公开(公告)号：CN114174480A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202080054152.3

申请日：2020-07-14

Applicant: 株式会社ADEKA ,  DIC株式会社

Inventor： 饭野真史 ,  古小高明洋 ,  胜野瑛自 ,  松枝宏尚 ,  坂田浩

IPC: C10M135/18 ,  C10N30/06

Abstract: 本发明提供一种润滑油添加剂以及包含该添加剂的润滑油组合物，所述润滑油组合物含有下述通式(1)所示的钼化合物(A)和硫系组合物(B)，所述硫系组合物(B)包含下述通式(2)所示的硫系化合物(b－1)以及下述通式(3)或(4)所示的至少一种硫系化合物(b－2)。(式(1)中，R1～R4分别表示相同或不同的碳原子数6～18的烷基，X1～X4分别独立地表示氧原子或硫原子。)(式(2)中，R5表示碳原子数1～22的烷基，R6表示氢原子或碳原子数1～20的烷基，R7表示氢原子或碳原子数1～20的烷基，a表示1～10的数。)(式(3)、(4)中，R8～R11分别表示相同或不同的碳原子数1～28的亚烷基，R12、R13分别独立地表示氢原子或碳原子数1～3的烷基，b、c分别独立地表示1～8的数。其中，R12、R13中的至少一方为碳原子数1～3的烷基。)

公开(公告)号：CN108352318B

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN201680061536.1

申请日：2016-08-22

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 正元祐次 ,  斋尾佳秀 ,  青木珠美

IPC: H01L21/308 ,  C23F1/18 ,  H01L21/306 ,  H05K3/06

Abstract: 本发明的蚀刻液组合物用于含有铜系层的被膜的蚀刻。该蚀刻液组合物由含有如下成分的水溶液形成：(A)选自三价铁离子以及二价铜离子中的至少一种氧化剂0.1～30质量％；(B)氯化氢0.1～20质量％；以及(C)1,3‑二羟基苯0.01～25质量％。另外，本发明的蚀刻方法使用该蚀刻液组合物来对形成于基体上的含有铜系层的被膜进行蚀刻。根据本发明的蚀刻液组合物以及蚀刻方法，稳定性高，难以产生沉淀物，并且可形成具有所期望的尺寸精度的布线图案。

公开(公告)号：CN111051412B

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN201880055914.4

申请日：2018-08-30

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 福田拓也 ,  横田悠里 ,  水岛仁昭 ,  堀越隆裕

IPC: C08K5/527 ,  C08K5/098 ,  C08L23/02 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供一种能够对热塑性树脂赋予优异的透明性和物性的组合物、使用其的热塑性树脂组合物及其成型体。一种组合物，其含有下述通式(1)(通式(1)中，R1～R4各自独立地表示氢原子或碳原子数1～9的直链或具有支链的烷基，R5表示碳原子数1～4的烷叉基)所示的环状有机磷酸酯铝盐(A)、羧酸钠(B)和下述通式(2)(通式(2)中，R6表示导入至碳原子数10～30的脂肪族有机酸中的基团，M1表示锂或钾)所示的脂肪酸金属盐(C)，以摩尔比计(C)/(B)＝0.30～5.00且(A)/{(B)+(C)}＝0.15～0.70的范围内。

公开(公告)号：CN113544120A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202080017159.8

申请日：2020-02-20

Applicant: 株式会社ADEKA ,  国立大学法人东京工业大学

Inventor： 大塚英幸 ,  青木大辅 ,  泽本大介 ,  小林纯 ,  近冈里行

IPC: C07D211/96 ,  C09D4/02 ,  C09J4/02

Abstract: 下述通式(1)表示的化合物(式中，X1和X2各自独立地为丙烯酰基或甲基丙烯酰基，R1～R8各自独立地为氢原子或碳数1～6的烃基，n为1～10的整数)。

公开(公告)号：CN111630099B

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN201980006822.1

申请日：2019-11-06

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 中富美奈子 ,  上田直人 ,  正井省吾

IPC: C08L23/00 ,  C08K5/20

Abstract: 提供：具有优异的β晶形成作用的聚烯烃系树脂用成核剂、含有其的聚烯烃系树脂用成核剂组合物、聚烯烃系树脂用母料、聚烯烃系树脂组合物、其成型品、其薄膜、多孔薄膜的制造方法和包装体。所述聚烯烃系树脂用成核剂包含下述通式(1)所示的化合物(通式(1)中，M表示1～3价的比重为4.0以下的金属原子等，a表示1或2，b表示1或3，x表示1～3的整数，满足ax＝2b。Z表示下述通式(2)或(3)所示的基团。(通式(2)和(3)中，*表示与通式(1)的Z连接的位置，Y表示直接键合、或碳原子数1～4的亚烷基，R1～R10各自独立地表示氢原子、羟基、卤素原子、碳原子数1～10的烷基等。))。

