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公开(公告)号：CN104926748A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510043403.9
申请日：2015-01-28
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D263/57 , C07D235/18 , C07C251/24 , C07C233/80 , G03F7/00
CPC classification number: C09D7/63 , C07C233/80 , C07C251/24 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/50 , C09D5/006 , G03F7/0752 , G03F7/094
Abstract: 本发明提供一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、一种包含所述单体的硬掩模组合物以及一种使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。[化学式1]A、B、B'、L、L'、X以及X'与具体实施方式中所定义的相同。基于此，本发明提供的单体具有改良的耐热性和抗蚀刻性。
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公开(公告)号：CN118672059A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410311786.2
申请日：2024-03-19
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/308 , H01L21/311
Abstract: 公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用包含所述硬掩模组合物的固化产物的所述硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：由以下化学式1表示的化合物；以及溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN108291013B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201680070703.9
申请日：2016-10-19
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。
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公开(公告)号：CN106084159B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201610183382.5
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明是关于一种聚合物、有机层组合物以及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的第一部分和包含经取代或未经取代的C6至C60环基、经取代或未经取代的C6至C60杂环基或其组合的第二部分。本发明的聚合物具有良好的溶解度特征以及极好的耐蚀刻性。[化学式1]
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公开(公告)号：CN109478015A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201680087729.4
申请日：2016-10-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/033 , H01L21/027 , H01L21/324 , H01L21/02 , C08L65/00
Abstract: 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN104926748B
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201510043403.9
申请日：2015-01-28
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D263/57 , C07D235/18 , C07C251/24 , C07C233/80 , G03F7/00
CPC classification number: C09D7/63 , C07C233/80 , C07C251/24 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/50 , C09D5/006 , G03F7/0752 , G03F7/094
Abstract: 本发明提供一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、一种包含所述单体的硬掩模组合物以及一种使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。[化学式1]A、B、B'、L、L'、X以及X'与具体实施方式中所定义的相同。基于此，本发明提供的单体具有改良的耐热性和抗蚀刻性。
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公开(公告)号：CN106610567A
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN106243326A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610393116.5
申请日：2016-06-06
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: G03F7/091 , C08G10/00 , C08G12/00 , C08G16/00 , C08G61/122 , C08G61/124 , C08G61/125 , C08G61/126 , C08G2261/12 , C08G2261/3142 , C08G2261/3241 , C08G2261/3243 , C08G2261/3245 , C08G2261/3246 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C09D161/00 , C09D161/18 , C09D161/20 , C09D165/00 , G03F7/0752 , G03F7/094 , C08G61/123 , C08G2261/314 , C08G2261/354 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1] 所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN105093834A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510136947.X
申请日：2015-03-26
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩膜组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]*—A—B—*在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。
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公开(公告)号：CN119310795A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410883200.X
申请日：2024-07-03
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , G03F1/00 , H01L21/311 , H01L21/3213 , H01L21/308
Abstract: 一种硬掩模组合物、由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层以及使用由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层来形成一个或多个图案的方法，所述硬掩模组合物包含：包括由化学式1表示的结构单元的聚合物；以及溶剂。[化学式1]#imgabs0#
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