公开(公告)号：EP1801838A1

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：EP05027889.4

申请日：2005-12-20

Applicant: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH

Inventor： Zhou, Fang

IPC: H01J9/50 ,  H01J37/067 ,  H01J3/06

CPC classification number: H01J9/505 ,  H01J3/06 ,  H01J37/067 ,  Y02W30/828

Abstract: A charged particle beam emitting device includes at least two charged particle beam guns (2, 2'), each of the at least two charged particle beam guns (2, 2') having a separate charged particle emitter (4, 4') with an emitting surface for emitting a respective charged particle beam (12. 12'). The charged particle beam emitting device further includes an aperture element (18) comprising at least one aperture opening (16) and a deflector unit (14, 24). The deflector unit (14) is adapted for alternatively directing the charged particle beams (12, 12') of the at least two charged particle beam guns (2, 2') on the at least one aperture opening (16) so that, at the same time, one of the at least two charged particle beams (12, 12') is directed on the aperture opening (16) while the respective other charged particle beam of the at least two charged particle beams (12, 12') is deflected from the aperture opening (16) by the deflector unit (14, 24). At the same time, only one of the two charged particle beam guns (2, 2') is used so that the temporarily unused charged particle beam gun can be subjected to a cleaning procedure. This ensures that the emitting surfaces of both charged particle beam guns (2, 2') can be alternatively frequently cleaned with minimum interruption of the operation of the charged particle beam device.

Abstract translation: 带电粒子束发射装置包括至少两个带电粒子束枪，所述至少两个带电粒子束枪中的每一个具有分离的带电粒子发射器，具有用于发射相应的带电粒子束的发射表面。 带电粒子束发射装置还包括孔元件，该孔元件包括至少一个孔口和偏转器单元。 偏转器单元适于将至少两个带电粒子束枪的带电粒子束交替地引导到至少一个孔口上，使得同时，至少两个带电粒子束中的一个被引导到孔 所述至少两个带电粒子束的相应的其它带电粒子束由所述偏转器单元从所述开口偏转。 同时，仅使用两个带电粒子束枪中的一个，使得临时使用的带电粒子束枪可以进行清洁程序。 这确保了两个带电粒子束枪的发射表面可以以最小的带电粒子束装置的操作中断来交替地和频繁地清洁。

公开(公告)号：WO2012139872A3

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：PCT/EP2012055205

申请日：2012-03-23

Applicant: SIEMENS AG ,  SCHULZ REINER FRANZ

Inventor： SCHULZ REINER FRANZ

IPC: H01J35/06 ,  H01J3/06 ,  H05G1/70

CPC classification number: H01J35/06 ,  H01J3/06 ,  H01J35/14 ,  H01J2235/068 ,  H05G1/70

Abstract: The invention relates to an electron source for generating an electron beam and to an X-ray source for generating X-ray radiation. The invention concerns an electron source (1) for generating an electron beam (22), in which source a first electron emitter (20) for generating electrons and at least one second electron emitter (21) for generating electrons are disposed, the first electron emitter (20) and the at least one second electron emitter (21) being designed such that they can be operated alternately and being arranged in a stationary manner relative to one another. In addition, at least one common device for focusing the electrons of the first electron emitter (20) and of the at least one second electron emitter (21) is provided in the electron source (1), wherein the formed electron beam (22) from the first electron emitter (20) and the formed electron beam (22) from the at least one second electron emitter (21) can be directed onto a common focusing surface (23) by the at least one device for focusing the electrons. Furthermore, the invention relates to an X-ray source (100), the X-ray source (100) comprising an electron source (1) and an anode (24), the electron source (1) being designed in the manner described above.

Abstract translation: 电子源，用于生成用于生成X射线的电子束和X射线源。 本发明涉及的电子源（1），用于生成用于生成电子的电子束（22），其中，第一电子发射器（20），和至少一个第二电子发射器（21）被设置用于产生电子，其中所述第一电子发射器（20） 和至少一个第二电子发射器（21）是可操作的可替换构造和布置固定到彼此。 此外，该电子源中（1）设有至少一个公共装置，用于聚焦第一电子发射器的电子（20）和所述至少一个第二电子发射器（21），通过所述至少一个装置用于聚焦电子束的电子（22）所形成的 所述至少一个第二电子发射器（21）的第一电子发射器（20）和形成所述电子束（22）可被引导到一个公共Fokussierflache（23）。 此外，本发明涉及的X射线源（100），其中，所述X射线源（100），具有电子源（1）和阳极（24），其中，如上面所解释的电子源（1）被构造。

