耐蚀永磁体及其制备方法

    公开(公告)号:CN1231756A

    公开(公告)日:1999-10-13

    申请号:CN97198134.5

    申请日:1997-07-25

    CPC classification number: H01F41/026 Y10T428/12743

    Abstract: 一种即使在磁体经过盐水喷刷耐久实验时其初始磁性能也难以降低并且具有稳定的磁学性能、稳定的高耐磨性和稳定的耐腐蚀性的R-Fe-B永磁体以及制造该磁体的方法。在通过例如离子溅射法清洗该永磁体的表面以后,通过在N2中离子镀等薄膜形成方法在磁体表面上形成Al膜作为中间层,在该中间层的表面形成AIN、TiN、或Ti1-xAlxN膜,通过在N2中的离子反应镀等薄膜形成方法形成Ti1-xAlxN膜。由于作为中间层形成的Al膜的用作永磁体和基础Ti涂层的消耗薄膜,明显改善了Ti膜与磁体和Al膜的结合性。

    用于超高真空的永磁体及其制造方法

    公开(公告)号:CN1176016A

    公开(公告)日:1998-03-11

    申请号:CN96192129.3

    申请日:1996-12-20

    Abstract: 为了提供可用于超高真空气氛的永磁体,所述磁体可用于要求低于1×10-9Pa的超高真空气氛的波动器,具有优异的磁性能,并涂敷致密的附着膜,避免产生气体或者排出气体;利用以下顺序的工艺在R-Fe-B系永磁体表面涂敷各种膜,亦即,(1)利用离子溅射法清洁磁体表面区域,(2)通过薄膜形成技术例如离子镀法形成Ti下涂层,(3)利用薄膜形成技术例如离子镀法,在氩气和氮气的混合气体中,形成具有朝向Ti涂敷层缓慢增大的氮浓度的氮扩散层(TiNx,x=0~1);或者利用离子镀法在Ti涂敷层上形成Al涂敷层;或者利用离子反应技术,在N2气氛中在所述Al涂敷层上形成AlN涂敷膜;或者在含N2气氛中提供离子反应镀法,在Al涂敷层上形成复合化合物Ti1-xAlxN。

    制造高耐蚀性的R-Fe-B粘结磁体的方法

    公开(公告)号:CN1148764C

    公开(公告)日:2004-05-05

    申请号:CN98810776.7

    申请日:1998-10-19

    CPC classification number: B24B31/14 H01F41/026

    Abstract: 一种制造能够在R-Fe-B粘结磁体上用非常高的粘结强度均匀形成各种耐蚀膜以获得能防止粘结磁体即使是在长时间的高温高潮湿性测试中不被锈蚀的非常高的耐蚀性的R-Fe-B粘结磁体的方法,包括应用通过烧结Al2O3,SiC,ZrO或MgO形成的磨石或金属研磨球与诸如植物果皮屑、锯屑、水果核和玉米芯的植物介质的混合物作为介质,或者利用其表面已经被上述研磨剂修整的植物介质与上述无机研磨体组成的混合物作为介质以干式方法滚筒抛光多孔的R-Fe-B粘结磁体,从而磁体表面可被平滑化和密封处理;或者把磁体材料浸没在中性或碱性溶液中使得在其上形成非电解的镀层,或使磁性材料进行电镀而使得在其上形成一层具有非常高的粘结强度和尺寸准确度的膜,从而可获得高尺寸准确度和高的耐蚀性的目标R-Fe-B粘结磁体。

    耐腐蚀性永磁体及其制造方法

    公开(公告)号:CN1272212A

    公开(公告)日:2000-11-01

    申请号:CN99800747.1

    申请日:1999-04-13

    CPC classification number: H01F41/026 Y10T428/12056

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种Fe-B-R永磁体,通过设置与Fe-B-R永磁体的粘附性优异并且改善了耐磨性和耐腐蚀性的涂敷膜,使永磁体呈现稳定的高磁性能、耐磨性、电绝缘性能、和耐腐蚀性,当长时间暴露于80℃温度和90%相对湿度的大气条件下,从初始磁性能的退化最小。通过离子溅射等清洁永磁体表面之后,通过汽相成膜法例如离子镀在磁体表面形成Al或Ti涂敷膜,然后通过汽相成膜法例如离子镀,同时引入单一O2气体或者含O2稀有气体,形成氧化铝涂敷膜。由此,显著地改善了与涂敷膜的粘附性,实现了突出的耐腐蚀性能。于是,由于耐腐蚀性金属涂敷膜带来的耐腐蚀性、耐磨性和电绝缘性能,所以获得了呈现稳定磁性能的Fe-B-R永磁体。

    稀土金属基永磁体及其生产工艺

    公开(公告)号:CN1267892A

    公开(公告)日:2000-09-27

    申请号:CN00106723.0

    申请日:2000-01-27

    CPC classification number: H01F41/026

    Abstract: 一种具有薄膜层的稀土金属基永磁体,该薄膜层基本上仅由在形成磁体表面的金属上的细金属粉末构成。其表面具有薄膜层的稀土金属基永磁体是通过下面方法制备的:将稀土金属基永磁体和细金属粉末生产材料放入处理容器中,并在处理容器中将它们振动和/或搅拌,从而在形成磁体表面的金属上形成由细金属粉末生产材料形成的细金属粉末组成的薄膜层。这样,不必通过使用第三组分如树脂和偶合剂,就能在磁体的整个表面上均匀牢固地形成一导电层,从而形成如电镀膜这样的抗腐蚀膜,并且其厚度能达到较高的精度。

    稀土金属永磁体及其生产方法

    公开(公告)号:CN1259754A

    公开(公告)日:2000-07-12

    申请号:CN99124967.4

    申请日:1999-12-17

    CPC classification number: H01F41/026 Y10S428/90 Y10T428/12465

    Abstract: 一种稀土金属永磁体含有一种金属氧化膜,该氧化膜是通过涂覆溶胶凝胶的方法在该表面上形成的。该稀土金属永磁体是通过涂覆溶胶凝胶的方法在磁体的表面上形成金属氧化膜而生产的。该氧化膜薄并且致密。该氧化膜附着到磁体表面的附着力较强。该氧化膜具有极好的耐腐蚀性。金属氧化膜的典型实施例有Al、Si、Ti和Zr氧化膜。在该金属氧化膜和该磁体的整个表面之间形成一种界面层,该界面层具有通过氧原子与形成膜的金属原子化学键合的R(稀土元素)原子。

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