公开(公告)号：CN106336422B

公开(公告)日：2021-03-09

申请号：CN201610529169.5

申请日：2016-07-06

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社ADEKA

Inventor： 朴圭熙 ,  金润洙 ,  林载顺 ,  曹仑廷 ,  佐藤晴义 ,  山田直树 ,  内生藏广幸

IPC: C07F5/00 ,  H01L21/02

Abstract: 公开镧化合物、合成镧化合物的方法、镧前体组合物、形成薄膜的方法和集成电路器件的制法。通过使三[二(三烷基甲硅烷基)氨基]镧络合物与烷基环戊二烯反应而合成含硅中间体。通过使所述含硅中间体与基于二烷基脒的化合物反应而合成镧化合物。

公开(公告)号：CN112424239A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN201980046537.2

申请日：2019-07-11

Applicant: 学校法人常翔学园 ,  株式会社ADEKA

Inventor： 佐久间信至 ,  鹈川真实 ,  高日俊辅 ,  福岛一范 ,  武藤美音 ,  宫田康平 ,  田崎晃子 ,  松本萤

IPC: C08F8/30 ,  A61K47/32 ,  A61K47/34 ,  A61K47/36 ,  A61K47/42 ,  C07K4/00 ,  C07K5/068 ,  C07K5/09 ,  C07K5/11 ,  C07K7/06 ,  C08B37/08

Abstract: 本发明的目的在于提供一种通用性高、安全性更高的药物的膜穿透促进技术。所述技术问题能够通过本发明的高分子化合物解决，所述高分子化合物的分子量为1000以上，且其侧链的末端具有一个精氨酸或者具有含一个以上精氨酸且链长为2～6的碱性肽，并且含有0.5～20mmol/g来自于精氨酸的胍基。

公开(公告)号：CN112272687A

公开(公告)日：2021-01-26

申请号：CN201980039505.X

申请日：2019-06-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 中村总夫 ,  米泽丰 ,  横田悠里 ,  大森宏平 ,  小仓弦太

IPC: C08L101/00 ,  C08K3/32 ,  C08L23/00 ,  C09K21/12

Abstract: 提供：不用担心对加工机的腐蚀、且可以用作能够对合成树脂赋予优异的阻燃性和耐候性的阻燃剂的磷酸胺盐组合物、磷酸胺盐阻燃剂组合物、含有其的阻燃性合成树脂组合物及其成型体。是含有1种以上的磷酸胺盐的磷酸胺盐组合物，铵阳离子的含量为100～2000质量ppm，磷酸胺盐组合物中优选三聚氰胺、哌嗪。

公开(公告)号：CN112004959A

公开(公告)日：2020-11-27

申请号：CN201980027076.4

申请日：2019-04-08

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 远津正挥 ,  武田圭介 ,  西田章浩

IPC: C23C16/40 ,  C07F3/02 ,  C23C16/455 ,  H01L21/316

Abstract: 本发明使用含有下述通式(1)所示的镁化合物的原子层沉积法用薄膜形成用原料，在基体的表面生产率良好地制造含有镁原子的薄膜。(式中，R1表示异丙基、仲丁基或叔丁基。)

公开(公告)号：CN112004800A

公开(公告)日：2020-11-27

申请号：CN201980027228.0

申请日：2019-06-27

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 竹内良智 ,  三原大树 ,  佐藤直美 ,  松川和司

IPC: C07D209/14 ,  C07D209/86 ,  C07D295/10 ,  C07D335/12 ,  G02B5/20 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

Abstract: 提供作为聚合性组合物中使用的光聚合引发剂有用的肟酯化合物和含有其的光聚合引发剂。一种化合物，其在同一分子内具有下述通式(I)所示的基团、和不具有肟酯基的光自由基裂解性基团，通式(I)中，R1和R2各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基等，R1和R2所示的基团中的氢原子的1个或2个以上任选被卤素原子、硝基、氰基等所取代，R1和R2所示的基团中的亚甲基的1个或2个以上在氧不相邻的条件下任选被‑O‑、‑CO‑、‑COO‑、‑OCO‑、‑NR3‑等所取代，R3表示氢原子、碳原子数1～20的烃基，n表示0或1，*表示原子键。