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公开(公告)号：CN101995224B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201010250005.1
申请日：2010-08-04
Applicant: 株式会社堀场制作所
Inventor： 藤井史高
CPC classification number: G01N21/274 , G01J3/28 , G01N21/55
Abstract: 本发明提供一种干涉膜厚仪及反射率测量方法。本发明的干涉膜厚仪(100)，可以省略每次测量检查工件的光反射率时都必须进行的附带测量(特别是测量校正试样)，可以促进缩短测量时间及简化装置结构。在检测头(4)内部配置光反射率固定的内部反射机构(8)，并且被该内部反射机构(8)反射的光被光检测器(2)接收，根据实际上光没有被导入状态下的光检测器(2)的输出值、使用实际上不反射光的黑试样时的所述光检测器(2)的输出值、使用光反射率已知的校正试样时的光检测器(2)的输出值以及使用作为测量对象的检查工件时的光检测器(2)的输出值，计算出所述检查工件的光反射率。
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公开(公告)号：CN104215579A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201410350639.2
申请日：2011-02-15
Applicant: 光学传感器公司
CPC classification number: G01J3/28 , G01J3/42 , G01N21/031 , G01N21/274 , G01N21/31 , G01N21/3504 , G01N21/3518 , G01N21/39 , G01N2021/399
Abstract: 具有验证单元的光谱仪包括：验证单元，使得由光源产生的光在光从光源到探测器传输过程中至少一次通过该验证单元，包含参考气体，参考气体包括已知量目标分析物；流切换装置，在样本分析模式过程中将样本气体引导进入光的路径，并在验证模式过程中引导零气体进入光的路径，零气体在光源产生的波长范围内具有至少一个已知且可忽略的第一光吸收率特性；执行以下操作的控制器：接收量化在验证模式过程中在探测器接收的光的强度的光强度数据，比较光强度数据与表示验证模式中的至少一个先前测量的存储的数据集合；如果第一光强度数据和存储的数据集合不一致超过了预定阈值量，则确定出现验证失败。可以低成本、低复杂度进行气体分析器已有校准的验证。
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公开(公告)号：CN104181126A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410225603.1
申请日：2014-05-26
Applicant: 西门子公司
Inventor： 丹尼尔·德彭霍伊尔
CPC classification number: G01N21/255 , G01J3/0286 , G01J3/10 , G01J3/108 , G01J3/26 , G01J3/28 , G01J3/42 , G01N21/39 , G01N21/85
Abstract: 本发明涉及一种激光光谱仪和用于运行激光光谱仪的方法，在激光光谱仪中将可以调谐波长的半导体激光器的光穿过包括需要测量的气体成分的混合气体和标准器结构引导到探测器上。为了在调谐范围内通过气体成分的特定的吸收谱线调谐半导体激光器的波长，半导体激光器的注入电流周期性地按照预定的电流-时间-函数变化。同时利用频率并且交替地利用匹配于吸收谱线的半值宽度的第一振幅和匹配于标准器结构的光谱宽度的第二振幅调制注入电流和进而波长。由探测到的光强度分析二次谐波，其中在利用第一振幅调制时测量吸收谱线，并在利用第二振幅调制时根据标准器结构的透射光谱使半导体激光器的波长稳定。
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公开(公告)号：CN103884679A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410156271.6
申请日：2014-04-18
Applicant: 山西大学
IPC: G01N21/39
CPC classification number: G01N21/39 , G01J3/1256 , G01J3/28 , G01J3/42 , G01N2021/391 , G01N2021/399
Abstract: 本发明属于气体检测领域，具体是一种结合卡尔曼滤波器的腔衰荡光谱技术气体浓度监测方法。一种结合卡尔曼滤波器的腔衰荡光谱技术气体浓度监测方法，由采用基于腔衰荡光谱技术的气体浓度监测装置采集数据的方法以及对采集到的数据采用卡尔曼滤波器进行分析的方法组成；所述基于腔衰荡光谱技术的气体浓度监测装置包括一个激光发射装置，激光发射装置的出射端通过光纤连接有一个声光调制器，声光调制器的出射光路上顺次设有耦合透镜以及腔体上设有进气口与出气口的光学腔，光学腔的出射光路上设有第一光电探测器。本发明结合了卡尔曼滤波器，对腔衰荡信号进行后续处理，从而减小了系统误差，提高了腔衰荡光谱的准确度。
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公开(公告)号：CN103797356A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201280043375.5
申请日：2012-09-12
Applicant: 索尼公司
Inventor： 新田尚
IPC: G01N21/64
CPC classification number: G01N15/1429 , G01J3/0264 , G01J3/28 , G01J3/2803 , G01N15/1434 , G01N15/1459 , G01N21/255 , G01N2015/1006
Abstract: 本发明提供了一种光谱分析设备，包括处理单元，被配置为使用分析函数生成分析数据，在所述分析函数中，包括作为函数元素的线性函数和对数函数且强度值被设置为来自测量数据的变量，所述测量数据包括通过使用具有不同检测波长带的多个光接收元件检测来自测量目标对象的光而获取的光的强度值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103728609A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201410019921.2
