säule weist eine Sn-Atomdichte von
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公开(公告)号：NL2008647C
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：NL2008647
申请日：2012-04-17
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： GREK BORIS , STEARNS DANIEL , CEGLIO NATALE M
CPC classification number: G03F7/70891 , F28D15/0208 , F28D15/04 , F28D15/046 , G02B7/1815 , G03F7/70166 , G21K1/067 , H05G2/001
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19.发明专利
公开(公告)号：NL2008216A
公开(公告)日：2012-08-20
申请号：NL2008216
申请日：2012-02-01
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： BIANUCCI GIOVANNI , ZOCCHI FABIO , BANHAM ROBERT , PEDRALI MARCO , STEARNS DANIEL , LEVESQUE RICHARD , YUE GORDON , GREK BORIS , CEGLIO NATALE , SHOUGH DEAN , VALSECCHI GIUSEPPE
Abstract: Systems, assemblies and methods for thermally managing a grazing incidence collector (GIC) for EUV lithography applications are disclosed. The GIC thermal management assembly includes a GIC mirror shell interfaced with a jacket to form a sealed chamber. An open cell, heat transfer (OCHT) material is disposed within the metal chamber and is thermally and mechanically bonded with the GIC mirror shell and jacket. A coolant is flowed in an azimuthally symmetric fashion through the OCHT material between input and output plenums to effectuate cooling when the GIC thermal management assembly is used in a GIC mirror system configured to receive and form collected EUV radiation from an EUV radiation source.
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