使用标签剂材料进行物品验证的装置及方法

    公开(公告)号:CN101865842A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200910252376.0

    申请日:2009-11-27

    Inventor: 邓树端

    CPC classification number: G01J1/58 G01J3/02 G01J3/0218 G01J3/51 G01J3/513 G07D7/12

    Abstract: 本发明涉及一种用于验证物品的物品验证系统,其包括:标签剂材料,其施用于物品上;数据库,用于存储与标签剂材料的激励-放射特性和所述物品的身份相关的数据;及验证读取器,该验证读取器包括:激励源,用于放射激励所述标签剂材料的光;放射检测设备,用于检测所述经激励的标签剂材料的放射光;处理单元,用于分析所述经检测的放射光,将所述经检测的放射光的物理特性与所述数据库中存储的数据进行比较,以验证所述物品的身份;其中,所述标签剂材料包括荧光材料;所述标签剂材料通过与所述物品的原材料相混合、通过与所述物品的一部分相集成或通过粘性材料附着于所述物品,从而施用于所述物品。同时提供一种用于验证物品的方法。

    一种二维光谱测量装置
    193.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101813520A

    公开(公告)日:2010-08-25

    申请号:CN200910215556.1

    申请日:2009-12-23

    Inventor: 潘建根

    CPC classification number: G01J3/2823 G01J3/02 G01J3/0248 G01J3/0291 G01J3/06

    Abstract: 本发明公开了一种二维光谱测量装置,包括机壳,被测二维目标的被测量光束从镜头进入机壳内,并分别被机壳内的观察器和光谱仪接收;观察器用来对准被测目标和/或测量被测目标的图像亮度信息,光谱仪由狭缝、色散部件和二维多通道探测器组成,一次测量能够得到某一行/列中各点的光谱分布;在机壳内或者在机壳上设置扫描机构,使狭缝与被测二维目标像面产生相对位移,扫描机构和光谱仪相配合测得被测二维目标上各点的光谱分布、亮度、颜色等详尽光学参数;本发明的二维光谱测量装置操作简便、快速,重复性好,测量精度高,可测量参数齐全。

    光谱计装置
    196.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101802572A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200880020833.7

    申请日:2008-05-09

    Abstract: 一种光谱计装置(10)具有光谱计,用于在探测器(34)上产生来自辐射源的辐射的光谱,它包含有一个成像的,光学的利特罗装置(18,20),用于使进入光谱计装置里的辐射(16)成像在一个图像平面里,有第一分散装置(28,30),用于对进入光谱计装置里的辐射的第一波长范围进行光谱分解,还有第二分散装置(58,60),用于对进入光谱计装置里的辐射的第二波长范围进行光谱分解,以及有一个共同的布置在成像光学机构的图像平面里的探测器(34),其特征在于,成像的光学机构(18,20)包括有在两个位置(20,50)之间运动的元件(20),其中射入光谱计装置里的辐射在第一位置上通过第一分散装置,而在第二位置上通过第二分散装置进行传导。

    适于光谱测定的光学特性测定装置以及光学特性测定方法

    公开(公告)号:CN101726361A

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200910178173.1

    申请日:2009-10-15

    CPC classification number: G01J3/02 G01J1/0219 G01J3/0232 G01J3/28

    Abstract: 提供一种适于光谱测定的光学特性测定装置以及光学特性测定方法。处理部在遮断向壳体入射的光后获取在与来自分光器的光的入射面对应的第一检测区域检测到的第一光谱和在与来自分光器的光的入射面不同的第二检测区域检测到的第一信号强度,接着,从第一光谱的各成分值中减去根据第一信号强度算出的第一校正值来算出第一校正光谱。处理部在打开遮断部的状态下获取在第一检测区域检测到的第二光谱和在第二检测区域检测到的第二信号强度,接着,从第二光谱的各成分值中减去根据第二信号强度算出的第二校正值来算出第二校正光谱。最终,处理部从第二校正光谱的各成分值中减去第一校正光谱的对应的成分值来算出作为测定结果的输出光谱。

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