분석 장치
    251.
    发明授权
    분석 장치 有权
    分析仪

    公开(公告)号:KR100636463B1

    公开(公告)日:2006-10-18

    申请号:KR1020040078337

    申请日:2004-10-01

    CPC classification number: G01J3/26 G01J3/0256 G01N21/31 G02B26/001

    Abstract: 분석 장치는 사전결정된 파장을 가진 광을 선택적으로 출력하는 파장 가변 필터(1)와, 이 파장 가변 필터(1)로부터 출력되어서 피측정물을 통과하거나 피측정물에 의해 반사된 광을 수광하는 PD(421)를 포함한다. 파장 가변 필터는 광투과성을 가지고 있으며 가동부(31)를 포함한 제 1 기판(3)과, 제 1 기판에 대향하도록 설치되며 광투과성을 가진 제 2 기판(2)과, 제 1 기판의 가동부와 제 2 기판 사이에 각각 설치된 제 1 갭(21) 및 제 2 갭(22)과, 가동부와 제 2 기판(2) 사이에서 제 2 갭(22)을 통해서 파장 가변 필터에 입사하며 사전결정된 파장을 가진 광과의 간섭을 일으키는 간섭부와, 가동부(31)를 제 1 갭(21)을 사용해서 제 2 기판(2)에 대해서 변위시킴으로써 제 2 갭(22)의 간격을 변경하는 구동부를 포함한다.

    분광모듈
    255.
    发明授权
    분광모듈 有权
    光谱模块

    公开(公告)号:KR101774186B1

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:KR1020167011626

    申请日:2009-05-07

    Abstract: 분광모듈(1)은, 전면(2a)으로부터입사한광(L1)을투과시키는기판(2)과기판(2)에입사한광(L1)을투과시키는렌즈부(3)와렌즈부(3)에입사한광(L1)을분광하고, 아울러, 반사하는분광부(4)와, 분광부(4)에의해서반사된광(L2)을검출하는광검출소자(5)를구비하고있다. 기판(2)에는, 광검출소자(5)를위치결정하기위한기준부가되는얼라이먼트마크(12a, 12b) 등에대해서소정의위치관계를가지는오목부(19)가형성되어있고, 렌즈부(3)는오목부(19)에끼워맞춰져있다. 분광모듈(1)에의하면, 렌즈부(3)를오목부(19)에끼워맞춰지게하는것만으로, 분광부(4)로광검출소자(5)와의패시브(passive) 얼라이먼트가실현된다.

    Abstract translation: 分光模块1中,前透镜单元3和用于在基片上传输入射汉王(L1)(2)技术板(2)的镜头单元3,其由(2a)的透过入射汉王(L1) 入射光谱汉王(L1)和,以及,和反映分钟4的一部分,一个微小部分chulsoja光学检测(5),用于检测由它反射的光(L2)(4)。 的基板(2),光学检测chulsoja 5和是由相对于等对准标记的预定位置关系的凹部19形式类型(12A,12B)的加入标准,以确定位置时,镜头单元3 凹部(19)设置在空腔中。 通过仅将透镜部分3与凹入部分19对准,可以在分光镜模块1中实现与光学检测器5的被动对准。

    분광 측정 장치
    257.
    发明授权
    분광 측정 장치 有权
    光谱测量装置

    公开(公告)号:KR101683408B1

    公开(公告)日:2016-12-06

    申请号:KR1020157008521

    申请日:2013-10-02

    Abstract: 본발명의분광측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 광로길이의연속적인분포에상응하는간섭광의강도분포를검출하는복수의픽셀을포함하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속에공간적인주기변조를주는주기성부여수단을구비한다.

    Abstract translation: 根据本发明的光谱特性测量装置包括:分割光学系统,用于将位于待测物体的测量区域内的多个测量点中的每一个发射的测量光束分成第一测量光束和第二测量 光束; 用于使第一测量光束和第二测量光束彼此干涉的成像光学系统; 光路长度差提供装置,用于提供第一测量光束和第二测量光束之间的光程长度差的连续分布; 用于检测干涉光的光强度分布的检测器; 基于由所述检测器检测出的干涉光的光强度分布获取被测量物体的测量点的干涉图并进行傅立叶变换以获得光谱的处理器; 位于被测量物体与分割光学系统之间的共轭平面成像光学系统,共轭平面成像光学系统具有与分割光学系统共享的共轭平面; 以及位于共轭平面上的周期性提供装置,用于在从多个测量点发射的测量光束之间提供周期性。

    분광 측정 장치
    258.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101683407B1

    公开(公告)日:2016-12-06

    申请号:KR1020157008187

    申请日:2013-10-02

    Abstract: 본발명의분광측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 광로길이의연속적인분포에상응하는간섭광의강도분포를검출하는복수의픽셀을포함하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속에공간적인주기변조를주는주기성부여수단을구비한다.

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