在塑料基体表面上沉积薄层的方法

    公开(公告)号:CN1110632A

    公开(公告)日:1995-10-25

    申请号:CN94113776.7

    申请日:1994-10-28

    CPC classification number: C08J7/123 B05D1/62 B05D3/144 C23C16/0245 C23C16/401

    Abstract: 本发明经等离子聚合在塑料基体表面上沉积保护层或保护膜,其方法至少包括(1)预处理阶段塑料基体放在弱极化或非极化基体架上,然后使其经受至少一种可引入氧气的预处理气体作用,再向气态预处理介质提供在等离子体中产生可活化基体表面所需氧气量的最少能量,此能量以电力密度脉冲形式提供;(2)用等离子体在基体表面上沉积薄层或薄膜的阶段,该等离子体由气态沉积混合物构成,其中包括至少一种能提供氧气的气体和有机硅化合物。

    用于热塑性配件的等离子体表面预处理的自动化设备

    公开(公告)号:CN104023945B

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201280065913.0

    申请日:2012-11-30

    CPC classification number: B05D3/144 B23K10/00 B23K2103/42 B29C59/14 H05H1/38

    Abstract: 一种用于热塑性配件(4)的等离子体表面预处理的自动化设备(1)包括一方面用于一个热塑性配件的第一支撑装置(2)以及另一方面用于一个等离子体喷枪(5)的第二支撑装置(6),该等离子体喷枪具有一个旋转的圆柱形端部(8),该第一支撑装置和/或第二支撑装置(2,6)是可移动的,使得该喷枪(5)和该配件(4)具有相对移动从而使得该喷枪(5)能够行进经过该配件(4)的一个处理区域。该设备(1)在该等离子体喷枪(5)上包括用于控制该喷枪(5)的端部(8)与该配件(4)之间距离的装置。该控制装置包括一个测量杆,该杆被轴向地定位在该等离子体喷枪(5)的端部(8)上。该设备包括在该喷枪(5)的轴线方向上可以移动的一个滑架,该滑架被置于该可移动喷枪(5)与该第二支撑装置(6)之间。该可移动滑架包括用于反作用于围绕一个平衡或停止位置的位移的装置。

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