等离子体处理装置和控制方法

    公开(公告)号:CN108766881A

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201810331134.X

    申请日:2018-04-13

    Abstract: 本发明的等离子体处理装置和控制方法的目的在于,监视等离子体生成空间中的多个区域各自的等离子体点火的状态。提供一种等离子体处理装置,具有将从微波输出部输出的微波向处理容器的内部辐射的微波辐射机构,其中,所述微波辐射机构具有:天线,其用于辐射微波;电介质构件,其使从所述天线辐射的微波透过,且形成用于通过该微波来生成表面波等离子体的电场;传感器,其设置于所述微波辐射机构或者该微波辐射机构的附近,且监视生成的等离子体的电子温度;以及控制部,其基于由所述传感器监视到的等离子体的电子温度,来判定等离子体点火的状态。

    包括二向色性光束组合器的光学发射系统

    公开(公告)号:CN103376158B

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201310111452.2

    申请日:2013-04-01

    Abstract: 提供了一种包括二向色性光束组合器的光学发射系统。一种光学发射光谱仪系统(100,200)包括光源(101)和二向色性光束组合器(130)。光源在第一方向上发射第一光(115)并且在不同于所述第一方向的第二方向上发射第二光(125)。二向色性光束组合器经由第一光路(110)接收所述第一光并且经由第二光路(120)接收所述第二光,反射一部分所述第一光进入光检测及测量装置(140)的入口孔(145),并且透射一部分所述第二光进入所述入口孔,使得能够同时分析并且测量第一光和第二光两者的特性。被反射进入所述入口孔的所述第一光的部分主要具有第一波长范围内的波长,并且被透射进入所述入口孔的所述第二光的部分主要具有不同于所述第一波长范围的第二波长范围内的波长。

    发射光谱中的背景校正
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104422684B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201410428721.2

    申请日:2014-08-27

    CPC classification number: G01J3/0297 G01J3/28 G01J3/443

    Abstract: 一种用于获得测量的光学发射光谱的一个背景校正部分的方法,该方法包括从该测量的发射光谱的部分中鉴别出两个或多个背景校正点;获得与这些已鉴别的背景校正点拟合的一个背景校正函数,并且将该背景校正函数应用于该测量的发射光谱的部分上以便产生该发射光谱的一个背景校正部分,其中这些背景校正点通过考虑在这些测量数据点之间的梯度而从这些测量数据点中被鉴别出。

    等离子放电辉光的光学监控方法

    公开(公告)号:CN105938103A

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201510915185.3

    申请日:2015-12-10

    CPC classification number: G01J3/443 G01J3/28 G01J3/2803 G01N21/84 G01N27/62

    Abstract: 一种等离子放电辉光的光学监控方法,其包含下列步骤。利用侦测器侦测等离子放电辉光,以取得数个光信号。利用感测电路撷取这些光信号,并将这些光信号转换成数个电信号。利用运算单元根据这些电信号来进行计算步骤,以获得对应等离子放电辉光的数个位置的数个光强度。利用影像重建单元根据等离子放电辉光的这些位置与对应的光强度重建等离子放电辉光的影像。运用此方法,可以非接触的方式,有效侦测出等离子放电辉光的形状、大小、温度分布、颜色分布与闪烁行为,以及相对强度、绝对强度与强度分布,因此可达到即时监控等离子处理的区域的效果。

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