公开(公告)号：WO2011088217A9

公开(公告)日：2012-05-03

申请号：PCT/US2011021142

申请日：2011-01-13

Applicant: AEROSPACE CORP ,  HELVAJIAN HENRY

Inventor： HELVAJIAN HENRY

IPC: B81B7/00

CPC classification number: H05K7/02 ,  B01J19/0093 ,  B01J2219/00824 ,  B01J2219/00835 ,  B01J2219/00853 ,  B01J2219/00941 ,  B01J2219/00948 ,  B01L3/502707 ,  B01L2300/0654 ,  B01L2300/0681 ,  B01L2300/0867 ,  B01L2300/0874 ,  B81B7/0077 ,  B81B2207/07 ,  B81B2207/092 ,  B81B2207/095 ,  B81B2207/096 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0143 ,  B81C2201/0159 ,  G02B2006/12035 ,  G02B2006/12171 ,  H01P3/121 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/16 ,  H05K1/162 ,  H05K1/165 ,  H05K3/0023 ,  H05K3/101 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/49005 ,  Y10T29/4908

Abstract: A photostructurable ceramic is processed using photostructuring process steps for embedding devices within a photostructurable ceramic volume, the devices may include one or more of chemical, mechanical, electronic, electromagnetic, optical, and acoustic devices, all made in part by creating device material within the ceramic or by disposing a device material through surface ports of the ceramic volume, with the devices being interconnected using internal connections and surface interfaces.

Abstract translation: 使用光结构化工艺步骤处理可光致结构陶瓷，以将器件嵌入光可建构的陶瓷体积内，所述器件可包括化学，机械，电子，电磁，光学和声学器件中的一种或多种，​​全部通过在 陶瓷或者通过将装置材料穿过陶瓷体积的表面端口来布置，其中装置使用内部连接和表面接口相互连接。

公开(公告)号：WO2010099220A3

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：PCT/US2010025261

申请日：2010-02-24

Applicant: CALIFORNIA INST OF TECHN ,  HENRY MICHAEL D ,  HOMYK ANDREW P ,  SCHERER AXEL ,  TOMBRELLO THOMAS A ,  WALAVALKAR SAMEER

Inventor： HENRY MICHAEL D ,  HOMYK ANDREW P ,  SCHERER AXEL ,  TOMBRELLO THOMAS A ,  WALAVALKAR SAMEER

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B01J19/0046 ,  B01J2219/00504 ,  B01J2219/00664 ,  B81B1/006 ,  B81B2203/0361 ,  B81B2207/056 ,  B81C2201/0112 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0133 ,  B81C2201/0159 ,  G01N1/405 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/30655 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  Y10T436/25375

Abstract: Methods for fabricating of high aspect ratio probes and deforming micropillars and nanopillars are described. Use of polymers in deforming nanopillars and micropillars is also described.

Abstract translation: 描述了制造高纵横比探针和变形微柱和纳米柱的方法。 还描述了聚合物在使纳米柱和微柱变形中的用途。

公开(公告)号：WO2010099216A2

公开(公告)日：2010-09-02

申请号：PCT/US2010025256

申请日：2010-02-24

Applicant: CALIFORNIA INST OF TECHN ,  HENRY MICHAEL D ,  HOMYK ANDREW P ,  SCHERER AXEL ,  WALAVALKAR SAMEER

Inventor： HENRY MICHAEL D ,  HOMYK ANDREW P ,  SCHERER AXEL ,  WALAVALKAR SAMEER

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/3065 ,  H01L31/042

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B01J19/0046 ,  B01J2219/00504 ,  B01J2219/00664 ,  B81B1/006 ,  B81B2203/0361 ,  B81B2207/056 ,  B81C2201/0112 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0133 ,  B81C2201/0159 ,  G01N1/405 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/30655 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  Y10T436/25375

Abstract: Methods for fabrication of high aspect ratio micropillars and nanopillars are described. Use of alumina as an etch mask for the fabrication methods is also described. The resulting micropillars and nanopillars are analyzed and a characterization of the etch mask is provided.

Abstract translation: 描述了用于制造高纵横比微柱和纳米柱的方法。 还描述了使用氧化铝作为制造方法的蚀刻掩模。 分析所得到的微柱和纳米柱，并提供蚀刻掩模的表征。

公开(公告)号：WO2010003600A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：PCT/EP2009/004846

申请日：2009-07-03

Applicant: THE PROVOST, FELLOWS AND SCHOLARS OF THE COLLEGE OF THE HOLY AND UNDIVIDED TRINITY OF QUEEN ELIZABETH NEAR DUBLIN ,  CROSS, Graham L. W. ,  McKENZIE, Warren ,  PETHICA, John B.

Inventor： CROSS, Graham L. W. ,  McKENZIE, Warren ,  PETHICA, John B.

