公开(公告)号：JP4381149B2

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：JP2003576339

申请日：2003-03-06

Applicant: ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG

Inventor： フリッツ・シュヴェルトフェーガー ,  ベルンド・ハーク ,  ホルガー・スツィラート ,  マルカス・シェーファー

IPC: C01B33/18 ,  C01B39/00 ,  C03B19/10 ,  C03C3/06 ,  C03C12/00

CPC classification number: B82Y30/00 ,  C01B33/183 ,  C01P2002/84 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C03B19/1025 ,  C03B2201/03 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/46 ,  C03C3/06 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/44

公开(公告)号：JP4157933B2

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：JP2002078840

申请日：2002-03-20

Applicant: ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG ,  信越石英株式会社

Inventor： ヴァルトラウト・ヴェルデッカー ,  ウード・ゲルティッヒ ,  ヨハン・ライスト ,  ライナー・ケプラー

IPC: C03B20/00 ,  C01B33/12 ,  C03B19/06 ,  C03B19/12 ,  C03C3/06 ,  C03C14/00 ,  C04B35/14 ,  C04B35/653

CPC classification number: C04B35/653 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C14/004 ,  C03C2201/02 ,  C04B35/14 ,  Y10S977/775 ,  Y10S977/776 ,  Y10S977/90

公开(公告)号：JP3931351B2

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：JP32501694

申请日：1994-12-27

Applicant: 東ソー株式会社

Inventor： 富義 久保 ,  俊幸 多賀 ,  英昭 岡田 ,  伸生 衛藤

IPC: C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C01B33/18 ,  C03B19/06 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C30B15/10 ,  H01L21/22

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52

公开(公告)号：JP3883233B2

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：JP20282096

申请日：1996-07-15

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 秀夫 伊藤 ,  成隆 村田 ,  信治 橋谷

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00

CPC classification number: C03C11/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/52

公开(公告)号：JP2004250326A

公开(公告)日：2004-09-09

申请号：JP2004039852

申请日：2004-02-17

Applicant: Cark Zeiss Smt Ag ,  カール ツァイス エスエムテー アーゲー

Inventor： LINDNER RALF ,  STIETZ FRANK ,  NOTHELFER UDO ,  EVA ERIC

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/40 ,  Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method for quartz glass by which a quartz glass material whose optical properties does not change or changes little in long-term use can be formed.
SOLUTION: The production method produces a quartz glass material which exhibits high resistance to radiation-induced density change when irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of around 193 nm and an energy density almost the same as the processing energy density of an optical system for microlithography. The method minimizes the amount of peroxo-group defects in the quartz glass material and suppresses the generation of closely adjacent hydroxy groups, i.e. an essential cause of radiation-induced density decrease.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

公开(公告)号：TW201627236A

公开(公告)日：2016-08-01

申请号：TW104131177

申请日：2015-09-21

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 霍夫曼 艾奇 ,  HOFMANN, ACHIM ,  凱瑟 湯瑪士 ,  KAYSER, THOMAS ,  歐特 馬休斯 ,  OTTER, MATTHIAS ,  庫恩 波多 ,  KUEHN, BODO

IPC: C03B20/00 ,  C01B33/18

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/02 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/02

Abstract: 本發明提供一種藉由熔合SiO2粒子產製不透明合成石英玻璃的已知方法，其包含以下方法步驟：合成非晶SiO2初始顆粒；粒化該等非晶SiO2初始顆粒以便形成開孔SiO2粒子；藉由在燒結氛圍中在燒結溫度下並持續一定燒結時間段加熱來燒結該開孔SiO2粒子以便形成經緻密化之SiO2粒子；及在熔融溫度下熔融該經緻密化之SiO2粒子以便形成該合成石英玻璃。以此起始，為指示一種儘管使用仍開孔SiO2粒子，但准許低價產製石英玻璃之低氣泡透明組件的方法，根據本發明建議，在根據方法步驟(c)之燒結期間，調整燒結氛圍、燒結溫度及燒結持續時間，使得該經緻密化之SiO2粒子一方面仍包含開孔，且另一方面在波長1700nm下顯示材料特異性紅外線透射T1700，該透射在相同材料之石英玻璃小顆粒之紅外線透射T1700之50-95%範圍內。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种借由熔合SiO2粒子产制不透明合成石英玻璃的已知方法，其包含以下方法步骤：合成非晶SiO2初始颗粒；粒化该等非晶SiO2初始颗粒以便形成开孔SiO2粒子；借由在烧结氛围中在烧结温度下并持续一定烧结时间段加热来烧结该开孔SiO2粒子以便形成经致密化之SiO2粒子；及在熔融温度下熔融该经致密化之SiO2粒子以便形成该合成石英玻璃。以此起始，为指示一种尽管使用仍开孔SiO2粒子，但准许低价产制石英玻璃之低气泡透明组件的方法，根据本发明建议，在根据方法步骤(c)之烧结期间，调整烧结氛围、烧结温度及烧结持续时间，使得该经致密化之SiO2粒子一方面仍包含开孔，且另一方面在波长1700nm下显示材料特异性红外线透射T1700，该透射在相同材料之石英玻璃小颗粒之红外线透射T1700之50-95%范围内。