公开(公告)号：WO2014007167A1

公开(公告)日：2014-01-09

申请号：PCT/JP2013/067852

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社 東芝 ,  東芝電子管デバイス株式会社

Inventor： 石原　智成 ,  赤堀　直紀 ,  阿武　秀郎

IPC: H01J35/06

CPC classification number: H01J35/06 ,  A61B6/44 ,  H01J1/16 ,  H01J1/18 ,  H01J1/88 ,  H01J3/06 ,  H01J3/18 ,  H01J19/10 ,  H01J19/42 ,  H01J23/04 ,  H01J23/083 ,  H01J29/04 ,  H01J29/50 ,  H01J29/62 ,  H01J35/14 ,  H01J37/065 ,  H01J2229/481 ,  H01J2229/4827 ,  H01J2229/4831 ,  H01J2229/50 ,  H01J2229/582 ,  H01J2229/5835 ,  H01J2235/06 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/049 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2893/0005 ,  H01J2893/005 ,  H01J2893/0088 ,  H01J2893/0089 ,  H01J2893/0094

Abstract: 　焦点寸法可変制御と管電流制御を簡便かつ安定して行うことができるＸ線管を提供する。フィラメント（１１）と、該フィラメント（１１）が収められる溝部（１６）とを有する陰極（１０）を備えたＸ線管において、前記溝部（１６）を、同一平面上に前記フィラメント（１１）が位置し、前記溝部（１６）の幅方向（ｄｂ）に前記フィラメント（１１）を挟む一対の第１底面（Ｓ１）と、前記溝部（１６）の長さ方向（ｄａ）に前記フィラメント（１１）及び前記一対の第１底面（Ｓ１）を挟み、前記一対の第１底面（Ｓ１）より前記溝部（１６）の開口（１６ａ）側に位置している第２底面（Ｓ２）とを有するものとした。

Abstract translation: 提供能够容易且稳定地进行聚焦尺寸可变控制和管电流控制的X射线管。 X射线管配备有具有灯丝（11）的阴极（10）和容纳灯丝（11）的沟槽部分（16）。 在X射线管中，沟槽部分（16）具有：一对第一底面（S1），其具有与灯丝（11）所在的平面相同的平面，并将灯丝（11）夹在宽度 沟槽部分（16）的方向（db）; 以及在所述沟槽部分（16）的长度方向（da）上夹着所述细丝（11）和所述一对第一底表面（S1）并位于所述沟槽的更多开口（16a）侧上的第二底表面（S2） 部分（16）比所述一对第一底面（S1）。

公开(公告)号：WO2012139872A2

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：PCT/EP2012/055205

申请日：2012-03-23

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  SCHULZ, Reiner Franz

Inventor： SCHULZ, Reiner Franz

IPC: H01J35/06 ,  H05G1/70 ,  H01J3/06

CPC classification number: H01J35/06 ,  H01J3/06 ,  H01J35/14 ,  H01J2235/068 ,  H05G1/70

Abstract: Elektronenquelle zur Erzeugung eines Elektronenstrahls sowie Röntgenquelle zur Erzeugung von Röntgenstrahlung Die Erfindung betrifft eine Elektronenquelle (1) zur Erzeugung eines Elektronenstrahls (23), in der ein erster Elektronenemitter (20) zur Erzeugung von Elektronen und zumindest ein zweiter Elektronenemitter (21) zur Erzeugung von Elektronen angeordnet sind, wobei der erste Elektronenemitter (20) und der zumindest eine zweite Elektronenemitter (21) alternativ betreibbar ausgestaltet sind und zueinander ortsfest angeordnet sind. Zusätzlich ist bei der Elektronenquelle (1) wenigstens eine gemeinsame Vorrichtung zur Fokussierung der Elektronen des ersten Elektronenemitters (20) und des zumindest einen zweiten Elektronenemitters (21) vorgesehen, wobei durch die wenigstens eine Vorrichtung zur Fokussierung der Elektronen der gebildete Elektronenstrahl (22) des ersten Elektronenemitters (20) und der gebildete Elektronenstrahl (22) des zumindest einen zweiten Elektronenemitters (21) auf eine gemeinsame Fokussierfläche (23) gerichtet werden können. Ferner betrifft die Erfindung eine Röntgenquelle (100), wobei die Röntgenquelle (100) eine Elektronenquelle (1) und eine Anode (24) aufweist, wobei die Elektronenquelle (1) derart ausgebildet ist.

Abstract translation: 电子源，用于生成用于生成X射线辐射，本发明涉及一种电子源（1），用于生成产生电子束（23），其中，第一电子发射器（20）用于产生电子，以及至少一个第二电子发射器（21）的电子束和X射线源 电子被布置，其中，所述第一电子发射器（20）和所述至少一个第二电子发射器（21）是可操作的可替换构造和布置固定到彼此。 此外，该电子源中（1）设有至少一个公共装置，用于聚焦第一电子发射器的电子（20）和所述至少一个第二电子发射器（21），通过所述至少一个装置用于聚焦电子束的电子（22）所形成的 所述至少一个第二电子发射器（21）的第一电子发射器（20）和形成所述电子束（22）可以在一个共同的聚焦平面（23）被引导。 此外，本发明涉及的X射线源（100），其中，所述X射线源（100），具有电子源（1）和阳极（24），其中所述电子源（1）被适配。

