公开(公告)号：CN106423718A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201611041954.2

申请日：2016-11-24

Applicant: 汕头大学

Inventor： 王双喜 ,  张伟 ,  李少杰 ,  蓝海凤

IPC: B05C3/00 ,  B05C3/18 ,  B05C11/08

CPC classification number: B05C3/005 ,  B05C3/18 ,  B05C11/08

Abstract: 本发明实施例公开了一种用于管材内表面处理的带加热装置的离心机，包括离心装置、加热固化装置、布料装置、驱动装置，所述离心装置包括滚筒、水平对向设置于所述滚筒两端内的内端盖、外端盖，所述内端盖、外端盖上设置有对待加工管材两端进行夹紧固定的夹紧固定装置，所述滚筒由所述驱动装置驱动旋转；所述加热固化装置包括对称设置于所述滚筒外部的加热室，所述加热室内设置有加热体。采用本发明，通过离心工艺使布料槽内的浆料涂覆在管道内表面的同时加热涂覆在管道内壁的浆料使浆料固化粘附在管道内壁形成生坯，结合后续的低温烧结工艺，即可制备内衬层复合管道，可以大大减少制备复合管道的工艺成本和操作危险，提高生产效率。

公开(公告)号：CN103874548B

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201180074135.7

申请日：2011-10-13

Applicant: 克诺那普雷斯技术股份公司

Inventor： 迪特尔·多林 ,  汉斯·沙费尔

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02 ,  B05C9/12 ,  B05C11/10 ,  E04F15/00

CPC classification number: B05C13/02 ,  B05B12/004 ,  B05C5/004 ,  B05C5/005 ,  B05C9/12 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05D1/305 ,  B05D7/06 ,  B27N7/005 ,  B65G21/10 ,  E04F15/102

Abstract: 本发明涉及针对板状部件(60)的帘式涂布的装置(10)和方法，以及使用该方法制造的部件。所述装置包括产生涂布原料的液体帘(42)的装置(40)，输入传输装置(20)以及输出传输装置入传输装置(20)可以进行高度调整。(30)，其中所述输出传输装置(30)和/或所述输

公开(公告)号：CN105612047A

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201480055838.9

申请日：2014-10-03

Applicant: 光学转变公司

Inventor： J·L·凯尼格二世 ,  W·比默 ,  L·E·佩斯

IPC: B29D11/00

CPC classification number: G02B5/223 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1036 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0272 ,  B05D3/144 ,  B05D7/546 ,  B29D11/00884 ,  C08G18/227 ,  C08G18/289 ,  C08G18/4063 ,  C08G18/44 ,  C08G18/6225 ,  C08G18/7831 ,  C08G18/7837 ,  C08G18/807 ,  C08G18/8175 ,  C08J7/042 ,  C08J7/123 ,  C08J2369/00 ,  C08J2433/14 ,  C08J2475/06 ,  C09D5/32 ,  C09D175/06 ,  C09K9/02 ,  C09K2211/14 ,  G02B1/14 ,  G02B5/23 ,  G02C7/102 ,  G03C1/73

Abstract: 本发明涉及一种旋转涂布机，其可以用于在光学基底上施加多个涂层成分。旋转涂布机包括：涂布机碗状物，被构造成用以收集从涂布的光学基底排出的多余的涂层材料；可旋转卡盘，被构造成用以在涂布期间接纳碗状物中的光学基底并使光学基底旋转；多个涂层贮存器，每个贮存器包含涂层材料；以及可分度涂层贮存器平台，包含所述多个涂层贮存器，并且被构造成用以将所选择的贮存器分度到涂布机碗状物上方的分配位置中。旋转涂布机可以包括或关联有至少一个固化工位，其中每个固化工位独立地构造成用以至少部分地固化施加的至少一种涂层材料。每个固化工位可以包括热固化工位、UV固化工位和/或IR固化工位中的至少一个。

公开(公告)号：CN105206526A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201510350188.7

申请日：2015-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金田正利 ,  大石雄三 ,  吉田圭佑

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67069 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1002 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/311 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67751 ,  H01L21/68742

Abstract: 本发明提供一种能够在抑制对基板造成的影响的同时在常压气氛下将形成在基板的表面上的被处理膜的一部分去除的基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统。将会因在含氧气氛下照射紫外线而分解的被处理膜的原料涂敷在基板(W)上，对涂敷在基板(W)上的原料进行加热而形成被处理膜。接着，将形成有被处理膜的基板(W)配置在气体的流速为10cm/秒以下的含氧气氛的处理室(61)内并对该基板(W)照射紫外线而将被处理膜的一部分去除。

公开(公告)号：CN104368502A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201410519400.3

申请日：2014-09-30

Applicant: 株洲西迪硬质合金科技有限公司

Inventor： 徐跃华 ,  王玉鹏 ,  张力平

IPC: B05C9/14 ,  B05C3/10 ,  B05C11/00 ,  B05C11/10 ,  B08B3/12 ,  B05D3/04

CPC classification number: B05C9/14 ,  B05C3/10 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C11/101 ,  B05C11/115 ,  B05C13/02 ,  B05D3/0413 ,  B08B3/12