公开(公告)号：TW201130736A

公开(公告)日：2011-09-16

申请号：TW100100197

申请日：2011-01-04

Applicant: 三菱綜合材料股份有限公司

Inventor： 植田稔晃

IPC: C01B

CPC classification number: C01B33/181 ,  C01B33/14 ,  C01P2002/02 ,  C01P2002/82 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2006/12 ,  C03B19/1025 ,  C03B19/1065 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/27 ,  Y10T428/2982

Abstract: 本發明之合成非晶質矽石粉末，係將矽石粉末施予球狀化處理後，洗淨、乾燥所到平均粒徑D50為10～2000μm之合成非晶質矽石粉末；其特徵為將BET比表面積除以由平均粒徑D50所計算出之理論比表面積之值為1.00～1.35、真密度為2.10～2.20g/cm 3 、粒子內空間率為0～0.05、圓形度為0.75～1.00及球狀化率為0.55～1.00；此合成非晶質矽石粉末，因表面上吸著的氣體成份、粉末內部的氣體成份少，使用此粉末所製造的合成矽玻璃製品，即使是在高溫及減壓之環境下使用，亦可使氣泡之發生或膨漲大幅降低。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之合成非晶质硅石粉末，系将硅石粉末施予球状化处理后，洗净、干燥所到平均粒径D50为10～2000μm之合成非晶质硅石粉末；其特征为将BET比表面积除以由平均粒径D50所计算出之理论比表面积之值为1.00～1.35、真密度为2.10～2.20g/cm 3 、粒子内空间率为0～0.05、圆形度为0.75～1.00及球状化率为0.55～1.00；此合成非晶质硅石粉末，因表面上吸着的气体成份、粉末内部的气体成份少，使用此粉末所制造的合成硅玻璃制品，即使是在高温及减压之环境下使用，亦可使气泡之发生或膨涨大幅降低。

公开(公告)号：WO2017103115A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081438

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  F27D7/02

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Schmelztiegel und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Schmelztiegel in einem Ofen enthalten ist und aus mindestens einem Material beinhaltend Wolfram oder Molybdän oder eine Kombination davon besteht. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat在坩埚中熔化并iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 从玻璃熔体的至少一部分，其中，所述坩埚被包含在一个炉中，以及至少一种材料，其包含钨或钼BEAR n或是它们的组合。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2016073606A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：PCT/US2015/059035

申请日：2015-11-04

Applicant: VERRILLON, INC.

Inventor： JACOBSEN, William ,  SOUFIANE, Abdelouahed

IPC: C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03C25/10 ,  G02B6/02

CPC classification number: G02B6/0281 ,  C03B37/018 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/70 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C25/104 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/31 ,  C03C2217/91 ,  G02B6/02 ,  G02B6/0283 ,  G02B6/03627 ,  Y02P40/57

Abstract: Embodiments of the invention relate to a hydrogen-resistant optical fiber with a core having a central axis. The core may include only silica, or only silica and fluorine, while a cladding region surrounding the core may be made of silica and fluorine, along with at least one of germanium, phosphorus, and titanium.

Abstract translation: 本发明的实施例涉及具有中心轴的芯的耐氢光纤。 芯可以仅包括二氧化硅，或者仅包括二氧化硅和氟，而围绕芯的包层区域可以由二氧化硅和氟以及锗，磷和钛中的至少一种制成。

公开(公告)号：WO2015119902A1

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：PCT/US2015/014158

申请日：2015-02-03

Applicant: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS INC.

Inventor： XU, Guangjun ,  KOCH, Robert

IPC: A61J1/00

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B17/04 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/30 ,  C03C3/06 ,  C03C23/0075 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/30 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/52

Abstract: A method for forming high purity silica articles. The high purity silica articles can be particularly suitable for forming packaging such as packaging for pharmaceutical applications. The method for forming high purity silica articles can comprise, in one embodiment, (a) forming a fused quartz melt from a SiO 2 raw material; (b) forming a quartz tube from the fused quartz melt; (c) treating the quartz tube with an acid composition; (d) heat treating the quartz tube subsequent to treating with the acid composition; and (e) optionally treating the quartz article with an acid composition subsequent to the heat treating operation. The method can enhance the purity of silica glass articles and products made therefrom.

Abstract translation: 一种形成高纯度二氧化硅制品的方法。 高纯度二氧化硅制品可以特别适用于形成用于制药应用的包装的包装。 在一个实施方案中，形成高纯度二氧化硅制品的方法可以包括（a）从SiO 2原料形成熔融石英熔体; （b）从熔融石英熔体形成石英管; （c）用酸组合物处理石英管; （d）用酸组合物处理之后对石英管进行热处理; 和（e）任选地在热处理操作之后用酸组合物处理石英制品。 该方法可以提高石英玻璃制品的纯度和由其制成的产品。