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公开(公告)号：CN1162871C
公开(公告)日：2004-08-18
申请号：CN99118337.1
申请日：1999-08-31
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , Y10T428/12465 , Y10T428/12611
Abstract: 一种Fe-B-R基永磁体，其表面上具有0.01μm-1μm厚的金属氧化物膜，其间夹有金属膜。于是，该膜与磁体表面的粘附性是优异的。即使永磁体长时间处于80℃的温度和90%的相对湿度的高温和高温条件下，磁体的磁性能也不会劣化。该磁体具有即使在-40℃～85℃的温度范围经受长时间的热循环也足以承受的耐热冲击性并具有高的磁性能。因此，可以制造具有耐腐蚀性膜并且不含六价铬的Fe-B-R基永磁体。
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公开(公告)号：CN1514889A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN02809730.0
申请日：2002-04-26
Applicant: 住友特殊金属株式会社
IPC: C23C18/38
CPC classification number: C25D5/34 , C23C18/38 , C25D3/38 , H01F41/026
Abstract: 一种含有0.03－0.5摩尔/升的硫酸铜，0.05－0.7摩尔/升的乙二胺四乙酸和0.02－0.3摩尔/升的亚硫酸盐，并且pH值被调整至5.0－8.5的铜镀液；以及一种包括使用所述铜镀液的镀铜方法。所述镀铜方法能够在待镀覆工件表面上稳定地形成均匀且结合性能优异的铜镀膜。
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公开(公告)号：CN1138285C
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：CN97198134.5
申请日：1997-07-25
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , Y10T428/12743
Abstract: 一种即使在磁体经过盐水喷刷耐久实验时其初始磁性能也难以降低并且具有稳定的磁学性能、稳定的高耐磨性和稳定的耐腐蚀性的R-Fe-B永磁体以及制造该磁体的方法。在通过例如离子溅射法清洗该永磁体的表面以后，通过在N2中离子镀等薄膜形成方法在磁体表面上形成Al膜作为中间层，在该中间层的表面形成AlN、TiN、或Ti1-xAlxN膜，通过在N2中的离子反应镀等薄膜形成方法形成Ti1-xAlxN膜。由于作为中间层形成的Al膜的用作永磁体和基础Ti涂层的消耗薄膜，明显改善了Ti膜与磁体和Al膜的结合性。
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公开(公告)号：CN1290771A
公开(公告)日：2001-04-11
申请号：CN00119918.8
申请日：2000-06-30
Applicant: 住友特殊金属株式会社
IPC: C25D7/04
CPC classification number: H01F41/026 , C25D7/04 , C25D17/12 , Y10T29/49075
Abstract: 本发明提供一种电镀装置,包括:插入并放置在工件上的与外部连通的孔中的阳极、以及驱动工件绕其中心轴旋转并向工件提供电镀电流的部件。利用该装置,可以在以环型粘合磁铁为代表的、具有与外部连通的孔的工件的内表面和外表面上都形成均匀的电镀膜。
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公开(公告)号：CN1273426A
公开(公告)日：2000-11-15
申请号：CN00118153.X
申请日：2000-04-26
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: C23C24/045 , H01F41/026 , Y10S428/90 , Y10T428/12049
Abstract: 提供具有优异封闭效果的封闭模制产品孔隙的工艺,及所制得的粘结磁体。把其表面存在孔隙的模制产品、无机粉末、脂肪和油以及介质放入处理容器,或把其表面存在孔隙的模制产品和无机粉末生成材料放入处理容器,向处理容器内的物料施加动能,从而强迫所述无机粉末或由所述无机粉末生成材料产生的无机粉末进入孔隙并将其固化于孔隙内。本发明工艺能够按干法对模制产品的孔隙进行选择地和简便封闭,呈现优异孔隙封闭效果。在后续步骤中可在模制产品表面上形成具有优异的尺寸精确度的耐蚀膜例如电镀膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1231756A
公开(公告)日：1999-10-13
申请号：CN97198134.5
申请日：1997-07-25
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , Y10T428/12743
