公开(公告)号：CN106188504A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510409508.1

申请日：2015-07-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金昇炫 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  南宫烂 ,  文秀贤 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08G65/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。

公开(公告)号：CN104926748A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510043403.9

申请日：2015-01-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金惠廷 ,  金瑆焕 ,  南沇希 ,  金润俊 ,  文俊怜 ,  宋炫知 ,  尹龙云 ,  李忠宪

IPC: C07D263/57 ,  C07D235/18 ,  C07C251/24 ,  C07C233/80 ,  G03F7/00

CPC classification number: C09D7/63 ,  C07C233/80 ,  C07C251/24 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/50 ,  C09D5/006 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094

Abstract: 本发明提供一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、一种包含所述单体的硬掩模组合物以及一种使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。[化学式1]A、B、B'、L、L'、X以及X'与具体实施方式中所定义的相同。基于此，本发明提供的单体具有改良的耐热性和抗蚀刻性。

公开(公告)号：CN116909094A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202310241736.7

申请日：2023-03-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金泰水 ,  朴秀彬 ,  金瑆焕 ,  李贞和 ,  姜希炅 ,  朴白晟

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的感光性树脂层、包含感光性树脂层的彩色滤光器和CMOS图像传感器、包含彩色滤光器的显示装置以及包含CMOS图像传感器的相机，感光性树脂组合物包含(A)粘合剂树脂、(B)光可聚合单体、(C)光聚合起始剂、(D)着色剂以及(E)溶剂，其中着色剂包含涂布有染料的有机颜料，且染料包含化学式1到化学式5中的至少一个作为官能团。(在化学式1到化学式5中，每一取代基如说明书中所定义。)[化学式1]#imgabs0# [化学式2]#imgabs1# [化学式3]#imgabs2# [化学式4]#imgabs3# [化学式5]#imgabs4#

公开(公告)号：CN115202153A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210290756.9

申请日：2022-03-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金瑆焕 ,  朴裕信 ,  梁善暎 ,  兪龙植

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 提供一种包含聚合物的硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，聚合物包含由化学式1表示的结构单元和溶剂。在化学式1中，A到C如说明书中所描述。[化学式1]。

公开(公告)号：CN109478015B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201680087729.4

申请日：2016-10-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  姜善惠 ,  金瑆焕 ,  郑瑟基 ,  金旼秀 ,  文秀贤

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/033 ,  H01L21/027 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  C08L65/00

Abstract: 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基及腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。本发明因包含预定聚合物及预定添加剂而在以旋涂方法进行涂布的同时具有提高的耐蚀刻性的有机层组成物。由有机层组成物制造的有机层具有提高的膜密度及膜平坦度。

公开(公告)号：CN111383912A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201911354471.1

申请日：2019-12-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴亨锡 ,  金瑆焕 ,  郑铉日

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A和B的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]。

公开(公告)号：CN111352300A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1] 在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN110734528A

公开(公告)日：2020-01-31

申请号：CN201910644580.0

申请日：2019-07-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金瑆焕 ,  朴裕信 ,  郑铉日

IPC: C08G8/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16

Abstract: 本申请公开一种包含由化学式1表示的第一化合物与由化学式2表示的第二化合物的反应产物的聚合物、包含聚合物的有机层组合物以及使用有机层组合物形成图案的方法。根据本发明的有机膜组合物在通过旋涂方法施加时可具有改进的平坦化特征和间隙填充特征，同时确保耐蚀刻性。[化学式1](CHO)n1-Ar1-X-Ar2-(CHO)n2[化学式2]Ar3-(OH)m化学式1及化学式2的定义与在说明书中的描述相同。

公开(公告)号：CN110713588A

公开(公告)日：2020-01-21

申请号：CN201910618657.7

申请日：2019-07-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  梁善暎 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信

IPC: C08G61/10 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物及溶剂，所述聚合物包括经取代的亚联苯基结构单元，其中所述经取代的亚联苯基结构单元包括具有羟基的C6到C30芳基以及具有羟基的C3到C30杂芳基中的至少一者。

公开(公告)号：CN105622364B

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201510725055.3

申请日：2015-10-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑瑟基 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C07C43/23 ,  C07C49/84 ,  C08G61/12 ,  C08G61/04 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/362 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/72 ,  C09D165/00

Abstract: 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。