Abstract: 本发明公开了一种硬面涂层加工装置，包括清洗机、挂料机及烘干机，所述挂料机上设有能够容置工件的工件容置槽，所述工件容置槽中设有挂料浆液。由于挂料机上设有能够容纳工件的工件容纳槽，且工件容纳槽内设有浆液，在对工件进行挂料时，通过将工件放置在容置有挂料浆液的装置中进行挂料，使得工件表面均能够实现均匀地挂料。因此，本申请提供的硬面涂层加工装置能够提高工件的加工质量，同时提高了工件的挂料效率。

公开(公告)号：CN103975276A

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201280060328.1

申请日：2012-10-03

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 耸嘛玩 ,  原史朗

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1005 ,  G03F7/3021

Abstract: 形成于半英寸尺寸的晶圆上的抗蚀剂的最佳的显影方法及装置。是在制作极小单位数的半导体器件的晶圆尺寸的晶圆上形成的抗蚀剂的旋转显影方法及其装置，所述旋转显影方法包括：第1步骤，在停止着的晶圆上滴下显影液直到显影液的厚度达到最大；第2步骤，一边使晶圆旋转一边进行显影；第3步骤，使晶圆的旋转停止向晶圆上供给约第1步骤中的显影液量的一半的显影液；第4步骤，一边使晶圆旋转一边以比第2步骤长的显影时间进行显影。

公开(公告)号：CN103261969A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201180060845.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 森图发克斯拉达&科曼蒂塔有限公司

Inventor： 汉斯·波奈特 ,  K·P·泰尔

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/02104 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/02 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3092 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明涉及用于生产结构化基板的装置。所述装置包括用于将层系统涂布至转动的基板的设备（1），该设备（1）包括用于涂布液体材料、特别是光聚合物溶液的设备（2）、壳（6）、用于待被涂覆的基板的转动保持架（3）、用于待被涂布的液体材料的进给线路（13）以及收集设备（4），收集设备（4）包括多个用于并未保持在基板上的液体材料的移除设备（5）。用于涂布液体材料的设备（2）的壳（6）填充有特别是干燥的分子态氮的非活性气体、稀有气体或这些气体的混合物。用于生产结构化基板的装置的辅助容器和通路为气密性的并且被设计成使得非活性分子态氮或稀有气体氛围在前述容器和通路中的液体内容物的上方生成。收集设备（4）具有多个收集区域（9），不同的液体材料能够被选择性地收集在收集区域中并通过相关的移除设备（5）选择性地移除。由于生产流程所需的光聚合物和其它液体材料的用量能够大幅减小，所以用于生产结构化基板的装置的所述设计允许提高生产流程的品质并且显著地降低流程的成本。

公开(公告)号：CN102933314A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201180027900.X

申请日：2011-05-19

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 盐崎唯史 ,  神德千幸 ,  吉村和也

IPC: B05C11/08 ,  B05C9/12 ,  B05D3/12

CPC classification number: B05B13/0221 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/6776

Abstract: 整平处理装置(10A)具备：输送机，其一边支撑上表面涂敷有包含涂敷膜材料的溶液的基板(100)的下表面，一边沿着搬运方向搬运支撑的基板(100)；以及振动施加单元(20A)，其对沿着上述搬运方向在由输送机所规定的输送机搬运路(11)上移动的基板(100)施加振动，由此进行涂敷于基板(100)的溶液的整平处理。

公开(公告)号：CN102836793A

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN201210209256.4

申请日：2012-06-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大城健一 ,  佐藤强

IPC: B05B13/02 ,  B05B13/04 ,  B05D1/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 一种螺旋涂敷装置，具有工作台、旋转机构、涂敷喷嘴、移动机构部、喷嘴位置检测部以及位置调整部。工作台具有载置涂敷对象物的载置面。旋转机构使上述工作台在沿着上述载置面的旋转方向上旋转。涂敷喷嘴对工作台上的上述涂敷对象物喷出材料而进行涂敷。移动机构部使上述工作台和上述涂敷喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向上沿着上述载置面相对移动，并使上述工作台和上述涂敷喷嘴能够在上述旋转的轴方向上相对移动。喷嘴位置检测部检测上述旋转的轴方向上的上述涂敷喷嘴的底面的位置信息。位置调整部根据上述涂敷喷嘴的位置信息，进行上述涂敷喷嘴与上述载置面在上述轴方向的位置调整。

公开(公告)号：CN100528378C

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200480038730.5

申请日：2004-12-16

Applicant: 欧利生电气株式会社

Inventor： 稻谷孝佑

IPC: B05C11/08

CPC classification number: B05C11/08

Abstract: 一种旋涂装置，其包括：旋转台，其保持盘基板；旋转机构，其使该旋转台旋转；涂料器罩，其配置成将所述旋转台包围并挡住从保持在所述旋转台上的盘基板甩掉的液体；内杯，其挡住而不排出沿着所述涂料器罩滴落的液体；涂料器杯，其支承该内杯，其中，所述内杯能够从所述涂料器杯上卸下。