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  B81C1/00 ,  H01L21/033

CPC classification number: G03F7/11 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0143 ,  B81C2201/0159 ,  B81C2201/036 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337

Abstract: The invention provides a system and process of patterning structures on a carbon based surface comprising exposing part of the surface to an ion flux, such that material properties of the exposed surface are modified to provide a hard mask effect on the surface. A further step of etching unexposed parts of the surface forms the structures on the surface. The inventors have discovered that by controlling the ion exposure, alteration of the surface structure at the top surface provides a mask pattern, without substantially removing any material from the exposed surface. The mask allows for subsequent ion etching of unexposed areas of the surface leaving the exposed areas raised relative to the unexposed areas thus manufacturing patterns onto the surface. For example, a Ga+ focussed ion beam exposes a pattern onto a diamond surface which produces such a pattern after its exposure to a plasma etch. The invention is particularly suitable for patterning of clear well-defined structures down to nano-scale dimensions.

Abstract translation: 本发明提供了一种在碳基表面上构图结构的系统和工艺，包括将表面的一部分暴露于离子通量，使得暴露表面的材料性质被修饰以在表面上提供硬掩模效应。 蚀刻表面的未曝光部分的另一步骤形成表面上的结构。 发明人已经发现，通过控制离子暴露，顶表面上的表面结构的改变提供掩模图案，而基本上不从暴露表面移除任何材料。 该掩模允许对表面的未曝光区域的后续离子蚀刻，离开暴露区域相对于未曝光区域升高，从而将图案制造到表面上。 例如，Ga +聚焦离子束将图案暴露在金刚石表面上，其在暴露于等离子体蚀刻之后产生这种图案。 本发明特别适用于直到纳米级尺寸的清晰明确定义的结构的图案化。

公开(公告)号：WO2009045050A3

公开(公告)日：2009-05-22

申请号：PCT/KR2008005787

申请日：2008-10-01

Applicant: SEOUL NAT UNIV IND FOUNDATION ,  KWON SUNG HOON ,  KIM JI YUN ,  PARK WOOK ,  PARK HYUN SUNG ,  LEE SEUNG AH ,  CHUNG SU EUN

Inventor： KWON SUNG HOON ,  KIM JI YUN ,  PARK WOOK ,  PARK HYUN SUNG ,  LEE SEUNG AH ,  CHUNG SU EUN

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B29C39/22 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/2035

Abstract: A fluidic channel system is provided. The fluidic channel system includes a light projection apparatus, a fluidic channel, and a rail. The light projection apparatus provides light. A photocurable fluid, which is selectively cured by the light, flows inside the fluidic channel. A fine structure which is to be formed by curing the photocurable fluid moves along the rail.

Abstract translation: 提供流体通道系统。 流体通道系统包括光投射装置，流体通道和轨道。 光投射装置提供光。 通过光选择性固化的可光固化流体在流体通道内流动。 通过固化可光固化流体形成的精细结构沿轨道移动。

公开(公告)号：WO2009045050A2

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：PCT/KR2008/005787

申请日：2008-10-01

Applicant: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY INDUSTRY FOUNDATION ,  KWON, Sung Hoon ,  KIM, Ji Yun ,  PARK, Wook ,  PARK, Hyun Sung ,  LEE, Seung Ah ,  CHUNG, Su Eun

Inventor： KWON, Sung Hoon ,  KIM, Ji Yun ,  PARK, Wook ,  PARK, Hyun Sung ,  LEE, Seung Ah ,  CHUNG, Su Eun

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B29C39/22 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/2035

Abstract: A fluidic channel system is provided. The fluidic channel system includes a light projection apparatus, a fluidic channel, and a rail. The light projection apparatus provides light. A photocurable fluid, which is selectively cured by the light, flows inside the fluidic channel. A fine structure which is to be formed by curing the photocurable fluid moves along the rail.

Abstract translation: 提供流体通道系统。 流体通道系统包括光投射装置，流体通道和轨道。 光投射装置提供光。 由光选择性固化的光固化流体在流体通道内流动。 通过固化可光固化流体而形成的精细结构沿轨道移动。

公开(公告)号：WO2008150140A3

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：PCT/KR2008003198

申请日：2008-06-09

Applicant: SEOUL NAT UNIV IND FOUNDATION ,  KWON SUNG HOON

Inventor： KWON SUNG HOON

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/20 ,  B81B2203/0338 ,  B81C1/00111 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0159

Abstract: An optofluidic maskless lithography system is provided. The optofluidic lithography system includes a light source; a spatial light modulator for modulating light provided by the light source; and a microfluidic channel including photocurable liquid flowing therein, wherein the microfluidic channel selectively cures the photocurable liquid according to the modulated light provided by the spatial light modulator.