公开(公告)号：JPWO2014007167A1

公开(公告)日：2016-06-02

申请号：JP2014523715

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社東芝 ,  東芝電子管デバイス株式会社

Inventor： 智成 石原 ,  智成 石原 ,  直紀 赤堀 ,  直紀 赤堀 ,  阿武　秀郎 ,  秀郎 阿武

IPC: H01J35/06

CPC classification number: H01J35/06 ,  A61B6/44 ,  H01J1/16 ,  H01J1/18 ,  H01J1/88 ,  H01J3/06 ,  H01J3/18 ,  H01J19/10 ,  H01J19/42 ,  H01J23/04 ,  H01J23/083 ,  H01J29/04 ,  H01J29/50 ,  H01J29/62 ,  H01J35/14 ,  H01J37/065 ,  H01J2229/481 ,  H01J2229/4827 ,  H01J2229/4831 ,  H01J2229/50 ,  H01J2229/582 ,  H01J2229/5835 ,  H01J2235/06 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/049 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2893/0005 ,  H01J2893/005 ,  H01J2893/0088 ,  H01J2893/0089 ,  H01J2893/0094

Abstract: 焦点寸法可変制御と管電流制御を簡便かつ安定して行うことができるX線管を提供する。フィラメント(11)と、該フィラメント(11)が収められる溝部(16)とを有する陰極(10)を備えたX線管において、前記溝部(16)を、同一平面上に前記フィラメント(11)が位置し、前記溝部(16)の幅方向(db)に前記フィラメント(11)を挟む一対の第1底面(S1)と、前記溝部(16)の長さ方向(da)に前記フィラメント(11)及び前記一対の第1底面(S1)を挟み、前記一対の第1底面(S1)より前記溝部(16)の開口(16a)側に位置している第2底面(S2)とを有するものとした。

Abstract translation: 提供一种X射线管，其可以很容易地和稳定地执行聚焦大小可变的控制和管电流控制。 灯丝（11），在具有阴极（10）具有槽的灯丝（11）的X射线管容纳（16），所述槽（16），在同一平面内的灯丝（11） 位置，并且所述凹槽（16）中的横向方向（分贝）的灯丝（11）的一对第一底表面的夹住（S1），在所述凹槽（16）的纵向方向（DA）的灯丝（11） 和夹持所述一对第一底表面（S1）的和具有槽（16）比所述一对第一底表面（S1），其位于（16A）侧上的第二底表面（S2）的一个开口 这是。

公开(公告)号：JP6223973B2

公开(公告)日：2017-11-01

申请号：JP2014523715

申请日：2013-06-28

Applicant: 東芝電子管デバイス株式会社

Inventor： 石原 智成 ,  赤堀 直紀 ,  阿武 秀郎

IPC: H01J35/06

CPC classification number: H01J35/06 ,  H01J19/10 ,  H01J19/42 ,  H01J29/50 ,  H01J3/06 ,  H01J35/14 ,  H01J37/065 ,  A61B6/44 ,  H01J1/16 ,  H01J1/18 ,  H01J1/88 ,  H01J2229/481 ,  H01J2229/4827 ,  H01J2229/4831 ,  H01J2229/50 ,  H01J2229/582 ,  H01J2229/5835 ,  H01J2235/06 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/049 ,  H01J2237/06375 ,  H01J23/04 ,  H01J23/083 ,  H01J2893/0005 ,  H01J2893/005 ,  H01J2893/0088 ,  H01J2893/0089 ,  H01J2893/0094 ,  H01J29/04 ,  H01J29/62 ,  H01J3/18

公开(公告)号：JP2012238624A

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：JP2011104740

申请日：2011-05-09

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： ITO JUN

IPC: H01L21/027 ,  H01J37/067 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/028 ,  H01J37/067 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/022

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology which is advantageous for shortening the time required for replacing an electrode of an electron gun.SOLUTION: An electron beam lithography apparatus for drawing a pattern on a substrate by electron beams emitted from an electron gun includes: an adjustment chamber for adjusting a standby electrode constituting the electron gun as a standby of an electrode; and a drive mechanism in which the used electrode is detached from the electron gun and the standby electrode adjusted in the adjustment chamber is incorporated into the electron gun. The supply of electric power to the standby electrode is included in adjustment of the standby electrode.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种有利于缩短更换电子枪电极所需的时间的技术。 解决方案：一种用于通过从电子枪发射的电子束在衬底上绘制图案的电子束光刻设备包括：用于调节构成电子枪的备用电极作为电极的待机的调节室; 以及驱动机构，其中使用的电极与电子枪分离，并且在调节室中调节的待机电极被并入到电子枪中。 备用电极的电力供给包括在备用电极的调整中。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT