用于监测半导体工艺的极高分辨率光谱仪

    公开(公告)号:CN117405227A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202310875008.1

    申请日:2023-07-17

    Inventor: A·W·科伊尼

    Abstract: 本申请涉及一种用于监测半导体工艺的极高分辨率光谱仪。提供可用于监测半导体工艺的极高分辨率的光学仪器。在此应用空间中,极高分辨率可被认为是足以准许分辨个别分子转振发射线的分辨率。在一个实例中,提供一种光学仪器,其包含:(1)光学接口,其接收光纤;(2)窄带通滤波器,其滤出经由所述光纤接收的光信号的一部分;(3)光学组件,其被选择性地组合以处理未滤波光信号的至少一部分,其中所述光学组件包含接收所述未滤波光信号的传感器;以及(4)一或多个处理器,其处理来自所述传感器的电信号。所述光学仪器可为适合于工艺控制仪器的光谱仪。

    用于改进光学装置的背景校正和校准的系统、设备和方法

    公开(公告)号:CN117053921A

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202310544693.X

    申请日:2023-05-15

    Abstract: 本公开涉及一种用于改进光学装置的背景校正和校准的系统、设备和方法。本公开提供用于通过标识和表征表示从光学测量系统的光学传感器收集的数据的电数据中的平稳和瞬变信号来改进对光学数据的处理的特征。在一个实例中,公开一种光学测量系统,其包含:(1)具有存储对应于所接收光学信号的电荷的多个像素的光学传感器的像素区域,(2)提供所述光学传感器固有的信号电平的一或多个减少照明区;以及(3)经配置以在所述系统的活动操作期间使用来自所述一或多个减少照明区的所述信号电平的表征调整来自所述像素区域的所述像素的所述电荷的数字表示的一或多个处理器。

    操作工艺控制系统的方法及工艺控制系统

    公开(公告)号:CN110223932B

    公开(公告)日:2022-11-29

    申请号:CN201810759285.5

    申请日:2018-07-11

    Abstract: 本发明提供一种操作工艺控制系统的方法及一种工艺控制系统。在一个实施例中,所述工艺控制系统包含:(1)光学传感器,其经配置以监测工艺室内的生产工艺且依据所述生产工艺而产生光学数据;(2)操作控制器,其经配置以执行关键功能以依据所述光学数据确定所述生产工艺的处理状况,其中所述关键功能是由关键功能控件引导;(3)可适应性管理控制器,其经配置以将所述关键功能控件提供到所述操作控制器,其中在所述关键功能期间,所述可适应性管理控制器与所述操作控制器被分级隔离。

    等离子体源、激发系统和操作激发测量系统的方法

    公开(公告)号:CN109243956B

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN201810746909.X

    申请日:2018-07-09

    Abstract: 本公开提供等离子体源、用于激发等离子体的激发系统以及操作激发测量系统的方法。在一个实施例中,所述等离子体源包含:(1)同轴射频RF谐振器,其包含第一末端、第二末端、内部电极和外部电极,(2)射频接口,其电耦合到所述内部电极和所述外部电极且经配置以将RF信号提供到所述同轴RF谐振器,(3)凸缘,其定位于所述谐振器的所述第一末端处且限定等离子体腔体,以及(4)窗口,其定位于所述谐振器的所述第一末端与所述凸缘之间且形成所述等离子体腔体的一侧,由此所述同轴RF谐振器与所述等离子体隔离。

    对信号从晶片反射后的角驱动变化灵敏度降低的光纤耦合测量系统

    公开(公告)号:CN111599705A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010102501.6

    申请日:2020-02-19

    Abstract: 本申请涉及一种对信号从晶片反射后的角驱动变化灵敏度降低的光纤耦合测量系统。公开一种具有OAP镜准直仪的光学系统,其具有外壳、位于所述外壳内且具有光轴、折叠平面和焦点的OAP镜。光纤线缆耦合到所述外壳且具有第一和第二光纤,所述第一和第二光纤各自具有形成所述光纤线缆的共同端面的出口端,其中所述光纤线缆以旋转方式和平移方式与所述OAP镜对准,使得共同面垂直于所述OAP镜的所述光轴且以所述光轴为中心,且与所述焦点相距固定距离,且其中所述第一和第二光纤的光轴共同成角度地与所述折叠平面对准,且所述第一和第二光纤的所述光轴偏离与所述光轴的平行不超过0.15度。

    操作工艺控制系统的方法及工艺控制系统

    公开(公告)号:CN110223932A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201810759285.5

    申请日:2018-07-11

    Abstract: 本发明提供一种操作工艺控制系统的方法及一种工艺控制系统。在一个实施例中,所述工艺控制系统包含:(1)光学传感器,其经配置以监测工艺室内的生产工艺且依据所述生产工艺而产生光学数据;(2)操作控制器,其经配置以执行关键功能以依据所述光学数据确定所述生产工艺的处理状况,其中所述关键功能是由关键功能控件引导;(3)可适应性管理控制器,其经配置以将所述关键功能控件提供到所述操作控制器,其中在所述关键功能期间,所述可适应性管理控制器与所述操作控制器被分级隔离。

    对信号从晶片反射后的角驱动变化灵敏度降低的光纤耦合测量系统

    公开(公告)号:CN111599705B

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202010102501.6

    申请日:2020-02-19

    Abstract: 本申请涉及一种对信号从晶片反射后的角驱动变化灵敏度降低的光纤耦合测量系统。公开一种具有OAP镜准直仪的光学系统,其具有外壳、位于所述外壳内且具有光轴、折叠平面和焦点的OAP镜。光纤线缆耦合到所述外壳且具有第一和第二光纤,所述第一和第二光纤各自具有形成所述光纤线缆的共同端面的出口端,其中所述光纤线缆以旋转方式和平移方式与所述OAP镜对准,使得共同面垂直于所述OAP镜的所述光轴且以所述光轴为中心,且与所述焦点相距固定距离,且其中所述第一和第二光纤的光轴共同成角度地与所述折叠平面对准,且所述第一和第二光纤的所述光轴偏离与所述光轴的平行不超过0.15度。

    用于半导体工艺的光学仪器的故障检测和操作就绪情况的系统和方法

    公开(公告)号:CN117405357A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202310874640.4

    申请日:2023-07-17

    Abstract: 本申请案涉及一种用于半导体工艺的光学仪器的故障检测和操作就绪情况的系统和方法。本公开认识到,当光学仪器未正常工作时,与其用光学仪器作为工艺控制仪器/传感器来监测可控工艺,不如不开始监测所述工艺。因此,本公开涉及用于在光谱仪等光学仪器用于监测半导体工艺之前检查所述光学仪器是否正常工作的新颖特征。在一个方面中,本公开提供一种用于评估和验证光学仪器的操作状态的系统。在一个实例中,所述系统包含:(1)集成光源;(2)光学传感器,其用于收集来自所述集成光源的光;(3)控制器,其控制所述集成光源和所述光学传感器;以及(4)处理器,其用于处理从所述光获得的收集到的光学信号数据且导出指示所述操作状态的度量。

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