公开(公告)号：CN102187441A

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200980142397.5

申请日：2009-10-20

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： Y-H·杨 ,  T·A·恩古耶 ,  S·巴录佳 ,  A·卡祖巴 ,  J·C·罗查 ,  T·诺瓦克 ,  D·W·何

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/205

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，其可使用于基材处理设备中。该反射器包含延伸该紫外线灯长度的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个穿透孔洞以导引冷却剂气体朝向该紫外线灯。在此亦描述使用附有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。

公开(公告)号：CN103827718B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201280045224.3

申请日：2012-09-17

Applicant: 佛森技术公司

Inventor： D·奇尔德斯

IPC: G02B6/44 ,  C03C25/12

CPC classification number: G21K5/00 ,  C03C25/12 ,  F26B3/28 ,  F26B13/00 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065

Abstract: 用于UV固化工件比如光纤上的涂层或印刷油墨的装置包括布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器。工件在共定位焦点处居中，使得双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上。两个单独的光源被放置在每个椭圆反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光基本上集中在共定位焦点处的工件表面上。

公开(公告)号：CN102187441B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN200980142397.5

申请日：2009-10-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y-H·杨 ,  T·A·恩古耶 ,  S·巴录佳 ,  A·卡祖巴 ,  J·C·罗查 ,  T·诺瓦克 ,  D·W·何

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/205

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。

公开(公告)号：CN102981201A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201210518419.7

申请日：2009-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·A·索尔 ,  V·Y·班尼恩 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  M·M·J·W·范赫彭 ,  A·M·亚库林

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  B82Y10/00

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 本申请涉及一种光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件。一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。

公开(公告)号：CN101960338A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980106463.3

申请日：2009-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·A·索尔 ,  V·Y·班尼恩 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  M·M·J·W·范赫彭 ,  A·M·亚库林

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。

公开(公告)号：CN100377303C

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN03802357.1

申请日：2003-06-19

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宫岛义一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G02B7/1815 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70891 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 本申请公开了一种反射镜设备、曝光设备以及器件制造方法。在通过反射引导曝光光线的曝光设备中，用在反射光学系统中的反射镜设备具有：一个具有一个反射所述曝光光线的反射表面的反射镜；用于散热冷却的散热板，被设置在离开所述反射镜的外表面的位置。所述散热板的设置确保入射到所述反射表面上并从该反射表面反射的所述曝光光线的通道区域。另外，用流过冷却管的冷却液体对各散热板进行温度控制。这样，可以抑制用在曝光设备的反射光学系统中的反射镜的温度上升，保持反射镜反射面的面形状的精度。

公开(公告)号：EP1354325A2

公开(公告)日：2003-10-22

申请号：EP02722029.2

申请日：2002-01-23

Applicant: Carl Zeiss SMT AG

Inventor： SINGER, Wolfgang ,  EGLE, Wilhelm ,  WEISS, Markus ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Jochen ,  MELZER, Frank ,  WANGLER, Johannes

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0019 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70825 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: The invention relates to a collector for lighting systems having a wavelength ≤ 193 nm, preferably ≤ 126 nm, more preferably EUV wavelengths for receiving light from a light source via an aperture on the side of the object, and for illuminating a region on an image plane, comprising a plurality of rotationally symmetrical mirror shells respectively comprising at least one first mirror segment having one first optical surface,said mirror shells being arranged about a common axis of rotation and an annular aperture element of the aperture on the side of the object being associated with each mirror shell; a beginning and end point on a meridional plane are associated with the first optical surface, the meridional plane is a plane which includes the axis of rotation and the beginning point of the first optical surface on the meridional plane defines an outer edge beam and the endpoint of the first optical surface defines an inner edge beam, the inner and outer edge beams when rotated about the axis of rotation defining a brush discharge which is reflected on at least the first optical surface of the mirror shells and which runs through the collector from the aperture on the side of the object to the plane to be illuminated. The brush discharge defines a used area between at least two adjacent mirror shells. The invention is characterized in that the surface parameters and the position of the mirror shells are selected in such a way that at least one unused area is formed between at least two adjacent mirror shells.

公开(公告)号：EP0715314A1

公开(公告)日：1996-06-05

申请号：EP95118858.0

申请日：1995-11-30

Applicant: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LIMITED

Inventor： Yamamoto, Yoshiyuki, c/o Itami works of, Sumitomo ,  Tanabe, Keiichiro, c/o Itami works of, Sumitomo ,  Harano, Katsuko, c/o Itami works of, Sumitomo ,  Tsuno, Takashi, c/o Itami works of, Sumitomo ,  Ota, Tobuhiro , c/o Itami works of, Sumitomo ,  Fujimori, Naoji, c/o Itami works of, Sumitomo

IPC: G21K1/10 ,  H05H7/00 ,  H01J35/18

CPC classification number: H01J35/18 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/065 ,  H01J2235/122 ,  H01J2235/1262 ,  H01L23/473 ,  H01L2924/0002 ,  H05H7/00 ,  H01L2924/00

Abstract: A window material, which has a high thermal conductivity material layer having a thermal conductivity of at least 10 W/cm·K and which has a cooling medium flow path on or in the high thermal conductivity material layer, has a high heat-dissipating property and a high transmittance.

Abstract translation: 具有导热率至少为10W / cm·K的高导热性材料层的玻璃材料在高导热性材料层上或其上具有冷却介质流路，具有高的散热性 透光率高。

公开(公告)号：EP2247968A1

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：EP09715126.0

申请日：2009-02-24

Applicant: ASML Netherlands B.V.

Inventor： SOER, Wouter, Anthon ,  BANINE, Vadim, Yevgenyevich ,  MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina ,  VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus ,  YAKURIN, Andrey, Mikhailovich

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: An optical element includes a first layer (4) that includes a first material, and is configured to be substantially reflective for radiation of a first wavelength and substantially transparent for radiation of a second wavelength. The optical element includes a second layer (2) that includes a second material, and is configured to be substantially absorptive or transparent for the radiation of the second wavelength. The optical element includes a third layer (3) that includes a third material between the first layer and the second layer, and is substantially transparent for the radiation of the second wavelength and configured to reduce reflection of the radiation of the second wavelength from a top surface of the second layer facing the first layer. The first layer is located upstream in the optical path of incoming radiation with respect to the second layer in order to improve spectral purity of the radiation of the first wavelength.

公开(公告)号：EP1225481A3

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：EP01128685.3

申请日：2001-12-01

Applicant: Carl Zeiss SMT AG

Inventor： Singer, Wolfgang, Dr. ,  Wangler, Johannes ,  Antoni, Martin

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

CPC classification number: G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0019 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70825 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen mit

einer objektseitigen Apertur, die von einer Lichtquelle abgestrahltes Licht aufnimmt,
einer Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, welche um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind, wobei jeder Spiegelschale ein Ringaperturelement der objektseitigen Apertur zugeordnet ist,
einen auszuleuchtenden Bereich in einer Ebene, der aus Ringelementen besteht, wobei jedem Ringelement ein Ringaperturelement zugeordnet ist,
   
dadurch gekennzeichnet, daß

die Ringaperturelemente nicht überlappen
die Ringelemente nicht überlappen und in der Ebene weitgehend kontinuierlich aneinander anschließen und
die Ausdehnungen in Richtung der Rotationsachse, die Flächenparameter und die Positionen der Spiegelschalen derart gestaltet sind, daß die Bestrahlungsstärken der einzelnen Ringelemente in der Ebene weitgehend übereinstimmen.