Abstract:
PURPOSE: Provided is a fused silica having low compaction under high energy irradiation, particularly adaptable for use in photo lithography applications. CONSTITUTION: The method for producing fused silica glass stepper lens comprises the following steps of: (a) designing the lens by: (1) determining the intrinsic densification, (delta ρ/ρ)ρ of a sample geometry of the fused silica; (2) determining the optical path difference delta(nl) of the fused silica glass at the dose: and (3) calculating the densification, (delta ρ/ρ) of the fused silica glass from the values determined in steps(a) (1) and (2); and (b) producing the stepper lens designed in step(a). The method is characterized by exhibiting low compaction when exposed to high intensity exciter radiation of a given dose NI2, where N is the number of pulses, and I is the fluence per pulse.
Abstract:
본 발명의 목적은 고순도, 고내열성, 큰 열팽창계수 및 낮은 광투과도를 갖는 석영유리 및 그 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 상부에 증착피막을 갖는 석영유리지그를 제공하는 것이다. 홍연석-함유 석영유리가 제공되며, 석영유리 기질내에 작은 구형이나 작은 둥근 모서리 혹은 예리한 모서리의 3차원 영역 형태의 α-홍연석이 분산되어 있으며, 그 α-홍연석 구형 또는 영역 각각의 직경은 01.㎛∼1000㎛이며, 그 함량은 최소 10중량%이다. 상기 홍연석 함유 석영유리는 용융점이 20℃이상 차이가 난다. 2가지 이상의 결정질 이산화규소 파우더를 그 중 가장 높은 융점을 갖는 이산화규소의 량이 10-80중량%되게 혼합한 후, 혼합물중 가장 낮은 융점과 가장 높은 융점보다 낮은 온도사이의 온도로 가열함으로써 제조된다. 이같은 홍연석-함유 석영유리로된 석영유리지그가 제공되며, 그 지그표면은 플라즈마 에칭에 대하여 저항성이 큰 증착박막이 입혀져 있으며, 그 박막은 석영유리의 열팽창 계수와 거의 같은 열팽창 계수를 갖는 물질로 이루어져 있어 가열시 입자가 발생하여 실리콘 웨이퍼를 오염시킬 염려가 없게 된다.
Abstract:
본 발명의 합성 비정질 실리카 분말은, 실리카 분말에 구상화 처리를 실시한 후, 세정하고 건조시켜 얻어진 평균 입경 D 50 이 10 ? 2000 ㎛ 인 합성 비정질 실리카 분말로서, BET 비표면적을 평균 입경 D 50 으로부터 산출한 이론 비표면적으로 나눈 값이 1.00 ? 1.35, 진밀도가 2.10 ? 2.20 g/㎤, 입자내 공간율이 0 ? 0.05, 원형도가 0.75 ? 1.00 및 구상화율이 0.55 ? 1.00 인 것을 특징으로 한다. 이 합성 비정질 실리카 분말은, 표면에 흡착되는 가스 성분, 분말 내부의 가스 성분이 적기 때문에, 이 분말을 사용하여 제조된 합성 실리카 유리 제품에서는, 고온 및 감압의 환경하에서의 사용에 있어서도, 기포의 발생 또는 팽창이 대폭 저감된다.
Abstract:
This invention is to provide a synthetic quartz glass plate for an excimer UV lamp device, which is good in light extraction efficiency over the whole surface and realizes uniform irradiation energy density when it is used as a window material for the excimer UV lamp device. The synthetic quartz glass plate for the excimer UV lamp device is formed from synthetic quartz glass synthesized by a flame hydrolysis method using a high purity silicon compound as a raw material. The synthetic quartz glass plate for the excimer UV lamp device emitting vacuum ultra-violet rays having wavelengths of 150-250 nm is characterized in that the total length of the outer peripheries of the plate is ≥ 1,500 mm, the fluctuation width in thickness is ≤ 1 mm, the warp is ≤ 0.5%, the surface roughness Ra is ≤ 50 nm, the birefringence is ≤ 10 nm/cm, and no bubble having a major diameter of ≥ 1 mm is contained.
Abstract:
PURPOSE: Fused silica stepper lens are provided which have resistance to laser-induced compaction. CONSTITUTION: Fused silica stepper lens for photo lithographic application are resistant to laser -induced damage, specifically, compaction or densification which can lead to an increase in the optical path length of the lens. In particular, the lens are maded by flame hydrolysis and sol gel methods. The figure compares the phase front distortions of a standard fused silica with the phase front distortions observed in two inventive stepper lens fused silica.
Abstract:
본 발명은 실리카 글래스 조성물 및 이를 이용한 실리카 글래스의 제조방법에 관한 것이다. 상기 실리카 글래스 조성물은 평균입경이 5×10 -3 내지 1×10 -1 ㎛이고 비표면적이 50 내지 400㎡/g인 열분해 실리카(pyrogenic silica)와, 상기 열분해 실리카의 응집체(agglomerate)로서 평균입경이 2 내지 15㎛이고, 상기 열분해 실리카보다 비표면적이 작은 열처리 실리카(heat-treated silica)를 포함하고 있는 것을 그 특징으로 한다. 본 발명의 실리카 글래스 조성물을 이용하면 건조후 균열이 거의 발생되지 않으며 소결후 수축율이 현저하게 낮아진 실리카 글래스 튜브를 제조할 수 있다. 그리고 대형의 실리카 글래스 튜브를 제조하는 것도 가능해진다.