申请日：2014-01-16
Applicant: 中国科学院地理科学与资源研究所 , 中国科学院遥感与数字地球研究所
Abstract: 一种星载多光谱红外传感器交叉辐射定标方法，包括：步骤(S1)，针对REF数据文件及MON数据文件，选择出卫星传感器的最佳交叉辐射定标区域；步骤(S2)，将上述最佳交叉辐射定标区域均匀划分成相同经纬度间隔的空间匹配格网；步骤(S3)，建立时空统计查找表，该时空统计查找表由空间索引表、时间索引表以及文件统计表构成，上述文件统计表中被写入空间匹配网格聚合信息；步骤(S4)，根据上述空间匹配网格聚合信息，选出满足条件匹配的上述空间匹配网格聚合信息中的辐亮度配对数据；和步骤(S5)，采用线性稳健回归方法来建立所有辐亮度配对数据间的统计回归关系，以估算出交叉辐射定标系数。
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公开(公告)号：CN103217217A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310077483.0
申请日：2007-01-24
Applicant: 普拉德研究及开发股份有限公司
CPC classification number: G01J3/28 , G01J3/0218 , G01J3/0294 , G01J3/10 , G01J3/36 , G01J2003/2866 , G01N21/274 , G01N21/31
Abstract: 一种井下使用的流体分析系统，其包括输入光信号，该输入光信号照射透过容纳在样品池(184)中的流体样品。输入光信号可源自多个光源(180)。然后将来自样品池的输出光信号输送至一个或多个分光计(186)，以测量输出光信号中代表性波长。然后比较分光计的输出和井下常见烃类的已知值。从而了解流体样品的组成。另外，可将光源发出的光直接输送至一个或多个用于对井下高温和噪声环境中的系统进行校准的分光计。
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公开(公告)号：CN103149372A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210518474.6
申请日：2012-12-05
Applicant: 佩朗精品工艺股份有限公司 , 萨瓦大学
CPC classification number: G01N21/17 , B07C5/34 , G01J3/28 , G01N22/00 , G01N23/223
Abstract: 本发明的目标在于，提供用于对物体、物件或类似物进行检查和/或分类的自动过程和设施，所述物体、物件或类似物属于至少两个不同类别并且形成为基本在单一层中行进，例如在传送器带或类似运送支撑部上行进。过程的特征在于，其包括使行进流的物体、物件或类似物（2）经历至少两种不同类型的通过辐射进行的无接触分析，所述分析的结果以结合方式用于每个物体、物件或类似物（2），以执行在这些物体、物件或类似物（2）中的区分和/或对这些物体、物件或类似物（2）的至少一个特征的评估，所使用的分析一方面包括能够确定在此过程中暴露于所使用辐射的物体或类似物（2）的上层或外层的物理和/或化学组分的至少一个表面分析过程，而另一方面包括能够确定相同的物体或类似物（2）的材料的等效厚度的至少一个整体分析过程。
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公开(公告)号：CN101689222B
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN200880015308.6
申请日：2008-05-06
Applicant: 真实仪器公司
Inventor： 麦克·威伦 , 安德鲁·威克斯·昆尼 , 凯尼斯·C·哈飞 , 约翰·道格拉斯·柯莱斯
CPC classification number: G01J3/443 , G01J3/28 , G01J2003/2866
Abstract: 本发明涉及一种在故障检验和过程监测中使用的光谱设备辐射校准系统和方法。首先，将参考摄谱仪校准到本地基本标准(具有已知光谱强度和可追溯到参考标准的经校准的光源)。然后根据参考摄谱仪而非本地基本校准标准来校准其它摄谱仪。这通过用参考摄谱仪和待校准的摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准的摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较，然后进行调整以与该输出一致。当前的校准过程能分两个阶段完成，第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪，然后在等离子腔室微调到窄带光源。作为替代，参考摄谱仪能校准到本地基本标准而光学耦合到等离子腔室。在此，本地基本标准校准光源临时定位在等离子腔室内、或者在沿着腔室内部布置的光腔室中，用于校准参考摄谱仪。当耦合到具有本地基本标准校准光源的等离子腔室时，其它摄谱仪能校准到参考摄谱仪，从而将整个光学路径中的每个组件校准到参考光源。
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公开(公告)号：CN102680094A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210071529.3
申请日：2012-03-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 中村纪元
CPC classification number: G02B5/20 , G01J3/0205 , G01J3/0256 , G01J3/0289 , G01J3/28 , G01J3/36 , G01J2003/1226 , H01L27/1462 , H01L27/14623
Abstract: 本发明涉及分光传感器以及角度限制滤光器，所述角度限制滤光器包括：第一遮光层，其包含第一遮光性材料，且设置有第一开口部；第二遮光层，其包含第二遮光性材料，且位于至少部分包围第一遮光层的区域内；第三遮光层，其包含第一遮光性材料，且设置有至少部分与第一开口部重合的第二开口部，并且位于第一遮光层的上方；第四遮光层，其包含第二遮光性材料，并且位于至少部分包围第三遮光层的区域内且第二遮光层的上方。
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