Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Anordnung für ein elektronisches Gerät. Eine Mehrzahl von elektrisch leitenden Pins (2) ist in jeweiligen Durchkontaktierungen (103) des Schaltungsträgers (1) positioniert, wobei sich die Pins (2) zur elektrischen Kontaktierung von einem oder mehreren Bauteilen von einer ersten Seite (101) des Schaltungsträgers (1) hin zu einem Kontaktende erstrecken. In der Anordnung ist auf einer Seite des Schaltungsträgers (1), welche die erste oder eine zweite Seite (101, 102) ist, im Bereich der Pins (2) eine elektrisch isolierende Schicht (4, 6) angeordnet, die einen vorgefertigten Körper (4) aufweist, der an der einen Seite (101, 102) des Schaltungsträgers (1) positioniert ist. Ein Abschnitt jedes Pins (2), der benachbart zur jeweiligen Durchkontaktierung (103) auf der einen Seite angeordnet ist, ist von Material der isolierenden Schicht (4, 6) durchgängig lateral umschlossen.
Abstract:
Metal substrate comprising a metallic layer (11) and a conductive via (15) extending through the metallic layer. The conductive via is electrically insulated from the metal substrate with a dielectric nanoceramic layer (12) and provides electrical and/or thermal connection to opposite sides of the metallic layer. Such metal substrates may be used as substrates to support power, microwave, optoelectronic, solid-state lighting and thermoelectric devices. The dielectric nanoceramic layer has a crystalline structure consisting of substantially equiaxed grains having an average grain size of 100 nanometres or less, a thickness of between 1 micrometre and 50 micrometres, a dielectric strength of greater than 20 KV mm-and a thermal conductivity of greater than 3 W/mK.
Abstract:
A method for fabricating a conductive trace structure includes the steps: forming a first metal layer on a non-conductive substrate; removing a part of the first metal layer to expose the non-conductive substrate so as to form the first metal layer into a plating region and a non-plating region, the plating region being divided into at last two trace-forming portions and at least one bridge portion; forming a second metal layer on the plating region by electroplating the plating region using one of trace-forming portions and the bridge portion as an electrode; and removing the bridge portion and the second metal layer formed on the bridge portion.
Abstract:
A method of forming a non-metallic coating on a metallic substrate involves the steps of positioning the metallic substrate in an electrolysis chamber and applying a sequence of voltage pulses of alternating polarity to electrically bias the substrate with respect to an electrode. Positive voltage pulses anodically bias the substrate with respect to the electrode and negative voltage pulses cathodically bias the substrate with respect to the electrode. The amplitude of the positive voltage pulses is potentiostatically controlled, wheras the amplitude of the negative voltage pulses is galvanostatically controlled.