Abstract: 一种即使在磁体经过盐水喷刷耐久实验时其初始磁性能也难以降低并且具有稳定的磁学性能、稳定的高耐磨性和稳定的耐腐蚀性的R－Fe－B永磁体以及制造该磁体的方法。在通过例如离子溅射法清洗该永磁体的表面以后,通过在N2中离子镀等薄膜形成方法在磁体表面上形成Al膜作为中间层,在该中间层的表面形成AIN、TiN、或Ti1-xAlxN膜,通过在N2中的离子反应镀等薄膜形成方法形成Ti1-xAlxN膜。由于作为中间层形成的Al膜的用作永磁体和基础Ti涂层的消耗薄膜,明显改善了Ti膜与磁体和Al膜的结合性。
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公开(公告)号：CN1176016A
公开(公告)日：1998-03-11
申请号：CN96192129.3
申请日：1996-12-20
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H05H7/04 , H01F41/026 , Y10T428/12743 , Y10T428/12806 , Y10T428/12951 , Y10T428/26
Abstract: 为了提供可用于超高真空气氛的永磁体,所述磁体可用于要求低于1×10－9Pa的超高真空气氛的波动器,具有优异的磁性能,并涂敷致密的附着膜,避免产生气体或者排出气体;利用以下顺序的工艺在R－Fe－B系永磁体表面涂敷各种膜,亦即,(1)利用离子溅射法清洁磁体表面区域,(2)通过薄膜形成技术例如离子镀法形成Ti下涂层,(3)利用薄膜形成技术例如离子镀法,在氩气和氮气的混合气体中,形成具有朝向Ti涂敷层缓慢增大的氮浓度的氮扩散层(TiNx,x=0～1);或者利用离子镀法在Ti涂敷层上形成Al涂敷层;或者利用离子反应技术,在N2气氛中在所述Al涂敷层上形成AlN涂敷膜;或者在含N2气氛中提供离子反应镀法,在Al涂敷层上形成复合化合物Ti1－xAlxN。
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公开(公告)号：CN1142561C
公开(公告)日：2004-03-17
申请号：CN99800747.1
申请日：1999-04-13
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , Y10T428/12056
Abstract: 本发明的目的在于提供一种Fe-B-R永磁体，通过设置与Fe-B-R永磁体的粘附性优异并且改善了耐磨性和耐腐蚀性的涂敷膜，使永磁体呈现稳定的高磁性能、耐磨性、电绝缘性能、和耐腐蚀性，当长时间暴露于80℃温度和90%相对湿度的大气条件下，从初始磁性能的退化最小。通过离子溅射等清洁永磁体表面之后，通过汽相成膜法例如离子镀在磁体表面形成Al或Ti涂敷膜，然后通过汽相成膜法例如离子镀，同时引入单一O2气体或者含O2稀有气体，形成氧化铝涂敷膜。由此，显著地改善了与涂敷膜的粘附性，实现了突出的耐腐蚀性能。于是，由于耐腐蚀性金属涂敷膜带来的耐腐蚀性、耐磨性和电绝缘性能，所以获得了呈现稳定磁性能的Fe-B-R永磁体。
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公开(公告)号：CN1123019C
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：CN00106880.6
申请日：2000-02-25
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , C23C10/02 , C23C10/34 , Y10T428/12063 , Y10T428/12465
Abstract: 将具有连接外表面孔洞的空心部件和产生细金属粉末的材料放入处理容器中，在处理容器中，将产生细金属粉末的材料流态接触所说的部件表面，从而使由产生细金属粉末的材料产生的细金属粉末粘结在空心部件的表面上。该空心部件可以是环形粘结磁体。这样，通过不使用第三组份如树脂和粘结剂而给磁体整个表面(即不仅在外表面(包括端面)而且在磁体的内表面)提供导电性，并将磁体进行电镀处理，从而形成具有很好抗腐蚀性的薄膜。
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公开(公告)号：CN1091537C
公开(公告)日：2002-09-25
申请号：CN96192129.3
申请日：1996-12-20
Applicant: 住友特殊金属株式会社
CPC classification number: H05H7/04 , H01F41/026 , Y10T428/12743 , Y10T428/12806 , Y10T428/12951 , Y10T428/26
Abstract: 为了提供可用于超高真空气氛的永磁体，所述磁体可用于要求低于1×10-9Pa的超高真空气氛的波动器，具有优异的磁性能，并涂敷致密的附着膜，避免产生气体或者排出气体；利用以下顺序的工艺在R-Fe-B系永磁体表面涂敷各种膜，亦即，(1)利用离子溅射法清洁磁体表面区域，(2)通过薄膜形成技术例如离子镀法形成Ti下涂层，(3)利用薄膜形成技术例如离子镀法，在氩气和氮气的混合气体中，形成具有朝向Ti涂敷层缓慢增大的氮浓度的氮扩散层(TiNx，x＝0～1)；或者利用离子镀法在Ti涂敷层上形成Al涂敷层；或者利用离子反应技术，在N2气氛中在所述Al涂敷层上形成AlN涂敷膜；或者在含N2气氛中提供离子反应镀法，在Al涂敷层上形成复合化合物Ti1-xAlxN。
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