Abstract translation: 提供了一种光流体无掩模光刻系统。 光流光刻系统包括光源; 用于调制由光源提供的光的空间光调制器; 以及包含在其中流动的光固化液体的微流体通道，其中微流体通道根据由空间光调制器提供的调制光选择性地固化光固化液体。

公开(公告)号：WO2008150140A2

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：PCT/KR2008/003198

申请日：2008-06-09

Applicant: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY INDUSTRY FOUNDATION ,  KWON, Sung Hoon

Inventor： KWON, Sung Hoon

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/20 ,  B81B2203/0338 ,  B81C1/00111 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0159

Abstract: An optofluidic maskless lithography system is provided. The optofluidic lithography system includes a light source; a spatial light modulator for modulating light provided by the light source; and a microfluidic channel including photocurable liquid flowing therein, wherein the microfluidic channel selectively cures the photocurable liquid according to the modulated light provided by the spatial light modulator.

Abstract translation: 提供了一种光流体无掩模光刻系统。 光流光刻系统包括光源; 用于调制由光源提供的光的空间光调制器; 以及包含在其中流动的光固化液体的微流体通道，其中微流体通道根据由空间光调制器提供的调制光选择性地固化光固化液体。

公开(公告)号：WO2005078523A1

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：PCT/KR2005/000346

申请日：2005-02-04

Applicant: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY ,  YOON, Jun-Bo ,  CHANG, Sung-Il ,  KIM, Dae-Hyun ,  LEE, Hyung-Suk ,  CHOI, Joo-Nyong ,  JANG, Weon-Wi ,  LEE, Kyungho

Inventor： YOON, Jun-Bo ,  CHANG, Sung-Il ,  KIM, Dae-Hyun ,  LEE, Hyung-Suk ,  CHOI, Joo-Nyong ,  JANG, Weon-Wi ,  LEE, Kyungho

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2008 ,  B81B3/001 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0118 ,  B81B2203/0338 ,  B81B2203/0376 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0159 ,  B81C2201/034 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/7035 ,  H05K3/0023 ,  H05K3/0079 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/107 ,  H05K3/4092 ,  H05K2201/09981 ,  H05K2203/0594

Abstract: The present invention relates to polymer patterns of various shapes formed using modifications of means and methods used in the prior lithography process, and the metal film patterns, metal patterns and plastic molds using the polymer patterns, as well as methods of forming these patterns and molds. The method of forming the polymer patterns comprises the steps of: (a) depositing a photosensitive polymer on the substrate to form a polymer film; (b) placing a photomask on the polymer film; and (c) irradiating the polymer film with a light moving in random direction through the photomask, so as to form at least one pattern which is concave from the surface of the polymer film in a direction perpendicular to the substrate and extends in a direction parallel to the substrate. The inventive polymer patterns have at least one pattern which is concave from the surface of the polymer film in a direction perpendicular to the substrate and extends in a direction parallel to the substrate. The vertical cross-section of the concave patterns has at least one curved surface.

Abstract translation: 本发明涉及使用在现有光刻工艺中使用的方法和方法的改进形成的各种形状的聚合物图案，以及使用聚合物图案的金属膜图案，金属图案和塑料模具以及形成这些图案和模具的方法 。 形成聚合物图案的方法包括以下步骤：（a）将光敏聚合物沉积在基底上以形成聚合物膜; （b）将光掩模放在聚合物膜上; 和（c）以沿随机方向移动的光照射聚合物膜通过光掩模，从而形成至少一个图案，该图案在垂直于基底的方向上从聚合物膜的表面凹入并在平行方向上延伸 到基底。 本发明的聚合物图案具有至少一种图案，其在垂直于基底的方向上从聚合物膜的表面凹入，并且在平行于基底的方向上延伸。 凹形图案的垂直横截面具有至少一个曲面。

公开(公告)号：WO2005017623A2

公开(公告)日：2005-02-24

申请号：PCT/FR2004/050377

申请日：2004-08-05

Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ,  RABAROT, Marc ,  KIPP, Mathieu ,  KOPP, Christophe

Inventor： RABAROT, Marc ,  KIPP, Mathieu ,  KOPP, Christophe

IPC: G03F7/20

CPC classification number: B81C1/00103 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/70216

Abstract: L'invention concerne un procédé de photolithographie permettant la réalisation de motifs dans une couche de résine photosensible (601) posée sur un substrat (600). Les motifs (607) comprennent des flancs (608) inclinés par rapport à une normale (n) à un plan principal du substrat et qui présentent un angle d'inclinaison (θ) bien supérieur à celui des motifs obtenus selon l'art antérieur. L'invention concerne également un dispositif permettant de mettre en oeuvre ledit procédé.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在放置在基板（600）上的感光树脂层（601）中产生图案的平版印刷方法。 所述图案（607）包括相对于主基板平面（n）倾斜的侧面（608），形成比由本领域先前技术可获得的图案的倾斜角度（θ）大的倾斜角度（θ） 。 还公开了用于实施本发明的方法的装置。