Sistema de tratamiento de fluidos
    11.
    发明专利

    公开(公告)号:ES2389267T3

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:ES07816138

    申请日:2007-11-06

    Abstract: Un sistema de tratamiento de fluido (10, 100, 200, 300, 400, 500, 600) que comprende: una entrada; una salida; una zona de tratamiento de fluido dispuesta entre la entrada y la salida, la zona de tratamiento de fluido: (i) comprendiendo una primera superficie de pared y una segunda superficie de pared opuesta a la primera superficie de pared, y (ii) habiendo dispuesta en la misma al menos una disposición de filas de conjuntos de fuentes de radiación ultravioleta (30, 130, 230, 330, 430, 530, 630); teniendo cada conjunto de fuente de radiación ultravioleta un eje longitudinal transversal a una dirección de flujo de fluido a través de la zona de tratamiento de fluido; caracterizado por lo siguiente: comprendiendo cada una de la primera superficie de pared y la segunda superficie de pared un primer elemento deflector de fluido (222) y un segundo elemento deflector de fluido (223), prolongándose el primer elemento deflector de fluido (222) en la zona de tratamiento de fluido en mayor grado que el segundo elemento deflector de fluido (223) definiendo el sistema de tratamiento de fluido un canal abierto (115, 215, 315, 415, 515) a través del cual el fluido puede fluir entre una pareja adyacente de conjuntos de fuente de radiación ultravioleta; estando todas las filas en la disposición dispuestas al tresbolillo una con respecto a la otra en una dirección ortogonal a la dirección de flujo de fluido a través de la zona de tratamiento de fluido tal que el canal entre una pareja adyacente de conjuntos de fuente de radiación ultravioleta en una fila corriente arriba de los conjuntos de fuente de radiación ultravioleta está parcial o totalmente obstruido en la dirección de flujo de fluido por al menos dos filas de conjuntos de fuente de radiación ultravioleta corriente abajo dispuestas en serie.

    RADIATION SOURCE MODULE AND FLUID TREATMENT SYSTEM

    公开(公告)号:CA2819065A1

    公开(公告)日:2012-06-21

    申请号:CA2819065

    申请日:2011-12-13

    Abstract: There is described a radiation source module for use in a fluid treatment system. The radiation source module comprises: a housing having an inlet, an outlet and a fluid treatment zone disposed between. The fluid treatment zone comprises a first wall surface and a second wall surface interconnected by a floor surface. The first wall surface, the second wall surface and the floor surface are configured to receive a flow of fluid through the fluid treatment zone. The radiation source module further comprises at least one radiation source assembly secured with respect to the first wall surface and the second wall surface and a module motive coupling element connected to the housing and configured to be coupled to a module motive element to permit the radiation source module to be installed in and extracted from the fluid treatment system. A fluid treatment system comprising the radiation source module is also described.

    SISTEMA DE TRATAMIENTO DE FLUIDOS Y APARATO D LIMPIEZA PARA EL MISMO.

    公开(公告)号:ES2240140T3

    公开(公告)日:2005-10-16

    申请号:ES00952819

    申请日:2000-08-11

    Abstract: Un aparato de limpieza para uso en un sistema para tratamiento de fluidos que comprende un conjunto de fuente de radiación, comprendiendo el aparato de limpieza: al menos, un manguito limpiador en engrane deslizante con el exterior del conjunto de fuente de radiación, una cámara de limpieza dispuesta en el, al menos, un manguito limpiador en contacto con una porción del exterior del conjunto de fuente de radiación, y para que se surta con una solución limpiadora, la cámara de limpieza comprendiendo una abertura a un exterior del manguito limpiador, un miembro igualador de la presión dispuesto en la abertura para que aporte un cierre estanco entra la abertura y el exterior del manguito limpiador, siendo el miembro igualador de la presión movible, con independencia del manguito limpiador, en respuesta a un gradiente de presión a través del mismo, y un medio de accionamiento para trasladar el, al menos, un manguito limpiador a lo largo del exterior del conjunto de fuente de radiación.

    CLEANING APPARATUS, RADIATION SOURCE MODULE AND FLUID TREATMENT SYSTEM

    公开(公告)号:SG177431A1

    公开(公告)日:2012-02-28

    申请号:SG2011097326

    申请日:2010-07-23

    Abstract: There is disclosed a cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system. The clean apparatus comprises a cleaning sleeve moveable to remove fouling materials from an exterior portion of the radiation source assembly, the cleaning sleeve comprising at least one chamber for receiving a cleaning fluid and a cleaning sleeve inlet in fluid communication with the at least one chamber and a first conduit element for conveying the cleaning fluid to the cleaning sleeve inlet, the first conduit element being configured such that a distal portion of the first conduit element is in fluid communication with the cleaning sleeve inlet and a proximal portion of the first conduit element is disposed outside of fluid being treated in the fluid treatment system.

    Fluid treatment system
    18.
    发明专利

    公开(公告)号:AU2007284040A1

    公开(公告)日:2008-02-21

    申请号:AU2007284040

    申请日:2007-08-17

    Abstract: There is described a radiation source module comprising: a plurality of radiation source assemblies, each radiation source assembly having a proximal end portion and a distal end portion; a first support plate for supporting the proximal end portion of each radiation source assembly; and a second support plate for supporting the distal end portion of each radiation source assembly; wherein: (i) the first support plate and the second support plate positioned so as to define a radiation emission region therebetween for each radiation source assembly between; and (ii) the first support plate comprising a first passageway through which the proximal end portion of each radiation source assembly passes to a remote region with respect to the radiation emission region.

    FLUID TREATMENT SYSTEM AND CLEANING APPARATUS THEREFOR

    公开(公告)号:CA2338879C

    公开(公告)日:2005-08-09

    申请号:CA2338879

    申请日:2000-05-26

    Abstract: A cleaning apparatus (10) for a radiation source assembly (35) in a fluid treatment system is described. The cleaning apparatus comprises cleaning chamber (20) and a second chamber (25,30) independent of the cleaning chamber which defines a fluid (typically water) buffer layer to obviate or mitigate cleaning fluid from the cleaning chamber leaking into the fluid being treated. The fluid treatment system is particularly useful for us in clean water applications in which ultraviolet radiation is used to treat the water while having the advantages of in situ cleaning of the radiation sourc e when it becomes fouled.

    20.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:NO20020632D0

    公开(公告)日:2002-02-08

    申请号:NO20020632

    申请日:2002-02-08

    Abstract: A cleaning apparatus for use in a fluid treatment system comprising a radiation source assembly, the cleaning apparatus comprising: at least one cleaning sleeve (300) in sliding engagement with the exterior of the radiation source assembly (150); a cleaning chamber (310) disposed in the at least one cleaning sleeve in contact with a portion of the exterior of the radiation source assembly (150) and for being supplied with a cleaning solution, the cleaning chamber comprising an opening (370) to an exterior of the cleaning sleeve; a pressure equalization member (355) disposed in the opening to provide a seal between the opening and the exterior of the cleaning sleeve, the pressure equalization member being movable in response to a pressure gradient thereacross; and drive means to translate the at least one cleaning sleeve along the exterior of the radiation source assembly. A fluid treatment device comprise the cleaning apparatus is also described.

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