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公开(公告)号:CN1959541A
公开(公告)日:2007-05-09
申请号:CN200610153964.5
申请日:2006-09-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70933 , G21K2201/06
Abstract: 用于清洁光刻装置的元件的方法,例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法,包括提供含有氮的气体;从至少部分气体产生氮基团,由此形成含有基团的气体;以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件,以及布置成产生射频放电的放电发生器。
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公开(公告)号:CN106933063A
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201710159862.2
申请日:2013-03-20
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/32 , B82Y10/00 , B82Y40/00
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
Abstract: 一种电子射束光刻系统,包括:子束发生器,用于生成多个电子子束;子束操纵器,其包括孔径阵列,用于操纵所述多个电子子束;对准框架,其被布置成支撑所述子束操纵器;被布置成支撑所述对准框架的框架;用于产生等离子体的等离子体发生器,其中所述等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室,其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基,并且其中所述等离子体发生器的室被集成到所述对准框架中。
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公开(公告)号:CN104321701B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201380025372.3
申请日:2013-03-20
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: G03F7/20 , H01J37/32 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
Abstract: 本发明涉及用于运输自由基的装置。该装置包括等离子体发生器和导向体。等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室(2)。该室具有用于接收输入气体的进口(5),和用于排除在室中产生的等离子体和自由基中的至少一者的一个或多个出口(6)。该导向体是中空的,且布置成朝向要除去的污染沉积物所在的区域或空间引导在等离子体中形成的自由基。该室进口连接到压力装置(40),该压力装置用于向室中提供脉动的压力,以便在导向体中产生流。
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公开(公告)号:CN103876761B
公开(公告)日:2016-04-27
申请号:CN201410089754.9
申请日:2009-10-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
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公开(公告)号:CN102197302B
公开(公告)日:2013-06-26
申请号:CN200980142363.6
申请日:2009-10-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G01N23/04
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 一种在采用穿过被检物体的放射线的干涉条纹的强度信息的放射线成像装置中使用的分析方法包括以下步骤:从干涉条纹的强度信息产生卷绕到2π的范围中的被检物体的第一相位信息;从干涉条纹的强度信息产生关于被检物体的吸收强度梯度的信息;基于关于吸收强度梯度的信息中的梯度的绝对值产生加权函数;和通过使用加权函数展开第一相位信息,产生第二相位信息。
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公开(公告)号:CN101542635B
公开(公告)日:2013-01-23
申请号:CN200880000249.5
申请日:2008-03-26
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子管器件株式会社
CPC classification number: G01T1/202 , C09K11/613 , C09K11/7733 , G21K4/00 , G21K2201/06
Abstract: 在透射射线的支承基片(12)的一个面粘合树脂反射片(13),在支承基片(12)的另一个面粘合材质与树脂反射片(13)相同的树脂片(14)。支承基片(12)的一个面的树脂反射片(13)上形成将射线变换成可见光的荧光体层(15)。利用覆盖荧光体层(15)的防湿层(17)和树脂反射片(13)包围荧光体层(15)。通过将树脂反射片(13)配置在支承基片(12)与荧光体层(15)之间,取得灵敏度特性良好、获得稳定的质量且能改善成本的闪烁器板(11)。
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公开(公告)号:CN102549461A
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201080043764.9
申请日:2010-09-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B27/0905 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/16 , G21K2201/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 一种包括反射镜聚光器的照明光学单元,在该照明光学单元工作期间,该反射镜聚光器产生施加到第一分面光学元件的偏振分布,其中存在至少两个施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件,并且第一分面光学元件具有至少一个第一状态,在第一状态中,选择第一分面元件的反射表面的法向矢量,使得在该照明光学单元工作期间,在物场的位置处产生第一预定偏振分布。
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公开(公告)号:CN1189742C
公开(公告)日:2005-02-16
申请号:CN00806092.4
申请日:2000-05-30
Applicant: 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫
Inventor: 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N2223/076 , G21K2201/06
Abstract: 本发明涉及用于获得物体,尤其是生物体的以视觉感受形式呈现的内部结构图像的装置。根据本发明方法,由源发射的X射线辐射被集中(例如借助于X射线透镜(2))在包含物体(5)被研究区(7)内的当前测量结果所参考的点(4)的区域中。在所述区域中出现的二次辐射(康普顿,荧光辐射)被运送给(例如借助于X射线透镜(3))一个或多个检测器(6)。通过移动所述区域可对物体(5)的被研究区(7)进行扫描。物体在该点的密度是通过对从一个或多个检测器(6)接收的二次辐射强度值求总和确定的,同时用该点(4)的坐标确定。在数据处理与成像设施(12)中使用借助于传感器(11)获得的密度值和相应坐标值来产生物体被研究区中物质的密度分布图像。
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公开(公告)号:CN102656644B
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201080055836.1
申请日:2010-12-03
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G21K1/06 , A61B6/484 , G21K2201/06 , G21K2207/005
Abstract: 本发明总体涉及X射线图像采集技术。采用用于X射线图像采集的相称成像可以显著提高所采集图像中的结构的可见度。然而,可能仅在小的探测器区域获得相称信息,随后的图像采集要求个体相位步进状态,以允许X射线图像的重建。因此,提供了一种用于相称的光栅装置,该光栅装置可以允许在视场扫描期间的即时相位步进。根据本发明,提供了一种用于相称成像的光栅装置(1),该光栅装置包括第一光栅元件(8)和第二光栅元件(10)。第一光栅元件(8)和第二光栅元件(10)中的每个都包括沟槽结构。沟槽结构包括至少一个沟槽区域(9)和至少一个屏障区域(3)。至少一个沟槽区域(9)和至少一个屏障区域(3)至少局部被布置为平行。第一光栅元件(8)和第二光栅元件(10)被布置成使得第一光栅元件(8)的沟槽结构与第二光栅元件(10)的沟槽结构不平行,包括角度α。
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公开(公告)号:CN102740775B
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201180008286.2
申请日:2011-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/022 , A61B6/03 , A61B6/06 , A61B6/4233 , A61B6/4291 , A61B6/4441 , A61B6/4464 , A61B6/502 , A61B6/5241 , G21K1/06 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2207/005
Abstract: X射线成像系统具有X射线源(11)、第一和第二吸收光栅(31、32)、以及平板检测器(FPD)(30),并通过在x方向上相对于第一吸收光栅(31)移动第二吸收光栅(32)时执行成像,来获得对象H的相位对比图像。满足以下数学表达式DX≠n×(p1′×p2′)/|p1′-p2′|,其中,p1′代表在第二吸收光栅(32)的位置处的第一图案图像的周期,且p2′代表第二吸收光栅(32)的实质光栅间距,且DX代表FPD(30)的每个像素的X射线成像区域在x方向上的尺寸。此处,“n”代表正整数。
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