公开(公告)号：CN102549461A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080043764.9

申请日：2010-09-27

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： D.菲奥尔卡 ,  R.施图茨尔

IPC: G02B5/30 ,  G21K1/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70233 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0977 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70566 ,  G21K1/06 ,  G21K1/16 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种包括反射镜聚光器的照明光学单元，在该照明光学单元工作期间，该反射镜聚光器产生施加到第一分面光学元件的偏振分布，其中存在至少两个施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件，并且第一分面光学元件具有至少一个第一状态，在第一状态中，选择第一分面元件的反射表面的法向矢量，使得在该照明光学单元工作期间，在物场的位置处产生第一预定偏振分布。

公开(公告)号：CN102214493A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201110159369.3

申请日：2011-06-14

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 乐孜纯 ,  董文

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B23P17/04 ,  G02B27/62 ,  G21K1/065 ,  G21K2201/067 ,  Y10T29/49885

Abstract: 一种金属材料抛物面型二维聚焦X射线组合折射透镜的制作方法，包括以下步骤：(1)金属材料抛物面型二维聚焦X射线组合折射透镜的母镜的制作步骤；(2)金属材料抛物面型二维聚焦X射线组合折射透镜的子镜的制作步骤：(3)金属材料抛物面型二维聚焦X射线组合折射透镜的组装步骤：将制成的母镜和子镜置于显微镜下，发现并夹住子镜的夹持臂，将子镜的嵌入镜体对准母镜的正方形孔，第一抛物线形和第二抛物线形相互呈正交结构，子镜上的n个嵌入镜体与母镜上的n个正方形孔一一对应，嵌入并轻轻压紧，完成金属材料抛物面型二维聚焦X射线组合折射透镜的制作。本发明制作工艺精度高、得到的透镜光轴可高精度自校准、聚焦效率高。

公开(公告)号：CN102159997A

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200980136718.0

申请日：2009-08-22

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 吉塞拉·冯布兰肯哈根

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0875 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70941 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 为了制造工作波长在软X射线和极紫外波长范围内、尤其用于EUV光刻的应力降低反射光学元件(1)，提出：利用能量为40eV或更优选为90eV以上的层形成粒子，在基板(2)与多层系统(4)之间施加应力降低多层系统(6)，其中多层系统(4)为了获得在工作波长的高反射率而被优化。所得到的反射光学元件(1)的突出之处在于：低的表面粗糙度、应力降低多层系统中低的周期数以及应力降低多层系统中高的Γ值。

公开(公告)号：CN101946208A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200980105684.9

申请日：2009-02-19

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 小野元司 ,  渡边满 ,  伊藤正文

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/14 ,  B23K26/02

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  C03C23/0025 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F1/72 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明提供一种使EUVL用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面平滑的方法。本发明涉及一种使EUVL用光学部件的光学表面平滑的方法，其包括：用波长为250nm以下的准分子激光以0.5～2.0J/cm2的能量密度照射EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面，所述光学部件由包含SiO2作为主要成分的含TiO2的石英玻璃材料制成。

公开(公告)号：CN1860555A

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200480015626.4

申请日：2004-06-02

Applicant: 单色X光滤光器技术公司

Inventor： 赵镛民 ,  韩大洙

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  A61B6/00 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/025 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种窄带X光滤光器，可包括：基板；以及一个或多个在基板上相互叠置的反射单元的叠堆。每个反射单元可包括：在各自的下层结构上的第一套至少两个分离的隔片，反射器设置在第一套隔片上，从而在各自的下层结构和反射器之间形成空腔；以及设置在所述第一套至少两个隔片上的第一套至少两个分离的垫片，每个垫片至少与所述反射器的厚度大致相同。用于产生窄带X光束的第一装置可包括这样的滤光器或X光望远镜。用于产生物体的X光图像的第二装置可包括所述的第一装置。

公开(公告)号：CN1284048C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN03147209.5

申请日：2003-06-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·库尔特

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G21K1/06 ,  G02B1/105 ,  G02B1/113 ,  G02B1/14 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明提供一种光刻投射装置，它包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对所述投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到该基底的目标部分上的投射系统；其中，该投射光束入射到其上的至少一个光学元件是多光学层光学元件，所述多光学层光学元件具有至少一个包含Mo-Cr合金的光学层。在本发明的器件制造方法中，投射光束入射到其上的至少一个光学元件是多光学层光学元件，该多光学层光学元件具有至少一个包含Mo-Cr合金的光学层。

公开(公告)号：CN1657462A

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN200510052574.4

申请日：2005-02-21

Applicant: 肖特股份有限公司

Inventor： I·米特拉 ,  J·阿尔坎珀

IPC: C03C10/14

CPC classification number: C03C10/0027 ,  C03C10/0036 ,  C03C15/02 ,  C03C19/00 ,  C03C23/005 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及具有很低或很小的平均热膨胀以及良好抛光性和加工性的新型玻璃陶瓷，涉及根据本发明的玻璃陶瓷的应用和涉及由该玻璃陶瓷制造的光学组件。特别是，提供了含有下列组分的(基于氧化物的重量％)玻璃陶瓷（见右下图）。

公开(公告)号：CN1618114A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN03802357.1

申请日：2003-06-19

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宫岛义一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G02B7/1815 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70891 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 本申请公开了一种反射镜设备、曝光设备以及器件制造方法。在通过反射引导曝光光线的曝光设备中，用在反射光学系统中的反射镜设备具有：一个具有一个反射所述曝光光线的反射表面的反射镜；用于散热冷却的散热板，被设置在离开所述反射镜的外表面的位置。所述散热板的设置确保入射到所述反射表面上并从该反射表面反射的所述曝光光线的通道区域。另外，用流过冷却管的冷却液体对各散热板进行温度控制。这样，可以抑制用在曝光设备的反射光学系统中的反射镜的温度上升，保持反射镜反射面的面形状的精度。

公开(公告)号：CN1580957A

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN200410058768.0

申请日：2004-07-30

Applicant: 英特尔公司

Inventor： P·-Y·颜

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G21K2201/067

Abstract: 远紫外线光刻掩模，由覆盖以衬垫层诸如硅或碳化硼，再覆盖以用于阻止内部扩散的薄层，以及最后覆盖以钌保护层而形成的多层叠层。通过根据保护层最佳化衬垫层的厚度，可以改进光的性质。

公开(公告)号：CN1157418A

公开(公告)日：1997-08-20

申请号：CN96101194.7

申请日：1996-02-17

Applicant: 北京师范大学 ,  中国航天工业总公司

Inventor： 颜一鸣 ,  赫业军 ,  陈宝振 ,  刘安东 ,  丁训良 ,  王大椿 ,  魏富忠

IPC: G02B3/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种整体X光透镜及其制造方法和应用，该透镜包含多个从一端贯通过另一端的X光导孔，其特点在于：该透镜为没有支撑部件的、且由上述X光导孔壁自身熔合而成的、单一的玻璃固体，它可在很宽的波长范围内调控X光，将其会聚成很小的朿斑或转化为准平行光束，也可与X光导管或光阑组成组合体，以进一步提高X光功率密度，它的占空比高、结构小巧；该透镜采用在加热炉内将玻璃管拉伸，一次或多次复合方法一次拉制成型，因此工艺简单、省时、造价低，可应用于荧光分析仪、衍射仪及光刻装置中。